【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米压印，具体涉及一种从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶的方法及其应用。
技术介绍
1、纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一，与先进的euv光刻技术相比，纳米压印技术制造芯片可降低40％的制造成本和90％的电量，还克服了光学曝光技术中光衍射现象造成的分辨率极限问题，展示了超高分辨率、高效率、低成本、适合工业化生产的独特优势。
2、目前，压印技术都离不开图形复制所需要的模板，为减少硬模板的损耗，通常将图形复制到软膜板上，但硬模板精度要求高、价格昂贵、用量大且使用寿命有限，而图形转移到软膜则会产生了大量pdms软膜垃圾，造成严重的环境污染和资源浪费。因此，将废旧软膜垃圾回收利用处理是压印技术中急需解决的问题，同时随着压印技术的发展，大尺寸(6寸、8寸、12寸)pdms软膜成为一种趋势，而4寸到6寸pdms软膜垃圾会相应增加1.2倍，软膜垃圾的回收利用具有重要意义，但是当前的废旧软膜处理办法大多为破坏性降解不具有回收性因此。
3、因为，开发一种具有回收性的从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶方法，是本领域目前急需解决的技术问题。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶的方法及其应用，所述方法能够实现完整废旧pdms压印软膜的回收和利用，无需进行碾以及切碎等复杂操作，回收得到的再生硅胶能够直接用于制备再生pdms压印软膜，使所述废旧pdms压印软膜具有可回收性，为废旧pdms压印
2、为达到此专利技术目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、第一方面，本专利技术提供一种从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶的方法，所述方法包括如下步骤：
4、(1)将废旧pdms压印软膜浸入酸性降解液中进行降解，得到液体胶液；
5、(2)对步骤(1)得到的液体胶液进行萃取，获取有机相，得到所述再生硅胶。
6、本专利技术提供的从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶的方法所针对的处理对象为废旧pdms压印软膜，即废旧聚二甲基硅氧烷压印软膜，pdms压印软膜是目前纳米压印技术使用最为广泛的软膜，本专利技术所述“废旧”指的是经过多次纳米压印使用后性能不再满足要求的pdms压印软膜；
7、本专利技术提供的方法操作十分简单，无需进行清洁、行碾、切碎等复杂操作操作，首先直接将废旧pdms压印软膜浸入酸性降解液中进行浸泡，在浸泡的过程中，酸性降解液会进入所述废旧pdms压印软膜的内部，使其含有的铂金属中心质子化；
8、具体而言，经本专利技术的专利技术人研究发现，根据chalk-harrod机理，硅氢加成反应形成带铂金属中心加成产物的过程是可逆的，在酸性降解液的浸泡过程中，酸性降解液会入侵废旧pdms压印软膜使其发生溶胀，然后穿透废旧pdms压印软膜，使其中含有的带金属中心的加成产物发生质子化形成过渡态si-[m]-h，进而发生降解形成si-h键，得到完全降解的液体胶液，为后续萃取打好基础；然后将所得液体胶液进行萃取，获取有机相，得到无色透明的液体流动胶，即为目标再生硅胶，且需要说明的是本专利技术提供的方法最终得到的目标再生硅胶中含有的成分主要为pdms中的a胶，后续可以直接加入b胶制备得到再生pdms。
9、综上，本专利技术提供的方法能够实现对完整废旧pdms压印软膜的完全降解，无需进行碾、切碎等复杂操作，为大尺寸废旧pdms压印软膜垃圾提供了简便的回收方法；且采用所述方法回收得到的再生硅胶能够直接被利用，搭配端乙烯基树脂能够制备得到再生pdms压印软膜，为废旧pdms压印软膜的再利用提供了新思路。
10、优选地，步骤(1)所述酸性降解液包括苯磺酸、对甲苯磺酸、甲苯、苯、甲醇、乙醇、苯酚和水。
11、优选地，所述酸性降解液按照重量份计包括如下组分：苯磺酸15～25重量份、对甲苯磺酸8～15重量份、甲苯20～35重量份、苯3～6重量份、甲醇6～8重量份、乙醇4～7重量份、苯酚3～5重量份和水4～41重量份。
12、其中，所述苯磺酸的用量可以为15重量份、17重量份、19重量份、21重量份、23重量份或25重量份等。
13、所述对苯磺酸的用量可以为8重量份、9重量份、10重量份、11重量份、12重量份、13重量份、14重量份或15重量份等。
14、所述甲苯的用量可以为20重量份、22重量份、24重量份、26重量份、28重量份、30重量份或35重量份等。
15、所述苯的用量可以为3重量份、3.4重量份、3.6重量份、3.8重量份、4重量份、4.2重量份、4.5重量份、5重量份或5.5重量份等。
