System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 水处理系统技术方案_技高网

水处理系统技术方案

技术编号:42202487 阅读:4 留言:0更新日期:2024-07-30 18:48
本发明专利技术涉及一种水处理系统,该水处理系统用于去除包含在源水中的离子物质中至少一些,以向需求源提供包含比源水中的离子物质少的离子物质的软水。水处理系统可以包括:过滤器模块,其设置成通过电动力去除包含在源水中的离子物质中的至少一些以排出软水;供应通道,其设置成将源水供应到过滤器模块;排出通道,其设置成将从过滤器模块排出的软水引导至需求源;循环通道,其从供应通道分支;再生通道,其从排出通道分支;连接通道,其从再生通道分支并且连接到循环通道;以及除垢部,其与连接通道连接,并且设置为将用于除垢的除垢材料提供到连接通道的内部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种水处理系统


技术介绍

1、水处理系统是一种从水源供应的源水(source water)制取软水并将软水供应至需求源的系统。例如,在进入点(poe)型水处理系统中,需求源可以是房屋,并且输送到需求源的软水可以被输送到需要使用水的水龙头、淋浴头等。

2、通过从源水中去除离子物质而将源水变成软水的过滤器模块不能永久使用,并且即使在可以半永久使用的过滤器模块的情况下,也必须定期执行排出所收集的离子物质的再生操作以确保顺利使用。

3、当执行再生操作时,可以将离子物质直接从过滤器模块排出,但离子物质可能在过滤器模块中形成水垢。当形成水垢时,过滤器模块的内部可能被污染。当水垢覆盖过滤器模块的内部时,过滤器模块的内部中可以吸收离子的面积可能减小,并且因此,过滤器模块的性能可能降低。由于水垢包括颗粒物质,因此即使在再生操作进行时,水垢也可能不能被顺利地排出。

4、因此,为了保持过滤器模块的性能,除了再生操作之外,还需要单独的除垢过程以去除形成在过滤器模块中的水垢。通常,对于除垢过程,使用柠檬酸填充过滤器模块以去除水垢然后将水垢排出的方法。

5、然而,在供柠檬酸进入过滤器模块的入口的情况下,除垢效果高,但是由于在柠檬酸通过过滤器模块的同时除垢能力降低,因此在供柠檬酸排出的出口处除垢效果低。

6、同时,水垢可能积聚在布置于用于再生操作的再生通道中的再生阀和再生通道内部的减压环中。然而,当柠檬酸通过过滤器模块并到达再生阀和减压阀时,除垢能力降低,因此再生阀和减压环的除垢效果低。


技术实现思路

1、技术问题

2、本公开的一个方面提供了一种过滤器模块的除垢效果得到提高的水处理系统。

3、本公开的一个方面还提供了一种再生阀和减压环的除垢效果得到提高的水处理系统。

4、技术方案

5、根据本公开的一个方面,提供一种水处理系统,该水处理系统用于去除包含在源水中的离子物质中的至少一些并向需求源提供包含比源水中的离子物质少的离子物质的软水,该水处理系统包括:过滤器模块,其基于电动力(electrical force)去除包含在源水中的离子物质中的至少一些,并且排出软水;供应通道,其将源水供应到过滤器模块;排出通道,其将从过滤器模块排出的软水引导至需求源;循环通道,其从供应通道分支;再生通道,其从排出通道分支;连接通道,其连接排出通道和循环通道;以及除垢部,其连接到连接通道,并且将用于去除水垢的除垢材料提供到连接通道的内部。

6、在另一示例中,除垢部可以包括:除垢通道,其连接到连接通道;除垢模块,其连接到除垢通道的远端,并且将除垢材料提供到除垢通道;以及除垢泵,其布置在除垢通道中,并且将由除垢模块提供的除垢材料通过除垢通道泵送到连接通道。

7、在另一示例中,水处理系统还可以包括再生阀,再生阀布置在再生通道中,并且打开和关闭再生通道,当将除垢材料注入到过滤器模块以去除过滤器模块中的水垢的过程是过滤器模块注入过程时,在过滤器模块注入过程中,当再生阀打开再生通道时,除垢部可以提供除垢材料。

8、在另一示例中,水处理系统还可以包括供应阀和排出阀,供应阀布置在供应通道中,位于循环通道从供应通道分支的位置的上游侧,并且打开和关闭供应通道,排出阀布置在排出通道中,位于再生通道从排出通道分支的位置的下游侧,并且打开和关闭排出通道,并且当供应阀关闭供应通道并且排出阀关闭排出通道时,除垢部可以提供除垢材料。

9、在另一示例中,水处理系统还可以包括循环泵,循环泵布置在循环通道中,位于循环通道和连接通道彼此连接的位置的上游侧,并且将循环通道中的流体泵送到连接通道。

10、在另一示例中,当通过循环除垢材料来清洁过滤器模块的过程是循环过程时,在循环过程中,除垢部可以停止提供除垢材料,并且循环泵可以泵送循环通道中的除垢材料。

11、在另一示例中,水处理系统还可以包括连接阀,连接阀布置在连接通道中,并且打开和关闭连接通道,并且当将通过供应通道引入的源水经由过滤器模块通过再生通道排出的过程是模块冲洗过程时,在模块冲洗过程中,连接阀可以关闭连接通道。

12、在另一示例中,水处理系统还可以包括循环泵,循环泵布置在循环通道中,位于循环通道和连接通道彼此连接的位置的上游侧,并且将循环通道中的流体泵送到连接通道,并且当在模块冲洗过程之后冲洗循环泵的过程是泵冲洗过程时,在泵冲洗过程中,连接阀可以打开连接通道,并且循环泵可以将循环通道内的流体泵送到连接通道。

