一种便于硅片清洗的自动控温补水槽制造技术

本技术涉及半导体制造技术领域，且公开了一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，包括水槽；设置在水槽内部的隔板一和隔板二；设置在水槽内部的温度传感器和液位传感器；设置在水槽内部的加热棒；以及设置在水槽上的清洗机构，所述清洗机构包括支架、滑动架、竖杆和放置板，所述支架固定安装在水槽的外壁，所述滑动架固定安装在支架的顶部，所述放置板固定安装在竖杆的外壁；本技术通过设置温度传感器可实时对水温进行检测，如温度超过或低于预设值，加热棒会进行通电加热或停止加热，从而控制清洗的温度处于合适范围，保证硅片的清洗效果最佳，且可以自动添加清洗液，节省人力。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制造，具体为一种便于硅片清洗的自动控温补水槽。

技术介绍

1、半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

2、申请号：201921174837.2，公开了一种自动硅片清洗设备，涉及硅片清洗装置领域，针对现有硅片清洗低效，且中间的过程繁琐，一体化低的问题，现提出如下方案，其包括浸泡箱、清洗箱、去离子箱，所述清洗箱内设置有水管，且水管上设置有喷头，所述泡箱、清洗箱、去离子箱的上端设置有顶板，且其内设置有滑槽，所述滑槽的后内壁的上端固定连接有齿条，所述滑槽内设置有滑板，所述滑板的左右两端均固定连接有液压杆，所述滑板中心设置有转杆，所述液压杆的下端固定连接有弧形板，且弧形板内设置有滑轨，所述滑轨内滑动连接有转盘，所述转盘的中心套接有转筒，所述转筒的外表面固定连接有托板。本技术清洗设备具有便于清洗、转运且清洗效率高的特点。

3、以上对比文件通过可转动的转筒来对硅片进行高效清理，但硅片在清理的过程中，其内部的清洗液水温难以得到控制，不同的水温对硅片的清理效果也不同，且随着不断的清洗，清洗液的体积会随之下降，需要人工手动添加清洗液，较为不便，针对上述情况，我们推出了一种便于硅片清洗的自动控温补水槽。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足，本技术提供了一种便于硅片清洗的自动控温补水槽。

3、(二)技术方案

4、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，包括水槽；设置在水槽内部的隔板一和隔板二；设置在水槽内部的温度传感器和液位传感器；设置在水槽内部的加热棒；以及设置在水槽上的清洗机构，所述清洗机构包括支架、滑动架、竖杆和放置板，所述支架固定安装在水槽的外壁，所述滑动架固定安装在支架的顶部，所述放置板固定安装在竖杆的外壁。

5、优选的，所述滑动架的底部滑动连接有移动座，所述移动座的底部开设有凹槽，所述凹槽的内部固定安装有电机，通过设置电机可以使得放置的硅片进行转动。

6、优选的，所述电机的输出端固定安装有连轴杆，所述连轴杆的底部固定安装有安装板，所述安装板的底部固定安装有液压杆，且竖杆固定安装在液压杆的输出端，通过设置液压杆可以带动硅片上下移动。

7、优选的，所述放置板上开设有放置槽，所述放置槽的内壁底部开设有孔洞，放置板的数量为若干个，呈圆周阵列在竖杆的外壁，孔洞的设置提高硅片与清洗液的接触面，放置槽和孔洞的尺寸可以设置为不同，以便对不同尺寸的硅片进行清洗。

8、优选的，所述隔板二的右侧安装有竖管，所述竖管上设置有喷头，喷头的数量为若干个。

9、优选的，所述竖管的数量为两个，两个竖管通过u型管连通设置，所述u型管连通设置有连接管，所述水槽的背面连通设置有排放管，通过将连接管外接水源，将放置板放到隔板二的右侧区域，喷头会喷出清洗液对旋转的硅片进行冲洗。

10、(三)有益效果

11、与现有技术相比，本技术提供了一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，具备以下有益效果：

12、1、该一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，通过设置温度传感器可实时对水温进行检测，如温度超过或低于预设值，加热棒会进行通电加热或停止加热，从而控制清洗的温度处于合适范围，保证硅片的清洗效果最佳。

13、2、该一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，通过将需要清洗的硅片放到放置槽内，移动座带动放置板在滑动架上左右移动，使得硅片被放到合适的区域进行清洗，启动液压杆带动硅片下移到水槽内部进行清洗，清洗过程中启动电机可以带动放置板转动，进而使得硅片转动，提高清洗的效果。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，包括水槽(1)；设置在水槽(1)内部的隔板一(2)和隔板二(3)；设置在水槽(1)内部的温度传感器和液位传感器；设置在水槽(1)内部的加热棒(4)；以及设置在水槽(1)上的清洗机构(5)，其特征在于：所述清洗机构(5)包括支架(501)、滑动架(502)、竖杆(509)和放置板(510)，所述支架(501)固定安装在水槽(1)的外壁，所述滑动架(502)固定安装在支架(501)的顶部，所述放置板(510)固定安装在竖杆(509)的外壁。

2.根据权利要求1所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述滑动架(502)的底部滑动连接有移动座(503)，所述移动座(503)的底部开设有凹槽(504)，所述凹槽(504)的内部固定安装有电机(505)。

3.根据权利要求2所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述电机(505)的输出端固定安装有连轴杆(506)，所述连轴杆(506)的底部固定安装有安装板(507)，所述安装板(507)的底部固定安装有液压杆(508)，且竖杆(509)固定安装在液压杆(508)的输出端。

4.根据权利要求1所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述放置板(510)上开设有放置槽，所述放置槽的内壁底部开设有孔洞。

5.根据权利要求1所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述隔板二(3)的右侧安装有竖管(6)，所述竖管(6)上设置有喷头(7)。

6.根据权利要求5所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述竖管(6)的数量为两个，两个竖管(6)通过U型管(8)连通设置，所述U型管(8)连通设置有连接管(9)，所述水槽(1)的背面连通设置有排放管(10)。

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【技术特征摘要】

1.一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，包括水槽(1)；设置在水槽(1)内部的隔板一(2)和隔板二(3)；设置在水槽(1)内部的温度传感器和液位传感器；设置在水槽(1)内部的加热棒(4)；以及设置在水槽(1)上的清洗机构(5)，其特征在于：所述清洗机构(5)包括支架(501)、滑动架(502)、竖杆(509)和放置板(510)，所述支架(501)固定安装在水槽(1)的外壁，所述滑动架(502)固定安装在支架(501)的顶部，所述放置板(510)固定安装在竖杆(509)的外壁。

2.根据权利要求1所述的一种便于硅片清洗的自动控温补水槽，其特征在于：所述滑动架(502)的底部滑动连接有移动座(503)，所述移动座(503)的底部开设有凹槽(504)，所述凹槽(504)的内部固定安装有电机(505)。

3.根据权利要求2所述的一种便于硅片清洗的自动控温补...

【专利技术属性】
技术研发人员：季丽，叶笃胜，王松华，
申请(专利权)人：浙江海顺新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：