16、所述甲醇的用量可以为6重量份、6.3重量份、6.9重量份、7.2重量份、7.5重量份、7.8重量份或8重量份等。
17、所述乙醇的用量可以为4重量份、4.5重量份、5重量份、5.5重量份、6重量份、6.5重量份或7重量份等。
18、所述苯酚的用量可以为3重量份、3.2重量份、3.4重量份、3.6重量份、3.8重量份、4重量份、4.2重量份、4.5重量份或5重量份等。
19、所述水的用量可以为4重量份、10重量份、15重量份、20重量份、25重量份、30重量份、35重量份、40重量份或41重量份等。
20、优选地，步骤(1)所述浸入酸性降解液中进行降解的时间不低于8h，例如7h、10h、11h、12h或13h等；限定所述浸入酸性降解液中的时间不低于8h可以保证废旧pdms压印软膜完全被降解，如果浸入时间低于8h，则会导致降解不完全，影响回收率。
21、优选地，步骤(1)所述浸入酸性降解液中进行降解的温度为18～50℃，例如20℃、25℃、30℃、35℃、40℃或45℃等。
22、优选地，步骤(2)所述萃取前还包括物理过滤和中和的步骤。
23、其中，所述物理过滤的方法可以为：采用pp过滤头(1μm孔径大小)进行加压挤出。
24、其中，所述中和的方法可以为：将碱性物质(例如0.5～1mol/l的氢氧化钠溶液)加入至液体胶液中，然后用ph试纸测试液体胶液为中性为止。
25、优选地，步骤(2)所述萃取的方法具体包括：将步骤(1)得到液体胶液和有机萃取剂进行混合，再加入氯化钠发生分层，获取有机相，完成所述萃取。
26、优选地，步骤(2)所述步骤(1)得到液体胶液和有机萃取剂的体积比为(1～2):5，例如1.1:5、1.2:5、1.3:5、1.4:5、1.5:5、1.6:5、1.7:5、1.8:5或1.9:5等。
27、优选地，所述有机萃取剂包括四氢呋喃。
28、优选地，步骤(2)所述获取有机层后还包括向有机相中加入水进行至少2次分层洗涤的步骤。
29、优选地，所述洗涤后还包括除水和除有机溶剂的步骤，其中，所述除水可以采用无水硫酸钠作为除水剂(无本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种从废旧PDMS压印软膜中回收再生硅胶的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述酸性降解液包括苯磺酸、对甲苯磺酸、甲苯、苯、甲醇、乙醇、苯酚和水；
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述浸入酸性降解液中进行降解的时间不低于8h；
4.根据权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述萃取前还包括物理过滤和中和的步骤；
5.根据权利要求1～4任一项所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述获取有机相后还包括在有机相中加入有机溶剂和水进行至少2次分层洗涤的步骤；
6.一种再生硅胶，其特征在于，所述再生硅胶通过如权利要求1～5任一项所述的方法回收得到。
7.一种再生PDMS压印软膜，其特征在于，所述再生PDMS压印软膜的制备原料包括如权利要求6所述的再生硅胶和端乙烯基树脂。
8.根据权利要求7所述的再生PDMS压印软膜，其特征在于，所述再生硅胶和端乙烯基树脂的质量比为1:(0.8～1.2)。
9.一
10.一种如权利要求6所述的再生硅胶、如权利要求7或8所述的再生PDMS压印软膜在纳米压印中的应用。
...【技术特征摘要】
1.一种从废旧pdms压印软膜中回收再生硅胶的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述酸性降解液包括苯磺酸、对甲苯磺酸、甲苯、苯、甲醇、乙醇、苯酚和水；
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述浸入酸性降解液中进行降解的时间不低于8h；
4.根据权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述萃取前还包括物理过滤和中和的步骤；
5.根据权利要求1～4任一项所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述获取有机相后还包括在有机相中加入有机溶剂和水进行至少2次分层洗涤的步骤；
6.一种再生硅胶，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵江，康凯，陈志勤，张剑桥，王农华，
申请(专利权)人：广东中图半导体科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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