一种用于抛光设备的真空排水装置制造方法及图纸

本技术提供了一种用于抛光设备的真空排水装置，属于抛光设备技术领域。真空排水装置包括储液罐，以及安装于储液罐的负压气源管、正压气源管、进液管和排液管，负压气源管、正压气源管、进液管以及排液管均与储液罐的罐内空间连通，排液管设置在储液罐的底端，负压气源管和进液管均靠近储液罐的顶端设置；负压气源管用于连接抽真空设备，负压气源管连接有第一阀门，正压气源管用于连接正压气源，正压气源管连接有第二阀门，排液管连接有第三阀门。本技术中，通过控制负压气源管、进液管以及排液管的位置，使得进入到储液罐中的液体能够顺利排出。并设置有用于连接正压气源的正压气源管，使得位于储液罐底端的液体能够快速排出。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于抛光设备，具体涉及一种用于抛光设备的真空排水装置。

技术介绍

1、相关技术中，抛光台上方设置有磨盘，抛光台内部设置有负压通道，负压通道连接有抽真空设备。在对手机背板进行抛光处理的过程中，首先需要将手机背板放置于抛光台表面，抽真空设备通过负压通道对手机背板进行吸附，将手机背板固定于抛光台；并朝着抛光台表面注入抛光液，利用磨盘配合抛光液对手机背板进行抛光打磨。

2、然而在手机背板的抛光过程中，部分抛光液以及部分抛光产生的杂质会由于抽真空设备的吸附进入到抽真空设备中，对抽真空设备造成损伤，影响抽真空设备的正常使用。

3、有鉴于此，提出了本申请。

技术实现思路

1、本申请的目的是提供一种用于抛光设备的真空排水装置，解决现有技术中存在的上述技术问题。

2、本申请是这样实现的：

3、本申请提供了一种用于抛光设备的真空排水装置，包括储液罐，以及安装于储液罐的负压气源管、正压气源管、进液管和排液管，负压气源管、正压气源管、进液管以及排液管均与储液罐的罐内空间连通，排液管设置在储液罐的底端，负压气源管和进液管均靠近储液罐的顶端设置；负压气源管用于连接抽真空设备，负压气源管连接有第一阀门，正压气源管用于连接正压气源，正压气源管连接有第二阀门，排液管连接有第三阀门。

4、本申请采用的技术方案能够达到以下有益效果：

5、本技术中，通过在储液罐上设置负压气源管和进液管，利用抽真空设备将待处理液体通过进液管吸收至储液罐中，液体进入储液罐后在重力作用下落入至储液罐的底端，液体中裹挟的杂质也随之落入在储液罐的底端，避免液体和杂质进入到抽真空设备中，对抽真空设备造成损伤；并且由于进液管和负压气源管均靠近储液罐的顶端设置，堆积在储液罐底端的液体不会影响到进液管的进液流程，同时，负压气源管对堆积在储液罐底端的液体的吸附作用较小，液体上方的气体流速小，液体的蒸发量相应减小；另外，还设置有用于连接正压气源的正压气源管，对储液罐进行加压，以使得位于储液罐底端的液体能够快速排出。

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【技术保护点】

1.一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，包括储液罐(100)，以及安装于所述储液罐(100)的负压气源管(200)、正压气源管(300)、进液管(400)和排液管(500)，

2.根据权利要求1所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，包括储液罐(100)，以及安装于所述储液罐(100)的负压气源管(200)、正压气源管(300)、进液管(400)和排液管(500)，

2.根据权利要求1所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的一种用于抛光设备的真空排水装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐梅生，闵聪，
申请(专利权)人：深圳市永霖科技有限公司，
类型：新型
国别省市：