本发明专利技术涉及液体涂布数据处理技术领域，具体涉及一种异型玻璃基板涂胶机优化控制方法及系统，该方法包括：获取当前批次的目标异型玻璃基板的目标三维点云数据；基于目标三维点云数据，构建任一数据点的局部涂胶粗糙指数；基于任一数据点的局部涂胶粗糙指数，确定任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数；基于涂胶同质区域的涂胶需求指数和涂胶同质区域的尺寸信息，确定涂胶同质区域的涂胶需求量；基于涂胶需求量，控制涂胶机对下一批次的异型玻璃基板的涂胶量。该方法实现了对异型玻璃基板的特殊结构涂胶量的准确控制，提高了异型玻璃基板涂胶处理后的粘接强度。
1、异型玻璃基板通常指的是具有特殊形状或结构的玻璃基板，包括非标准尺寸或特殊几何形状的玻璃基板。由于异型玻璃基板独特的形状设计，使其在不同领域均具有良好的适应性，能够满足不同领域、不同条件下的生产需求。同时优异的理化性能使其在显示器制造、半导体封装、建筑、汽车等行业均有广泛应用。
2、由于异型玻璃基板的形状结构相对特殊，异型玻璃基板的形状、结构较为复杂，采用涂胶机对异型玻璃基板的不同区域进行涂胶处理时，不同区域的结构不同，每次点滴旋转涂覆时对涂胶的需求量也不同；因此，难以根据不同区域的实际结构和形状特征准确的控制涂胶量，从而造成涂胶过量或过少，影响产品质量。
5、基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，确定所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数；其中，所述涂胶同质区域，包括：所述目标三维点云数据中属于同一聚类簇的多个数据点；
>6、基于所述涂胶同质区域的涂胶需求指数和所述涂胶同质区域的尺寸信息，确定所述涂胶同质区域的涂胶需求量；7、基于所述涂胶需求量，控制涂胶机对下一批次的异型玻璃基板的涂胶量。
8、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述目标三维点云数据，构建任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
9、在所述目标三维点云数据中，确定所述任一数据点匹配的邻近点集；
10、在所述邻近点集中，获取任意两个数据点的高度参数和水平参数；
11、基于所述任意两个数据点的高度参数和水平参数，确定所述任意两个数据点之间的点间波动度；
12、基于所述任意两个数据点之间的点间波动度，确定所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数。
13、在上述方案中，对当前批次的目标异型玻璃基板进行涂胶处理后，目标三维点云数据能够反映玻璃基板表面涂胶的覆盖密度、覆盖均匀程度等，从而便于后续步骤中精确的控制涂胶量，以防止涂胶过量或不足对后续光刻流程造成影响，进而通过构建局部涂胶粗糙指数，能够准确反映目标三维点云数据中局部点云的平稳程度。
14、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述在所述邻近点集中，获取任意两个数据点的高度参数和水平参数，包括：
15、在所述邻近点集中，获取所述任意两个数据点之间的高度差；其中，所述高度参数，包括：所述高度差；
16、确定所述任意两个数据点在水平面投影点之间的欧氏距离；
17、将所述欧氏距离和预设调参因子，确定为所述水平参数。
18、在上述方案中，通过获取两个数据点之间的高度差以及水平面投影点之间的欧氏距离，从而得到该两个数据点的高度参数和水平参数，进而便于后续通过高度参数和水平参数，分析该两个数据点之间的波动程度。
19、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述任意两个数据点的高度参数和水平参数，确定所述任意两个数据点之间的点间波动度，包括：
20、确定所述水平参数中的欧氏距离与预设调参因子之间的第一求和结果；
21、确定所述高度参数与所述第一求和结果之间的比值；
22、将所述比值作为所述任意两个数据点之间的点间波动度。
23、在上述方案中，通过将欧氏距离与预设调参因子之间的第一求和结果以及两个数据点之间的高度差相结合，能够准确分析该两个数据点之间的起伏波动程度。
24、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述任意两个数据点之间的点间波动度，确定所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
25、在所述邻近点集中，确定每两个数据点之间的点间波动度的第二求和结果和标准差；
26、将所述第二求和结果和所述标准差进行融合，得到所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数。
27、在上述方案中，通过将所有两两数据点之间的点间波动度之和，以及，标准差相结合，能够准确得到局部涂胶粗糙指数，从而准确反映该邻近点集所属涂胶区域的涂胶均匀情况。
28、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，确定所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数，包括：
29、确定所述涂胶同质区域的形状结构特征；
30、基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数和所述形状结构特征，构建所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数。
