【技术实现步骤摘要】
本技术涉及实验器具清洗，具体涉及一种匀胶硅片清洗装置。
技术介绍
1、高分子材料是当今世界发展最迅速的产业之一，已广泛应用到电子信息、生物医药、航天航空、汽车工业、包装、建筑等各个领域。在集成电路领域光刻胶发挥着举足轻重的作用。
2、在光刻胶开发过程中，匀胶工艺过程必不可少，而作为衬底的硅片自然发挥着巨大的作用。众所周知，硅片制造成本高，所以硅片的重复利用具有很重要的意义，而匀胶之后，粘度较大的胶液会残留在硅片上。
3、目前，硅片的清洗主要采用人工清洗的方式，但人工清洗时存在硅片清洗洁净程度难以控制、且清洗过程中硅片易碎的问题。
技术实现思路
1、针对上述现有技术中的至少一个问题，本技术的目的是提供一种匀胶硅片清洗装置，包括超声清洗设备、冲洗设备及硅片搬运设备，解决了人工清洗硅片清洗洁净程度难以控制、且清洗过程中硅片易碎的问题。
2、为实现上述目的，本技术采取以下技术方案：
3、一种匀胶硅片清洗装置，包括：
4、超声清洗设备，其清洗缸内设置有用于承载硅片的硅片托；
5、冲洗设备，用于冲洗其冲洗缸内的所述硅片；
6、硅片搬运设备，用于在所述超声清洗设备和所述冲洗设备之间搬运所述硅片，所述硅片搬运设备包括滑轨、伸缩架和硅片夹持机构，所述滑轨设置在所述超声清洗设备和所述冲洗设备的一侧；所述伸缩架设置在所述滑轨上；所述硅片夹持机构设置在所述伸缩架上，用于夹持所述硅片。
7、优选地，所述硅片托包括
8、优选地，所述硅片托凹槽为弧形槽，所述弧形槽的弧度与所述硅片的弧度相同。
9、优选地，所述弧形槽的圆弧长度为所述硅片周长的六分之一。
10、优选地，所述伸缩架包括垂直伸缩轴和水平伸缩轴，所述垂直伸缩轴的底部设置在所述滑轨上，能够沿所述滑轨移动；所述水平伸缩轴设置在垂直伸缩轴的顶端，能够沿水平方向伸缩。
11、优选地，所述硅片夹持机构包括至少三个伸缩托轴，每个所述伸缩托轴的一端均与所述水平伸缩轴的末端垂直连接，每个所述伸缩托轴的另一端均设置有硅片滚托。
12、优选地，所述伸缩托轴与所述水平伸缩轴的末端转动连接，多个所述伸缩托轴能在同一平面内转动。
13、优选地，所述硅片滚托上设有滚托凹槽，多个所述硅片滚托上的所述滚托凹槽配合夹持所述硅片。
14、优选地，所述冲洗缸内设置有多个清洗刷。
15、优选地，相邻两个所述清洗刷之间有一个待清洗的所述硅片。
16、本技术由于采取以上技术方案，其具有以下优点：
17、1、本技术提供的匀胶硅片清洗装置，通过超声清洗设备、冲洗设备及硅片搬运设备，解决了人工清洗硅片清洗洁净程度难以控制、且清洗过程中硅片易碎的问题，提高了硅片的清洗效率，实现硅片自动清洗，节约人力成本。
18、2、本技术提供的匀胶硅片清洗装置，清洗缸内安装有硅片托，一次能够清晰多个硅片，超声波清洗相对人工清洗洁净度高，清洗液能够循环使用，节约清洗成本。
19、3、本技术提供的匀胶硅片清洗装置，硅片搬运设备能够实现超声清洗设备和冲洗设备之间硅片的搬运，相对人工清洗自动化程度高，提高了清洗效率。
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1.一种匀胶硅片清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片托包括左硅片托和右硅片托，所述左硅片托和所述右硅片托分别设置在所述清洗缸的内壁的两侧，所述左硅片托和所述右硅片托之间设有间歇，所述左硅片托和所述右硅片托配合承载所述硅片，所述左硅片托和所述右硅片托内均设有多个硅片托凹槽，所述硅片插在所述硅片托凹槽内。
3.根据权利要求2所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片托凹槽为弧形槽，所述弧形槽的弧度与所述硅片的弧度相同。
4.根据权利要求3所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述弧形槽的圆弧长度为所述硅片周长的六分之一。
5.根据权利要求1所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述伸缩架包括垂直伸缩轴和水平伸缩轴，所述垂直伸缩轴的底部设置在所述滑轨上，能够沿所述滑轨移动；所述水平伸缩轴设置在垂直伸缩轴的顶端，能够沿水平方向伸缩。
6.根据权利要求5所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片夹持机构包括至少三个伸缩托轴，每个所述伸缩托轴的一端均与所述水平伸缩轴的末端垂直连
7.根据权利要求6所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述伸缩托轴与所述水平伸缩轴的末端转动连接，多个所述伸缩托轴能在同一平面内转动。
8.根据权利要求6所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片滚托上设有滚托凹槽，多个所述硅片滚托上的所述滚托凹槽配合夹持所述硅片。
9.根据权利要求1所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述冲洗缸内设置有多个清洗刷。
10.根据权利要求9所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，相邻两个所述清洗刷之间有一个待清洗的所述硅片。
...【技术特征摘要】
1.一种匀胶硅片清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片托包括左硅片托和右硅片托，所述左硅片托和所述右硅片托分别设置在所述清洗缸的内壁的两侧，所述左硅片托和所述右硅片托之间设有间歇，所述左硅片托和所述右硅片托配合承载所述硅片，所述左硅片托和所述右硅片托内均设有多个硅片托凹槽，所述硅片插在所述硅片托凹槽内。
3.根据权利要求2所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片托凹槽为弧形槽，所述弧形槽的弧度与所述硅片的弧度相同。
4.根据权利要求3所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述弧形槽的圆弧长度为所述硅片周长的六分之一。
5.根据权利要求1所述的匀胶硅片清洗装置，其特征在于，所述伸缩架包括垂直伸缩轴和水平伸缩轴，所述垂直伸缩轴的底部设置在所述滑轨上，能够沿所述滑轨移...
【专利技术属性】
技术研发人员：常唯淑，豆秀丽，王奇，贾斌，
申请(专利权)人：明士北京新材料开发有限公司，
类型：新型
国别省市：
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