【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种量子点结构(1)，包括：
2.根据权利要求1所述的量子点结构(1)，其中所述官能团能够通过缩合和水解反应进行反应。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述至少一个封装层(12)包含封装材料，以及所述官能团化学键合至所述封装材料。
4.根据权利要求3所述的量子点结构(1)，其中所述封装材料选自金属氧化物的组，所述组由二氧化硅(SiOx)、钛氧化物(TiOx)、锆氧化物(ZrOx)、氧化铝(AlOx)、镁氧化物(MgOx)和氧化铪(HfOx)组成。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述官能团包含第一官能团和第二官能团，并且第一官能团和第二官能团的对选自胺基和羧基、硫脲基和羟基、羟基和羧基、以及羧基和羟基。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述官能团选自以下的组：α-羟基醛基、β-羟基醛基、α-羟基酮基、β-羟基酮基及其混合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的量子点结构(1)，包括复数个封装层(12)，其中每两个封装层(12)
8.根据权利要求1至7中任一项所述的量子点结构(1)，还包括在所述至少一个封装层(12)上的密封层(13)，所述密封层(13)包括孔径受控玻璃。
9.根据权利要求8所述的量子点结构(1)，其中所述孔径受控玻璃包含二氧化硅纳米粉末。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的量子点结构(1)，还包括在所述至少一个封装层(12)上的阻挡层(14)，所述阻挡层(14)包含由以下物质组成的组中的金属氧化物：二氧化硅(SiOx)、钛氧化物(TiOx)、锆氧化物(ZrOx)、氧化铝(AlOx)、镁氧化物(MgOx)和氧化铪(HfOx)。
11.根据权利要求10所述的量子点结构(1)，其中所述阻挡层(14)的厚度在最厚至50nm的范围内，包括端值。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述纳米晶壳(6)和/或所述纳米晶核(5)的表面上的水分含量由所述至少一个封装层(12)控制。
13.一种用于生产量子点结构(1)的方法，包括：
14.根据权利要求13所述的方法，其中形成所述至少一个封装层(12)通过溶胶-凝胶法进行。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述溶胶-凝胶法选自反胶束溶胶-凝胶法和Stober法。
16.根据权利要求13至15中任一项所述的方法，其中形成所述至少一个封装层(12)包括施加封装材料的前体以及随后施加官能化的封装材料的前体。
17.根据权利要求16所述的方法，其中在形成所述至少一个封装层(12)之后，用碱或酸处理所述至少一个封装层(12)的背离所述纳米晶壳(6)的表面，以及/或者从所述至少一个封装层(12)的所述表面除去残留的前体和反应副产物。
18.根据权利要求17所述的方法，还包括在所述至少一个封装层(12)的背离所述纳米晶壳(6)的表面上形成至少一个另外的封装层(12)。
19.根据权利要求16至18中任一项所述的方法，其中所述封装材料的前体选自：原硅酸四甲酯、原硅酸四乙酯、异丙醇钛、丁醇钛、异丙醇铝、三仲丁醇铝、叔丁醇铝、丙醇锆、丁醇锆、四异丙醇铪、正丁醇铪、氯化镁六水合物及其混合物，
20.一种发光器件(100)，包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种量子点结构(1)，包括：
2.根据权利要求1所述的量子点结构(1)，其中所述官能团能够通过缩合和水解反应进行反应。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述至少一个封装层(12)包含封装材料，以及所述官能团化学键合至所述封装材料。
4.根据权利要求3所述的量子点结构(1)，其中所述封装材料选自金属氧化物的组，所述组由二氧化硅(siox)、钛氧化物(tiox)、锆氧化物(zrox)、氧化铝(alox)、镁氧化物(mgox)和氧化铪(hfox)组成。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述官能团包含第一官能团和第二官能团，并且第一官能团和第二官能团的对选自胺基和羧基、硫脲基和羟基、羟基和羧基、以及羧基和羟基。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的量子点结构(1)，其中所述官能团选自以下的组：α-羟基醛基、β-羟基醛基、α-羟基酮基、β-羟基酮基及其混合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的量子点结构(1)，包括复数个封装层(12)，其中每两个封装层(12)被所述官能团分隔开。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的量子点结构(1)，还包括在所述至少一个封装层(12)上的密封层(13)，所述密封层(13)包括孔径受控玻璃。
9.根据权利要求8所述的量子点结构(1)，其中所述孔径受控玻璃包含二氧化硅纳米粉末。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的量子点结构(1)，还包括在所述至少一个封装层(12)上的阻挡层(14)，所述阻挡层(14)包含由以下物质组成的组中的金属氧化物：二氧化硅(siox)、钛氧化物(t...
【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·陈，布莱恩·西奥博尔德，约瑟夫·特雷德韦，
申请(专利权)人：艾迈斯欧司朗国际有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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