System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种光刻机光源头组件制造技术_技高网

一种光刻机光源头组件制造技术

技术编号:42130915 阅读:23 留言:0更新日期:2024-07-25 00:45
本发明专利技术涉及光源曝光技术领域。本发明专利技术的一种光刻机光源头组件,包括曝光器,曝光器包括曝光机壳以及固定安装在曝光机壳内部上方的曝光光源器,曝光机壳的内部还安装有圆锥体,圆锥体的外侧安装有多个检测构件,曝光光源器处于圆锥体的正上方位置,通过曝光光源释放出光源,光源会进入到圆锥体的内顶部,圆锥体的内顶部呈一个收拢的状态,可以对光源进行初步的聚焦,当光源透过凸透镜时,因凸透镜的凸起设置,让透过凸透镜的光源进行聚焦,聚焦后的光源进入到圆锥体的内底部位置,凸透镜下方的圆锥体空间呈圆锥形状,可以让除聚焦光源外的光线在圆锥体的内底部进行聚拢,随后聚拢后的光线以及聚焦的光源一起透过透光孔进行曝光工作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光源曝光,尤其是指一种光刻机光源头组件


技术介绍

1、光刻机是一种用于微电子制造和半导体工业中的关键设备,光刻机的工作原理类似于照相过程,它使用光源头组件产生紫外光或可见光,并通过掩模(或掩膜)上的图案,将光线聚焦到感光胶(光刻胶)覆盖的硅片或其他基板表面上,光刻胶在光的作用下会发生化学变化,形成被曝光的图案,在这个过程中光源头组件用于发出光源,然后进行曝光,来完成光刻机的正常工作。

2、公开号为cn115268235b的一项专利申请公开了光刻机双光源曝光系统,包括曝光机架和设置在曝光机架内底部凹槽处的调节组件所述曝光机架内侧壁螺栓安装有导轨组件,所述调节组件右端位移块螺栓安装有曝光平台,通过设置了曝光机构在导轨组件前端,通过安装侧板带动曝光器和调平推杆进行水平位移调节,此时通过对齐传感器对其进行位移对齐动作。

3、在上述技术方案中,光源头组件中的曝光光源透过透光镜进行聚焦,让曝光光源作用到光刻胶覆盖的硅片上,但传统技术方案中,曝光光源透过透光镜的这个过程是在一个结构内部进行的,在曝光光源透过透光镜时,透过前的空间与透过后的空间直径是相同的,导致许多光源流失在透过后的空间内部,进而影响了光源的传递效率。

4、为此,本专利技术提供一种光刻机光源头组件。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种光刻机光源头组件,包括曝光机架和滑动安装在曝光机架上侧的调节组件,所述调节组件的一端固定安装有曝光平台,所述曝光机架的上侧还固定安装有导轨组件,所述导轨组件的一侧活动安装有移动侧板,移动侧板的一侧固定安装有曝光器;

2、所述曝光器包括曝光机壳以及固定安装在曝光机壳内部上方的曝光光源器,曝光机壳的内部还安装有圆锥体,所述圆锥体的外侧安装有多个检测构件,所述曝光光源器处于圆锥体的正上方位置,所述曝光机壳的内部固定开设有光源固定槽、圆锥槽以及底固定槽,所述曝光光源器固定安装在光源固定槽内部,圆锥体和检测构件固定安装在圆锥槽内部;

3、所述圆锥体的内部上方固定安装有凸透镜,所述圆锥体的下端固定安装有透光孔,所述透光孔固定安装在底固定槽内部;

4、所述移动侧板下侧壁固定安装有两个调平推杆,两个所述的调平推杆下端固定安装有遮光件,所述遮光件内侧通槽壁固定安装有掩模板和负性光刻胶以及黏贴固定在遮光件底部的电路图形板,所述移动侧板的下侧固定安装有对齐传感器。

5、优选的,所述检测构件包括固定安装在圆锥体外侧的第一固定弧片以及固定安装在圆锥槽内部的第二固定弧片,所述第二固定弧片朝向第一固定弧片一侧的内壁开设有安装槽,所述安装槽的内部固定安装有压力传感器,所述压力传感器的一侧固定安装有连接弹簧,所述连接弹簧的一端与第一固定弧片侧壁固定连接。

