【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于材料，具体是一种用于偏光片的耐高温光学薄膜材料及其制备方法。
技术介绍
1、偏光片全称为偏振光片，可控制特定光束的偏振方向。自然光在通过偏光片时，振动方向与偏光片透过轴垂直的光将被吸收，透过光只剩下振动方向与偏光片透过轴平行的偏振光。偏光片主要由pva（聚乙烯醇）膜、tac（三醋酸纤维素）膜、保护膜、离型膜和压敏胶等复合制成。
2、随着电子与显示技术向着高集成化、高密度化和超薄化方向的不断发展，能够在高温环境下保持稳定的偏光效果，用于高温工业环境、炽热光源等场合，具有耐高温特性的偏光膜片得到越来越多的应用；聚对苯二甲酸乙二醇酯聚合物经双向拉伸制成聚对苯二甲酸乙二醇酯pet薄膜，由于其具有优异的机械性能、化学稳定性、耐候性，并且满足高透光率、低雾度、高亮度的光学特性，因此常与如pva和tac结合使用，以形成用于偏振应用的多层光学膜结构。pet薄膜在一定的温度范围内稳定性能良好，但在高温条件下可能会出现软化、变形或降解的情况，因此通过对其改性，制备一种耐高温的光学薄膜材料，从而适应更多的应用场景具有重要的意义。
技术实现思路
1、为解决上述问题，本专利技术的目的是提供一种用于偏光片的耐高温光学薄膜材料及其制备方法。
2、本专利技术为实现上述目的，通过以下技术方案实现：
3、一种用于偏光片的耐高温光学薄膜材料，其结构式如下：
4、 。
5、制备所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的方法，包括以下步骤：
7、2）将步骤1）制备的端胺基对苯二甲酸二甲酯衍生物与丙基异氰酸酯加入有机溶剂2中，搅拌溶解后，再加入二月桂酸二丁基锡，在25~40℃下搅拌反应8~12h，反应完成后，减压蒸馏去除溶剂，所得残留物用去离子水洗涤2~3次后，加入醇类有机溶剂中，溶解后，再向其中加入碱，30~80℃下反应12~24h，反应结束后，减压蒸馏去除溶剂，残渣用去离子水洗涤2~3次，干燥，得到对苯二甲酸衍生物；
8、3）将步骤2）制备的对苯二甲酸衍生物和乙二醇加入有机溶剂3中，再加入4-二甲氨基吡啶和1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳酰二亚胺，25~40℃下反应12~24h，反应完成后，抽滤，所得滤饼用去离子水洗涤2~3次，干燥，得到用于偏光片的耐高温光学薄膜材料。
9、步骤1）中所述有机溶剂1为四氢呋喃、乙腈或丙酮。
10、步骤1）中所述2-羟基对苯二甲酸二甲酯、2-羟基乙胺、有机溶剂1、三苯基膦和偶氮二羧酸二异丙酯的质量比为1：0.3~0.5：5~10：1.2~1.8：1~1.5。
11、步骤2）中所述有机溶剂2为二氯甲烷、氯仿、丙酮、四氢呋喃或乙醚。
12、步骤2）中所述醇类有机溶剂为甲醇、乙醇或异丙醇。
13、步骤2）中所述碱为氢氧化钾或氢氧化钠。
14、步骤2）中所述端胺基对苯二甲酸二甲酯衍生物、丙基异氰酸酯、有机溶剂2、二月桂酸二丁基锡、醇类有机溶剂和碱的质量比为1：0.35~0.5：5~10：0.02~0.1：5~10：0.3~0.8。
15、步骤3）中所述有机溶剂3为丙酮、乙腈、四氢呋喃、苯或甲苯。
16、步骤3）中所述对苯二甲酸衍生物、乙二醇、有机溶剂3、4-二甲氨基吡啶和1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳酰二亚胺的质量比为1：0.2~0.3：5~10：0.04~0.4：0.5~1.5。
17、本专利技术相比现有技术具有以下优点：
18、本专利技术的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料，通过对聚对苯二甲酸乙二醇酯进行改性，在其侧链引入柔性的脲基团侧链，作为强氢键供受体分子片段，制备得到用于偏光片的耐高温光学薄膜材料；经改性后的聚对苯二甲酸乙二醇酯，不同分子主链的柔性脲基团侧链可以相互吸引靠近，从而形成氢键网络，这种强非共价相互作用的存在有效增大了聚合物的玻璃化转变温度，增强了材料的耐高温性能。
19、本专利技术的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料，能够满足高透光率和低雾度，同时柔韧性强，具有优异的化学稳定性和耐高温性能，能够作为制造偏光片的光学薄膜材料。
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1.一种用于偏光片的耐高温光学薄膜材料，其特征在于：其结构式如下：
2.制备权利要求1所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的方法，其特征在于：包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述有机溶剂1为四氢呋喃、乙腈或丙酮。
4.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述2-羟基对苯二甲酸二甲酯、2-羟基乙胺、有机溶剂1、三苯基膦和偶氮二羧酸二异丙酯的质量比为1：0.3~0.5：5~10：1.2~1.8：1~1.5。
5.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述有机溶剂2为二氯甲烷、氯仿、丙酮、四氢呋喃或乙醚。
6.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述醇类有机溶剂为甲醇、乙醇或异丙醇。
7.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述碱为氢氧化钾或氢氧化钠。
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9.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤3）中所述有机溶剂3为丙酮、乙腈、四氢呋喃、苯或甲苯。
10.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤3）中所述对苯二甲酸衍生物、乙二醇、有机溶剂3、4-二甲氨基吡啶和1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳酰二亚胺的质量比为1：0.2~0.3：5~10：0.04~0.4：0.5~1.5。
...【技术特征摘要】
1.一种用于偏光片的耐高温光学薄膜材料，其特征在于：其结构式如下：
2.制备权利要求1所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的方法，其特征在于：包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述有机溶剂1为四氢呋喃、乙腈或丙酮。
4.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述2-羟基对苯二甲酸二甲酯、2-羟基乙胺、有机溶剂1、三苯基膦和偶氮二羧酸二异丙酯的质量比为1：0.3~0.5：5~10：1.2~1.8：1~1.5。
5.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述有机溶剂2为二氯甲烷、氯仿、丙酮、四氢呋喃或乙醚。
6.如权利要求2所述的用于偏光片的耐高温光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：步骤2）中所述醇类有机溶剂为甲醇、乙醇或...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫新建，宫瑞阳，陈永伟，李霞，王硕，李纯福，
申请(专利权)人：潍坊恒彩数码影像材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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