真空镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:42312725 阅读:7 留言:0更新日期:2024-08-14 15:56
本技术涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种真空镀膜装置,包括:第一旋转机构,包括第一旋转轴及旋转架,第一旋转轴能够转动并带动旋转架转动;第二旋转机构,包括多个沿第一旋转轴的周向可转动地设置在旋转架上的第二旋转轴,第二旋转轴上还设置有齿轮盘;镀膜冶具,包括多个对应设置各个第二旋转轴上的蒸镀伞盖,蒸镀伞盖上沿齿轮盘的周向可转动地设置有多个用于容置晶圆的承载盘,承载盘与齿轮盘相互啮合。通过第二旋转轴驱使蒸镀伞盖进行旋转的同时通过齿轮盘带动承载盘进行转动,实现了晶圆的自转,使得晶圆的每个区域和镀膜蒸汽的接触时间和角度都可以达到一个相对均匀的状态,从而进一步了提高镀膜的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜,尤其涉及一种真空镀膜装置


技术介绍

1、工业上常用真空镀膜设备进行蒸发镀膜,以完成基板表面所需要沉积的膜层。真空蒸发镀膜需要一定的真空条件和蒸发条件,蒸发镀膜技术在物理气相沉积技术中发展较早,且真空蒸发镀膜设备与工艺相对比较简单,即可沉积非常纯净的膜层,又可制备具有特定结构和性质的膜层,所以真空镀膜设备在半导体、功率器件、led等行业中被广泛使用。

2、目前,现有的真空蒸发镀膜设备,其具体结构如图1-图3所示,主要由蒸发系统和三个伞盖状的蒸镀伞盖100组成,在蒸镀伞盖100上设置有多个用于安装晶圆200的承载位,可通过第一电机300驱使第一旋转轴400转动,进而带动蒸镀伞盖100以第一旋转轴400为中心轴进行公转,同时也可以通过第二电机500驱使第二旋转轴600转动,以带动蒸镀伞盖100以第二旋转轴600为中心轴进行自转,以让晶圆达到更好的镀膜均匀性,这种结构虽然可以在一定程度上解决镀膜均匀性的问题,但是由于蒸镀伞盖100是具有弧度且整体倾斜并未在水平位置,使得晶圆200与镀膜蒸汽700的方向始终存在一个夹角,进而导致镀膜的均匀性难以达到理想的效果,均匀性问题无法得到彻底解决,从而造成膜质量的下降。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种真空镀膜装置,能够使得晶圆的每个区域和镀膜蒸汽的接触时间和角度都可以达到一个相对均匀的状态,进一步提高镀膜的均匀性。

2、为了达到上述目的,本技术提供了一种真空镀膜装置,包括:

3、第一旋转机构,包括第一旋转轴及旋转架,所述第一旋转轴能够转动并带动所述旋转架转动;

4、第二旋转机构,包括多个沿所述第一旋转轴的周向可转动地设置在所述旋转架上的第二旋转轴,所述第二旋转轴上还设置有齿轮盘;

5、镀膜冶具,包括多个对应设置各个所述第二旋转轴上的蒸镀伞盖,所述蒸镀伞盖上沿所述齿轮盘的周向可转动地设置有多个用于容置晶圆的承载盘,所述承载盘与所述齿轮盘相互啮合。

6、可选的,所述承载盘通过中心固定轴安装在所述蒸镀伞盖上,所述中心固定轴与所述承载盘通过轴承转动连接。

7、可选的,多个所述承载盘沿所述齿轮盘的周向均匀分布。

8、可选的,所述第一旋转轴与所述第二旋转轴之间具有夹角。

9、可选的,多个所述蒸镀伞盖沿所述第一旋转轴的周向均匀分布。

10、可选的,所述第一旋转机构还包括第一驱动单元,所述第一驱动单元与所述第一旋转轴连接并用于驱使所述第一旋转轴转动。

11、可选的,所述第二旋转机构还包括设置在所述旋转架上的若干第二驱动单元,所述第二驱动单元与所述第二旋转轴连接并用于驱使所述第二旋转轴转动。

12、可选的,所述旋转架由若干杆件拼接而成。

13、可选的,所述真空镀膜装置还包括工艺腔体,所述第一旋转机构、第二旋转机构及所述镀膜冶具均设置在所述工艺腔体内。

14、可选的,所述工艺腔体内还设置有用于监测镀膜厚度的石英晶振片。

15、在本技术提供的真空镀膜装置中,相对于传统的真空镀膜装置,本技术通过在所述第二旋转轴上设置齿轮盘以及在所述蒸镀伞盖上设置与所述齿轮盘啮合连接的承载盘,使得所述第二旋转轴在驱使所述蒸镀伞盖进行旋转的同时通过所述齿轮盘带动所述承载盘进行转动,由此实现了所述晶圆的自转,使得所述晶圆的每个区域和镀膜蒸汽的接触时间和角度都可以达到一个相对均匀的状态,从而进一步提高了镀膜的均匀性。

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【技术保护点】

1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述承载盘通过中心固定轴安装在所述蒸镀伞盖上,所述中心固定轴与所述承载盘通过轴承转动连接。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,多个所述承载盘沿所述齿轮盘的周向均匀分布。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述第一旋转轴与所述第二旋转轴之间具有夹角。

5.根据权利要求1或4所述的真空镀膜装置,其特征在于,多个所述蒸镀伞盖沿所述第一旋转轴的周向均匀分布。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述第一旋转机构还包括第一驱动单元,所述第一驱动单元与所述第一旋转轴连接并用于驱使所述第一旋转轴转动。

7.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述第二旋转机构还包括设置在所述旋转架上的若干第二驱动单元,所述第二驱动单元与所述第二旋转轴连接并用于驱使所述第二旋转轴转动。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述旋转架由若干杆件拼接而成。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述真空镀膜装置还包括工艺腔体,所述第一旋转机构、第二旋转机构及所述镀膜冶具均设置在所述工艺腔体内。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述工艺腔体内还设置有用于监测镀膜厚度的石英晶振片。

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【技术特征摘要】

1.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述承载盘通过中心固定轴安装在所述蒸镀伞盖上,所述中心固定轴与所述承载盘通过轴承转动连接。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,多个所述承载盘沿所述齿轮盘的周向均匀分布。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述第一旋转轴与所述第二旋转轴之间具有夹角。

5.根据权利要求1或4所述的真空镀膜装置,其特征在于,多个所述蒸镀伞盖沿所述第一旋转轴的周向均匀分布。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置,其特征在于,所述第一旋转机构还包括第一驱动单元,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱焱均李志菲王尧林燕强李雨庭高达峰
申请(专利权)人:汉轩微电子制造江苏有限公司
类型:新型
国别省市:

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