6、优选的,所述曝光机壳内部还开设有构件槽、连通竖槽以及下倾斜槽,所述下倾斜槽一端与连通竖槽相连通,另一端与圆锥槽相连通,所述连通竖槽上端与构件槽相连通。

7、优选的,所述第二固定弧片设置多个,多个所述的第二固定弧片呈螺旋环绕状态设置在圆锥体外侧,所述第一固定弧片设置多个,多个所述的第一固定弧片呈螺旋环绕状态设置在多个第二固定弧片外侧,所述第一固定弧片和第二固定弧片个数相对应。

8、优选的,所述构件槽内部固定安装有回收组件,所述回收组件内部开设有进珠槽以及下珠槽,所述回收组件通过进珠槽与连通竖槽相连通,所述回收组件通过下珠槽与圆锥槽相连通。

9、优选的,所述回收组件内部还开设有与进珠槽、下珠槽相连通的放置槽,所述放置槽内部固定安装有第一电磁体和第二电磁体,所述下珠槽内部放置有检测珠。

10、优选的,所述第二电磁体的电磁力大于第一电磁体的电磁力,所述第二电磁体、第一电磁体均与检测珠磁性相吸。

11、优选的,所述检测珠用于在多个所述的第一固定弧片和第二固定弧片间滚动,第一固定弧片外侧与圆锥体的间距和检测珠的直径相等。

12、优选的,所述检测珠包括金属外壳以及固定安装在检测珠内部的多个支撑柱,所述检测珠的内部中心位置安装有定位模块,多个所述的支撑柱一端与定位模块相连接,另一端与金属外壳内壁固定连接。

13、优选的,所述金属外壳和多个所述的支撑柱均为镍材质制成的构件,检测珠的直径小于下珠槽、进珠槽以及连通竖槽和下倾斜槽的直径。

14、本专利技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点:

15、1、本专利技术所述的一种光刻机光源头组件,通过曝光光源释放出光源,光源会进入到圆锥体的内顶部,圆锥体的内顶部呈一个收拢的状态,可以对光源进行初步的聚焦,当光源透过凸透镜时,因凸透镜的凸起设置,让透过凸透镜的光源进行聚焦,聚焦后的光源进入到圆锥体的内底部位置,凸透镜下方的圆锥体空间呈圆锥形状,可以让除聚焦光源外的光线在圆锥体的内底部进行聚拢,随后聚拢后的光线以及聚焦的光源一起透过透光孔进行曝光工作,相比较传统技术来说,聚拢了流失的光线,让光源在圆锥体的内部是聚拢向下传递的,而不是垂直向下传递的,可以加强对于光源的利用,降低光源流失。

16、2、本专利技术所述的一种光刻机光源头组件,通过圆锥体因高强度多次照射光源的原因发生形变时,会带动形变位置的第一固定弧片位置发生偏移,第一固定弧片与其外侧的第二固定弧片存在一定的间距,第一固定弧片的位置偏移不会与第二固定弧片接触,但是这时连接弹簧会被压缩,被压缩的连接弹簧会施加力让压力传感器感受到,进而发出电信号,表示圆锥体局部位置发生形变,存在光源泄露危险,通过设置检测构件来时刻检查圆锥体,避免出现后续的曝光光源效果不好的问题。

17、3、本专利技术所述的一种光刻机光源头组件,通过让第一电磁体和第二电磁体失去电力驱动,第一电磁体和第二电磁体不再具备磁力,这个时候检测珠从下珠槽内部滚动出去,因为多个第一固定弧片和第二固定弧片是螺旋环绕的,所以检测珠会滚动到多个第一固定弧片和第二固定弧片的螺旋间隙中,检测珠可以从检测构件的最上端位置滚动到检测构件的最下端位置,若是多个第一固定弧片和第二固定弧片螺旋间隙的圆锥体局部形变,产生凸起,检测珠会在这个位置被阻拦住,不能一直滚动到检测构件的底部,通过检测珠的滚动与检测构件的配合,来检测检测构件检测不到的位置。

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【技术保护点】

1.一种光刻机光源头组件,包括曝光机架(1)和滑动安装在曝光机架(1)上侧的调节组件(5),所述调节组件(5)的一端固定安装有曝光平台(6),所述曝光机架(1)的上侧还固定安装有导轨组件(2),所述导轨组件(2)的一侧活动安装有移动侧板(3),其特征在于:移动侧板(3)的一侧固定安装有曝光器(4);

