一种薄膜沉积设备制造技术

本技术公开了一种薄膜沉积设备，属于薄膜沉积技术领域，包括覆膜基材以及用于输送覆膜基材的输送带，还包括第一气源、集雾腔、第一管道、第二管道、第二气源，第一气源与集雾腔进口接通，第一管道与集雾腔出口接通，第二管道与第二气源接通，第一管道远离集雾腔的一端延伸至输送带上方且设有喷射口，第二管道远离第二气源的一端延伸至输送带上方且设有吸口，第一气源产生的气体在集雾腔中与雾滴充分混合后，均匀的喷射到匀速运送的覆膜基材表面上，大部分的雾滴会沉积到覆膜基材的表面，气体和少部分被溅射出去的雾滴则被吸口吸走，技术成本低，通用性好，生产效率较高。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于薄膜沉积，尤其是一种薄膜沉积设备。

技术介绍

1、薄膜沉积是通过物理气象沉积、化学气象沉积和原子层沉积等方法在基片上沉积一层微米、纳米级别厚的薄膜。目前常用的太阳能硅片薄膜沉积方法是使用化学气象沉积和旋涂等方法获得的，但是这种技术成本高，通用性差，生产效率较低。

技术实现思路

1、技术目的：提供一种薄膜沉积设备，以解决现有技术存在的上述问题。

2、技术方案：一种薄膜沉积设备，包括覆膜基材以及用于输送覆膜基材的输送带，还包括第一气源、集雾腔、第一管道、第二管道、第二气源，所述第一气源与集雾腔进口接通，所述第一管道与集雾腔出口接通，所述第二管道与第二气源接通，所述第一管道远离集雾腔的一端延伸至输送带上方且设有喷射口，所述第二管道远离第二气源的一端延伸至输送带上方且设有吸口。

3、通过上述技术方案：第一气源产生的气体在集雾腔中与雾滴充分混合后，经过第一管道从喷射口匀速喷出，使气雾均匀的喷射到匀速运送的覆膜基材表面上，大部分的雾滴会沉积到覆膜基材的表面，完成覆膜基材薄膜沉积，同时通过第二气源进行抽气，使得第二管道内部产生负压，此时气体和少部分被溅射出去的雾滴则通过吸口吸走，进行回收再利用，技术成本低，通用性好，生产效率较高。

4、优选的，所述集雾腔内部设有雾化装置。

5、优选的，所述第一管道靠近喷射口处设有第一弯曲部，所述第二管道靠近吸口处设有第二弯曲部，所述第一弯曲部与第二弯曲部的弯曲弧度一致且弯曲方向对向设置。

6、优选的，还包括第一回收箱，所述第一回收箱接通在第二管道与第二气源之间，所述第一回收箱底部接通有第三管道，所述第三管道远离第一回收箱的一端与集雾腔接通。

7、优选的，还包括第二回收箱，所述第二回收箱设置在输送带下方，所述第二回收箱侧面设有第三气源，所述第二回收箱底部接通有第四管道，所述第四管道远离第二回收箱的一端与集雾腔接通。

8、优选的，所述第一回收箱与第二回收箱内部均设有过滤装置。

9、优选的，所述喷射口的气雾流量与吸口的负压流量适配。

10、优选的，所述输送带运送覆膜基材速度与喷射口的气雾流量适配。

11、综上所述，本技术具有以下有益效果：第一气源产生的气体在集雾腔中与雾滴充分混合后，经过第一管道从喷射口匀速喷出，使气雾均匀的喷射到匀速运送的覆膜基材表面上，大部分的雾滴会沉积到覆膜基材的表面，完成覆膜基材薄膜沉积，同时通过第二气源进行抽气，使得第二管道内部产生负压，此时气体和少部分被溅射出去的雾滴则通过吸口吸走，进行回收再利用，技术成本低，通用性好，生产效率较高。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种薄膜沉积设备，包括覆膜基材(12)以及用于输送覆膜基材(12)的输送带(11)，其特征在于，还包括第一气源(1)、集雾腔(2)、第一管道(4)、第二管道(7)、第二气源(10)，所述第一气源(1)与集雾腔(2)进口接通，所述第一管道(4)与集雾腔(2)出口接通，所述第二管道(7)与第二气源(10)接通，所述第一管道(4)远离集雾腔(2)的一端延伸至输送带(11)上方且设有喷射口(6)，所述第二管道(7)远离第二气源(10)的一端延伸至输送带(11)上方且设有吸口(9)。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述集雾腔(2)内部设有雾化装置(3)。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述第一管道(4)靠近喷射口(6)处设有第一弯曲部(5)，所述第二管道(7)靠近吸口(9)处设有第二弯曲部(8)，所述第一弯曲部(5)与第二弯曲部(8)的弯曲弧度一致且弯曲方向对向设置。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，还包括第一回收箱(13)，所述第一回收箱(13)接通在第二管道(7)与第二气源(10)之间，所述第一回收箱(13)底部接通有第三管道(17)，所述第三管道(17)远离第一回收箱(13)的一端与集雾腔(2)接通。

5.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，还包括第二回收箱(14)，所述第二回收箱(14)设置在输送带(11)下方，所述第二回收箱(14)侧面设有第三气源(15)，所述第二回收箱(14)底部接通有第四管道(18)，所述第四管道(18)远离第二回收箱(14)的一端与集雾腔(2)接通。

6.根据权利要求4所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述第一回收箱(13)与第二回收箱(14)内部均设有过滤装置(16)。

7.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述喷射口(6)的气雾流量与吸口(9)的负压流量适配。

8.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述输送带(11)运送覆膜基材(12)速度与喷射口(6)的气雾流量适配。

...

【技术特征摘要】

1.一种薄膜沉积设备，包括覆膜基材(12)以及用于输送覆膜基材(12)的输送带(11)，其特征在于，还包括第一气源(1)、集雾腔(2)、第一管道(4)、第二管道(7)、第二气源(10)，所述第一气源(1)与集雾腔(2)进口接通，所述第一管道(4)与集雾腔(2)出口接通，所述第二管道(7)与第二气源(10)接通，所述第一管道(4)远离集雾腔(2)的一端延伸至输送带(11)上方且设有喷射口(6)，所述第二管道(7)远离第二气源(10)的一端延伸至输送带(11)上方且设有吸口(9)。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述集雾腔(2)内部设有雾化装置(3)。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，所述第一管道(4)靠近喷射口(6)处设有第一弯曲部(5)，所述第二管道(7)靠近吸口(9)处设有第二弯曲部(8)，所述第一弯曲部(5)与第二弯曲部(8)的弯曲弧度一致且弯曲方向对向设置。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜沉积设备，其特征在于，还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：王敏，任常瑞，符黎明，
申请(专利权)人：常州时创能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：