【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻胶，具体涉及一种光刻胶浸泡显影装置。
技术介绍
1、聚酰亚胺是一种具有优异性能的高分子材料，其被广泛应用与消费电子、航空航天、新能源等高新
随着柔性电子、新能源汽车、光伏等新兴领域的蓬勃发展，聚酰亚胺材料的应用场景不断丰富，发展前景广阔。其中，光敏聚酰亚胺(pspi)主要被用作光刻胶和半导体封装，是柔性显示技术(amoled)的核心技术材料之一，主要用作平坦化层、像素定义层和隔离柱功能材料。
2、光刻胶在研发新配方的过程中，需要测试其显影时间。目前的做法是先对胶液进行溶解度测试，了解其在显影液中溶解的可行性。之后，通过溶解性测试结果，膜厚测试结果等参数，逐步调整显影所需时间，并通过检测设备确认显影结果。
3、在初步调整显影时间时，通常使用镊子夹起完成显影前工艺的硅片浸泡在显影液中，并计时测试，观察显影效果至合适时停止计时并将其投入去离子水中，并用洗瓶冲洗；若显影效果不佳，则重复上述过程，直至完成显影并停止计时。但，由于该过程整体由操作人员人工操作，操作人员可能在操作过程中受到化学品的危害。且该方法产生的化学废液无法便捷处理，整体操作过程不够便捷可靠。
4、因此，急需一种新技术来解决上述问题。
技术实现思路
1、为弥补现有技术的不足，本申请提供一种光刻胶浸泡显影装置。该光刻胶浸泡显影装置可以有效减少操作人员对于化学品的接触，为操作人员提供更加便捷、可靠且安全的操作设备。
2、为实现上述目的，本技术提供一种光刻胶浸泡
3、光刻胶浸泡显影装置包括正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元，正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元包括主体和设置在主体上并可与主体之间相对滑动的抽拉组件，抽拉组件包括可独立滑动的、自上而下依次设置的第一密封层、第二置片层和第三密封层。当第一密封层和/或第三密封层处于密封位时，主体被隔离出至少两个独立的空腔。
4、优选地，第一密封层或第二置片层上设置有计时装置。
5、优选地，正胶显影单元和/或负胶显影单元包括可开合顶盖。
6、优选地，可开合顶盖通过活页扣与主体相连，可开合顶盖上设置有开口。
7、优选地，去离子水冲洗单元包括带有水阀控制开关的去离子水入水口。
8、优选地，去离子水入水口上进一步设置有流量计。
9、优选地，正胶显影单元和/或负胶显影单元进一步包括搅拌器，搅拌器的搅拌头可分离的设置于主体的内部。
10、优选地，光刻胶浸泡显影装置进一步包括废液收集单元，废液收集单元设置于正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元下方。
11、优选地，废液收集单元包括漏斗状废液收集结构。
12、优选地，废液收集单元包括废液桶，在废液桶顶部设置有液体传感器。
13、与现有技术相比，本申请的有益效果主要在于以下几点：
14、首先，本技术提供的光刻胶浸泡显影装置可以灵活适用正性光刻胶和负性光刻胶，该装置适应性好，操作便捷。
15、其次，光刻胶浸泡显影装置中的第二置片层上可以用于放置硅片，并可以通过改变第一密封层、第二置片层和第三密封层的位置来控制硅片开始显影以及中断显影，整体操作更加流畅、便捷。
16、再者，光刻胶浸泡显影装置包括可开合顶盖，操作过程中化学液可封闭使用，操作过程更加安全环保，同时减少泄露、腐蚀风险。
17、此外，光刻胶浸泡显影装置还可以包括废液收集单元，使得操作过程中的废液收集更加安全、便捷和快速。
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1.一种光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述光刻胶浸泡显影装置包括正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元，所述正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元包括主体和设置在主体上并可与主体之间相对滑动的抽拉组件，所述抽拉组件包括可独立滑动的、自上而下依次设置的第一密封层、第二置片层和第三密封层；当所述第一密封层和/或所述第三密封层处于密封位时，主体被隔离出至少两个独立的空腔。
2.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述第一密封层或所述第二置片层上设置有计时装置。
3.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述正胶显影单元和/或所述负胶显影单元包括可开合顶盖。
4.根据权利要求3所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述可开合顶盖通过活页扣与所述主体相连，所述可开合顶盖上设置有开口。
5.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述去离子水冲洗单元包括带有水阀控制开关的去离子水入水口。
6.根据权利要求5所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，去离子水入水口上进一步设置
7.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述正胶显影单元和/或所述负胶显影单元进一步包括搅拌器，所述搅拌器的搅拌头可分离的设置于所述主体的内部。
8.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述光刻胶浸泡显影装置进一步包括废液收集单元，所述废液收集单元设置于正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元下方。
9.根据权利要求8所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，废液收集单元包括漏斗状废液收集结构。
10.根据权利要求8所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，废液收集单元包括废液桶，在废液桶顶部设置有液体传感器。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述光刻胶浸泡显影装置包括正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元，所述正胶显影单元、负胶显影单元和/或去离子水冲洗单元包括主体和设置在主体上并可与主体之间相对滑动的抽拉组件，所述抽拉组件包括可独立滑动的、自上而下依次设置的第一密封层、第二置片层和第三密封层；当所述第一密封层和/或所述第三密封层处于密封位时，主体被隔离出至少两个独立的空腔。
2.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述第一密封层或所述第二置片层上设置有计时装置。
3.根据权利要求1所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述正胶显影单元和/或所述负胶显影单元包括可开合顶盖。
4.根据权利要求3所述的光刻胶浸泡显影装置，其特征在于，所述可开合顶盖通过活页扣与所述主体相连，所述可开合顶盖上设置有开口。
5.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵畅，徐佳坤，梁荣峰，
申请(专利权)人：上海明士华新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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