【技术实现步骤摘要】
本揭露是有关一种监控前驱物腔体的系统、监控且控制沉积的系统及监控前驱物腔体的方法。
技术介绍
1、当消费者装置已回应于消费者需求而变得越来越小时，这些装置的单独元件亦已必然在大小方面减小。组成诸如移动电话、平板计算机等的装置的主要元件的半导体装置已经加压以变得越来越小，并且半导体装置内的单独装置(例如，晶体管、电阻器、电容器等)上的对应压力在大小方面亦减少。
2、半导体装置的制造工艺中的一个赋能技术为化学气相沉积(chemical vapordeposition，cvd)技术，该化学气相沉积技术经设计以沉积在半导体处理中使用的高效能固体材料。原子层沉积(atomic layer deposition，ald)为另一薄膜沉积技术，该另一薄膜沉积技术使用前驱物(化学品)来以顺序方式单独地与表面反应。然而，在cvd或ald工艺的自动及精确控制中已存在挑战。
技术实现思路
1、根据本揭露一实施方式，一种监控前驱物腔体的系统包含气体感测器以及信号处理器。气体感测器包含感测器腔室、辐射发射器及辐射接收器。感测器腔室与前驱物腔体及沉积腔室管线连接。辐射发射器用以发射辐射以通过感测器腔室中的含前驱物气体。辐射接收器用以接收通过含前驱物气体的辐射。信号处理器用以自所接收的辐射获得含前驱物气体的吸收光谱，且基于吸收光谱来决定前驱物腔体中的前驱物的剩余前驱物量。
2、根据本揭露一实施方式，一种监控且控制沉积的系统包含感测器、信号处理器与工艺控制器。感测器包含感测器腔室、辐射发射器
3、根据本揭露一实施方式，一种监控前驱物腔体的方法包含将含前驱物气体自该前驱物腔体引入气体感测器的感测器腔室中；通过辐射发射器发射通过含前驱物气体且通过辐射接收器接收的辐射；通过信号处理器自所接收的辐射获得含前驱物气体的吸收光谱；通过信号处理器基于吸收光谱来决定前驱物腔体中的剩余前驱物量；以及在侦测剩余前驱物量达到或低于临界值时通过该信号处理器发送警告信号。
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1.一种监控前驱物腔体的系统，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以在侦测该剩余前驱物量等于或低于一临界值时将一警告信号发送至一工艺控制器。
3.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该含前驱物气体经由一入口自该前驱物腔体输送至该感测器腔室，且其中该含前驱物气体经由一出口自该感测器腔室输送至该沉积腔室。
4.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以通过该吸收光谱中的该前驱物的一特性波长处的一吸收峰值来识别该含前驱物气体中的该前驱物的一存在。
5.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以基于一时间处的该吸收光谱中的一特性波长处的一吸收值来决定该前驱物腔体中的该剩余前驱物量。
6.如权利要求5所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该吸收值经限定为该时间处的该吸收光谱中的该特性波长处的一吸收峰值与当该前驱物腔体含有该前驱物的一最大或完全量时的一初始时间处的一初始吸收光谱中的该特性波长处的一初始吸收峰值的
7.如权利要求5所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以使用该吸收值来决定一统计工艺图中的一现有前驱物量值，且将该剩余前驱物量决定为等于该统计工艺图中的该现有前驱物量值，且其中该统计工艺图中的每个现有前驱物量值与该统计工艺图中的一现有吸收值相关联。
8.一种监控且控制沉积的系统，其特征在于，包含：
9.如权利要求8所述的监控且控制沉积的系统，其特征在于，该一或多个动作包含使该沉积操作自动地停止、密封该前驱物腔体，及接通一备用前驱物腔体以通过该感测器连接至该沉积腔室。
10.一种监控前驱物腔体的方法，其特征在于，包含以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种监控前驱物腔体的系统，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以在侦测该剩余前驱物量等于或低于一临界值时将一警告信号发送至一工艺控制器。
3.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该含前驱物气体经由一入口自该前驱物腔体输送至该感测器腔室，且其中该含前驱物气体经由一出口自该感测器腔室输送至该沉积腔室。
4.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以通过该吸收光谱中的该前驱物的一特性波长处的一吸收峰值来识别该含前驱物气体中的该前驱物的一存在。
5.如权利要求1所述的监控前驱物腔体的系统，其特征在于，该信号处理器用以基于一时间处的该吸收光谱中的一特性波长处的一吸收值来决定该前驱物腔体中的该剩余前驱物量。
6.如权利要求5所述的监控前驱物腔...
【专利技术属性】
技术研发人员：王嘉熙，陈彦羽，卓瑞木，廖崇宪，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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