2.根据权利要求1所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述检测构件(43)包括固定安装在圆锥体(44)外侧的第一固定弧片(431)以及固定安装在圆锥槽(412)内部的第二固定弧片(432),所述第二固定弧片(432)朝向第一固定弧片(431)一侧的内壁开设有安装槽(4321),所述安装槽(4321)的内部固定安装有压力传感器(4322),所述压力传感器(4322)的一侧固定安装有连接弹簧(4323),所述连接弹簧(4323)的一端与第一固定弧片(431)侧壁固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述曝光机壳(41)内部还开设有构件槽(416)、连通竖槽(415)以及下倾斜槽(414),所述下倾斜槽(414)一端与连通竖槽(415)相连通,另一端与圆锥槽(412)相连通,所述连通竖槽(415)上端与构件槽(416)相连通。

4.根据权利要求2所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述第二固定弧片(432)设置多个,多个所述的第二固定弧片(432)呈螺旋环绕状态设置在圆锥体(44)外侧,所述第一固定弧片(431)设置多个,多个所述的第一固定弧片(431)呈螺旋环绕状态设置在多个第二固定弧片(432)外侧,所述第一固定弧片(431)和第二固定弧片(432)个数相对应。

5.根据权利要求3所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述构件槽(416)内部固定安装有回收组件(45),所述回收组件(45)内部开设有进珠槽(455)以及下珠槽(456),所述回收组件(45)通过进珠槽(455)与连通竖槽(415)相连通,所述回收组件(45)通过下珠槽(456)与圆锥槽(412)相连通。

6.根据权利要求5所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述回收组件(45)内部还开设有与进珠槽(455)、下珠槽(456)相连通的放置槽(452),所述放置槽(452)内部固定安装有第一电磁体(453)和第二电磁体(454),所述下珠槽(456)内部放置有检测珠(457)。

7.根据权利要求6所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述第二电磁体(454)的电磁力大于第一电磁体(453)的电磁力,所述第二电磁体(454)、第一电磁体(453)均与检测珠(457)磁性相吸。

8.根据权利要求6所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述检测珠(457)用于在多个所述的第一固定弧片(431)和第二固定弧片(432)间滚动,第一固定弧片(431)外侧与圆锥体(44)的间距和检测珠(457)的直径相等。

9.根据权利要求8所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述检测珠(457)包括金属外壳(4571)以及固定安装在检测珠(457)内部的多个支撑柱(4572),所述检测珠(457)的内部中心位置安装有定位模块(4573),多个所述的支撑柱(4572)一端与定位模块(4573)相连接,另一端与金属外壳(4571)内壁固定连接。

10.根据权利要求9所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述金属外壳(4571)和多个所述的支撑柱(4572)均为镍材质制成的构件,检测珠(457)的直径小于下珠槽(456)、进珠槽(455)以及连通竖槽(415)和下倾斜槽(414)的直径。

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【技术特征摘要】

1.一种光刻机光源头组件,包括曝光机架(1)和滑动安装在曝光机架(1)上侧的调节组件(5),所述调节组件(5)的一端固定安装有曝光平台(6),所述曝光机架(1)的上侧还固定安装有导轨组件(2),所述导轨组件(2)的一侧活动安装有移动侧板(3),其特征在于:移动侧板(3)的一侧固定安装有曝光器(4);

2.根据权利要求1所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述检测构件(43)包括固定安装在圆锥体(44)外侧的第一固定弧片(431)以及固定安装在圆锥槽(412)内部的第二固定弧片(432),所述第二固定弧片(432)朝向第一固定弧片(431)一侧的内壁开设有安装槽(4321),所述安装槽(4321)的内部固定安装有压力传感器(4322),所述压力传感器(4322)的一侧固定安装有连接弹簧(4323),所述连接弹簧(4323)的一端与第一固定弧片(431)侧壁固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述曝光机壳(41)内部还开设有构件槽(416)、连通竖槽(415)以及下倾斜槽(414),所述下倾斜槽(414)一端与连通竖槽(415)相连通,另一端与圆锥槽(412)相连通,所述连通竖槽(415)上端与构件槽(416)相连通。

4.根据权利要求2所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述第二固定弧片(432)设置多个,多个所述的第二固定弧片(432)呈螺旋环绕状态设置在圆锥体(44)外侧,所述第一固定弧片(431)设置多个,多个所述的第一固定弧片(431)呈螺旋环绕状态设置在多个第二固定弧片(432)外侧,所述第一固定弧片(431)和第二固定弧片(432)个数相对应。

5.根据权利要求3所述的一种光刻机光源头组件,其特征在于:所述构件槽(416)内部固定安装有回收...

【专利技术属性】
技术研发人员:谭军朱晓春刘世奇
申请(专利权)人:张家港奇点光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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