31、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数和所述形状结构特征，构建所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数，包括：
32、基于所述涂胶同质区域中数据点的高斯曲率和所述局部涂胶粗糙指数，确定所述任一数据点的基板偏折度；
33、基于所述涂胶同质区域中各数据点的高度、基板偏折度和所述各数据点到所述涂胶同质区域的中心点的距离，确定所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数。
34、在上述方案中，通过涂胶同质区域中数据点的高斯曲率和局部涂胶粗糙指数构建涂胶需求指数，从而能够准确反映不同区域的涂胶需求特征，进而优化涂胶机的涂胶量。
35、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述基于所述涂胶同质区域的涂胶需求指数和所述涂胶同质区域的尺寸信息，确定所述涂胶同质区域的涂胶需求量，包括：
36、对所述涂胶同质区域的涂胶需求指数进行归一化处理，得到已处理需求指数；
37、将所述已处理需求指数与所述涂胶同质区域的尺寸信息进行融合，得到所述涂胶同质区域的涂胶需求量。
38、在上述方案中，通过将涂胶需求指数的归一化结果与涂胶同质区域的尺寸信息相结合，从而能够精准计算出该涂胶同质区域的涂胶需求量，进而便于控制涂胶机的涂胶量。
39、结合上述第一方面，在一些可能的实现方式中，所述获取当前批次的目标异型玻璃基板的目标三维点云数据，包括：
40、对当前批次的目标异型玻璃基板进行旋转涂覆，得到已涂覆玻璃基板；
41、对所述已涂覆玻璃基板进行多角度扫描，得到初始三维点云数据；
42、对所述初始三维点云数据进行拼接处理，得到所述目标三维点云数据。
43、在上述方案中，通过对已涂覆玻璃基板进行多个角度的扫描，再对得到的初始三维点云数据进行拼接，从而能够消除初始三维本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述目标三维点云数据，构建任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
3.根据权利要求2所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述在所述邻近点集中，获取任意两个数据点的高度参数和水平参数，包括：
4.根据权利要求2或3所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任意两个数据点的高度参数和水平参数，确定所述任意两个数据点之间的点间波动度，包括：
5.根据权利要求2所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任意两个数据点之间的点间波动度，确定所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
6.根据权利要求1所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，确定所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数，包括：
7.根据权利要求6所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数和所述形状结构特征，构建所述任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数，包括：
8.根据权利要求1所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述涂胶同质区域的涂胶需求指数和所述涂胶同质区域的尺寸信息，确定所述涂胶同质区域的涂胶需求量，包括：
9.根据权利要求1所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述获取当前批次的目标异型玻璃基板的目标三维点云数据，包括：
10.一种异型玻璃基板涂胶机优化控制系统，其特征在于，所述系统包括：
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【技术特征摘要】
1.一种异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述目标三维点云数据，构建任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
3.根据权利要求2所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述在所述邻近点集中，获取任意两个数据点的高度参数和水平参数，包括：
4.根据权利要求2或3所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任意两个数据点的高度参数和水平参数，确定所述任意两个数据点之间的点间波动度，包括：
5.根据权利要求2所述的异型玻璃基板涂胶机优化控制方法，其特征在于，所述基于所述任意两个数据点之间的点间波动度，确定所述任一数据点的局部涂胶粗糙指数，包括：
6.根据权利要求1所述的异...
【专利技术属性】
技术研发人员：李弋舟，段聪，钟选飞，
申请(专利权)人：长沙韶光芯材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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