【技术实现步骤摘要】
本技术涉及浆料清洁，尤其涉及一种清洁装置及涂布设备。
技术介绍
1、涂布是锂离子电池生产过程中重要工序之一，涂布生产流程是通过涂布设备将浆料均匀涂附在铝箔或铜箔等集流体上，涂附于集流体上的浆料经过烘箱干燥后形成具有一定厚度、尺寸的固态物。
2、在涂布生产过程中，操作人员会定期退刀，采用空喷浆料的方式对涂布唇口进行清洁、浸润以消除唇口间出现浆料大颗粒，避免因浆料中大颗粒物质堵塞唇口，导致涂布极片划痕的产生。当完成空喷浆料后，浆料具备一定粘度性导致部分浆料残留于唇口处，为消除残留于模头唇口残余浆料，操作人员通常会使用无尘纸对唇口进行人工清洁，而人工清洁过程中由于存在视野盲区，无法对唇口上的残留浆料完全擦拭掉，仍残留有浆料，导致后续进刀涂布过程中出现极片划痕、极片暗痕等瑕疵，存在改进之处。
技术实现思路
1、为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，根据本技术的一个方面，提供一种清洁装置，能对涂布模头的唇口处的浆料进行全面性的清洁，提高清洁效率。
2、一种清洁装置，包括：
3、清洁轨道，其用于设于涂布模头上；
4、滑动件，其与所述清洁轨道滑动相连；
5、清洁件，其与所述滑动件相连，所述清洁件具有与涂布模头的唇口抵接的清洁段；当所述清洁件按照所述清洁轨道移动时，所述清洁段用于清洁涂布模头的唇口。
6、在本技术一实施例中，所述清洁轨道设置有两个，两个所述清洁轨道用于一一对应地设于涂布模头的上模头和下模头；
7、
8、在本技术一实施例中，设涂布模头的高度方向为第一方向，所述清洁件沿第一方向延伸设置。
9、在本技术一实施例中，设涂布模头的唇口的出料侧为前侧，所述清洁轨道设于涂布模头的前侧。
10、在本技术一实施例中，设涂布模头上与前侧相邻的两侧为第一邻侧和第二邻侧，所述清洁轨道还设于涂布模头的第一邻侧和/或第二邻侧。
11、在本技术一实施例中，位于涂布模头的上模头的所述清洁轨道到涂布模头的唇口的距离为d1，其中d1的尺寸范围为：5cm≤d1≤6cm。
12、在本技术一实施例中，位于涂布模头的下模头的所述清洁轨道到涂布模头的唇口的距离为d2，其中d2的尺寸范围为：5cm≤d2≤6cm。
13、在本技术一实施例中，所述清洁件的清洁段沿第一方向延伸的高度h的尺寸范围为：1mm≤h≤3mm。
14、在本技术一实施例中，所述滑动件为滑块或滑轮。
15、根据本申请的又一方面，提供一种涂布设备，包括上述的一种清洁装置。
16、综上所述，本技术提供的一种清洁装置及涂布设备，具有如下技术效果：
17、本技术的专利技术人发现，对于涂布模头的唇口上所残留的浆料，通常会使用无尘纸对唇口进行人工清洁，然而由于存在视野盲区，无法对唇口上的残留浆料完全擦拭掉，仍残留有浆料而导致后续极片产品存在瑕疵。基于此，专利技术人所提供的技术一实施例中，通过在涂布模头上设置清洁轨道，在滑动轨道中设置有可滑动的滑动件，滑动件再连接有清洁件，这使得清洁件能够沿着滑动轨道的轨迹移动；同时，在清洁件上具有用于与涂布模头的唇口抵接的清洁段，进行清洁时，可利用额外的驱动工件驱动滑动块在滑动轨道内移动，即可同步驱动清洁件按照清洁轨道移动，施加一定量的力使得清洁段与涂布模头的唇口抵接，按照涂布模头的唇口的轮廓，一边移动一边清洁，一方面可对涂布模头的唇口处的浆料进行全面性的清洁，消除人为清洁过程中的视野盲区；另一方面，可使用人工移动，也可使用现有的驱动设备移动，以实现设备替代人工，消除不同人员清洁过程的结果差异性，统一清洁手法，提高清洁效率。
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1.一种清洁装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，所述清洁轨道(1)设置有两个，两个所述清洁轨道(1)用于一一对应地设于涂布模头(4)的上模头(41)和下模头(42)；
3.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)的高度方向为第一方向，所述清洁件(3)沿第一方向延伸设置。
4.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)的唇口(43)的出料侧为前侧(44)，所述清洁轨道(1)设于涂布模头(4)的前侧(44)。
5.根据权利要求4所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)上与前侧(44)相邻的两侧为第一邻侧(45)和第二邻侧(46)，所述清洁轨道(1)还设于涂布模头(4)的第一邻侧(45)和/或第二邻侧(46)。
6.根据权利要求2所述的一种清洁装置，其特征在于，位于涂布模头(4)的上模头(41)的所述清洁轨道(1)到涂布模头(4)的唇口(43)的距离为d1，其中d1的尺寸范围为：5cm≤d1≤6cm。
7.根据权利要求2所述的
8.根据权利要求3所述的一种清洁装置，其特征在于，所述清洁件(3)的清洁段(31)沿第一方向延伸的高度h的尺寸范围为：1mm≤h≤3mm。
9.根据权利要求1-8任一项所述的一种清洁装置，其特征在于，所述滑动件(2)为滑块或滑轮。
10.涂布设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的一种清洁装置。
...【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，所述清洁轨道(1)设置有两个，两个所述清洁轨道(1)用于一一对应地设于涂布模头(4)的上模头(41)和下模头(42)；
3.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)的高度方向为第一方向，所述清洁件(3)沿第一方向延伸设置。
4.根据权利要求1所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)的唇口(43)的出料侧为前侧(44)，所述清洁轨道(1)设于涂布模头(4)的前侧(44)。
5.根据权利要求4所述的一种清洁装置，其特征在于，设涂布模头(4)上与前侧(44)相邻的两侧为第一邻侧(45)和第二邻侧(46)，所述清洁轨道(1)还设于涂布模头(4)的第一邻侧(45)和/或第二邻侧(46)。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕晨光，
申请(专利权)人：湖北亿纬动力有限公司，
类型：新型
国别省市：
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