13、在另一示例中,水处理系统还可以包括供应阀和排出阀,供应阀布置在供应通道中,位于循环通道从供应通道分支的位置的上游侧,并且打开和关闭供应通道,排出阀布置在排出通道中,位于再生通道从排出通道分支的位置的下游侧,并且打开和关闭排出通道,并且当在泵冲洗过程之后将源水引入循环通道中并且将源水排出到再生通道的过程是排出过程时,在排出过程中,供应阀可以打开供应通道,并且排出阀可以打开排出通道。

14、在另一示例中,水处理系统还可以包括再生阀,再生阀布置在再生通道中,并且打开和关闭再生通道,并且当将除垢材料注入到再生通道以去除再生阀中的水垢的过程是再生通道注入过程时,在再生通道注入过程中,当再生阀打开再生通道时,除垢部可以提供除垢材料。

15、在另一示例中,再生通道可以包括:第一再生管路,其位于再生阀的上游侧,向上延伸,并且连接至连接通道;第二再生管路,其一端连接到第一再生管路的下端,并且再生阀布置在第二再生管路中;以及第三再生管路,其位于再生阀的下游侧,连接到第二再生管路的相对端,并且向上延伸。

16、在另一示例中,再生通道还可以包括减压环,减压环布置在第二再生管路和第三再生管路的边界处,并且减压环的入口的尺寸可以小于减压环的出口的尺寸。

17、在另一示例中,再生通道还可以包括第四再生管路,第四再生管路连接至第三再生管路的上端,并且延伸成与第三再生管路交叉,并且在再生通道注入过程中,除垢材料可以被填充至作为第三再生管路和第四再生管路的边界的储液器边界。

18、在另一示例中,水处理系统还可以包括装配模块,装配模块连接循环通道、连接通道和除垢部,并且装配模块可以包括第一部分、第二部分和第三部分,第一部分向下延伸并连接到连接通道,第二部分具有从第一部分的上端沿与向下方向交叉的第一方向延伸然后向下延伸的形状,并连接到除垢部,第三部分从第一部分的上端沿与第一方向相反的第二方向延伸,并连接到循环通道。

19、在另一示例中,水处理系统还可以包括:再生阀,其布置在再生通道中,并且打开和关闭再生通道;供应阀,其布置在供应通道中,位于循环通道从供应通道分支的位置的上游侧,并且打开和关闭供应通道;排出阀,其布置在排出通道中,位于再生通道从排出通道分支的位置的下游侧,并且打开和关闭排出通道;连接阀,其布置在连接通道中,并且打开和关闭连接通道;循环泵,其布置在循环通道中,位于循环通道和连接本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种水处理系统,所述水处理系统用于去除包含在源水中的离子物质中的至少一些并向需求源提供包含比所述源水中的离子物质少的离子物质的软水,所述水处理系统包括:

2.根据权利要求1所述的水处理系统,其中,所述除垢部包括:

3.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

4.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

5.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

6.根据权利要求5所述的水处理系统,其中,当通过循环所述除垢材料来清洁所述过滤器模块的过程是循环过程时,

7.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

8.根据权利要求7所述的水处理系统,还包括:

9.根据权利要求8所述的水处理系统,还包括:

10.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

11.根据权利要求10所述的水处理系统,其中,所述再生通道包括:

12.根据权利要求11所述的水处理系统,其中,所述再生通道还包括:

13.根据权利要求11所述的水处理系统,其中,所述再生通道还包括:</p>

14.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

15.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

16.根据权利要求15所述的水处理系统,其中,当将所述除垢材料注入到所述过滤器模块中以去除所述过滤器模块中的水垢的过程是过滤器模块注入过程时,

17.根据权利要求15所述的水处理系统,其中,当通过使所述除垢材料循环到所述过滤器模块来去除所述过滤器模块中的水垢的过程是循环过程时,

18.根据权利要求15所述的水处理系统,其中,当将通过所述供应模块引入的所述源水经由所述过滤器模块通过所述再生通道排出的过程是模块冲洗过程时,

19.根据权利要求15所述的水处理系统,其中,当将所述除垢材料注入到所述再生通道以去除所述再生阀中的水垢的过程是再生通道注入过程时,

20.一种水处理系统,所述水处理系统用于去除包含在源水中的离子物质中的至少一些并向需求源提供包含比所述源水中的离子物质少的离子物质的软水,所述水处理系统包括:

21.根据权利要求20所述的水处理系统,其中,所述除垢部包括:

22.根据权利要求20所述的水处理系统,还包括:

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种水处理系统,所述水处理系统用于去除包含在源水中的离子物质中的至少一些并向需求源提供包含比所述源水中的离子物质少的离子物质的软水,所述水处理系统包括:

2.根据权利要求1所述的水处理系统,其中,所述除垢部包括:

3.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

4.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

5.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

6.根据权利要求5所述的水处理系统,其中,当通过循环所述除垢材料来清洁所述过滤器模块的过程是循环过程时,

7.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

8.根据权利要求7所述的水处理系统,还包括:

9.根据权利要求8所述的水处理系统,还包括:

10.根据权利要求1所述的水处理系统,还包括:

11.根据权利要求10所述的水处理系统,其中,所述再生通道包括:

12.根据权利要求11所述的水处理系统,其中,所述再生通道还包括:

13.根据权利要求11所述的水处理系统,其中,所述再生通道还包括:

14.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:李受暎李灿祐尹智炯金汎燮
申请(专利权)人:庆东纳碧安株式会社
类型:发明
国别省市:

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