【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光敏树脂及介电材料，特别是涉及一种氧化铝介电材料及其制备方法和应用。
技术介绍
1、介电材料是在电场作用下具有极化现象的一类材料，可广泛应用于电子器件的绝缘与封装及能量存储与信息转化等领域。目前现有技术中的介电材料普遍存在以下问题：(1)难以实现特定结构介电材料的制备；(2)难以实现特定频率下介电常数的可调控；(3)成分组成复杂；(4)制备工艺复杂。
2、因此，提供一种原料组成简单、制备工艺简单、能够实现特定结构、能够实现特定频率下介电常数的可调控的介电材料及其制备方法，对于介电材料
具有重要意义。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种氧化铝介电材料及其制备方法和应用，以解决上述现有技术存在的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
3、本专利技术技术方案之一，一种介电材料，原料包括：光敏树脂基体和光引发剂；
4、所述光敏树脂基体为三丙二醇二丙烯酸酯与环氧丙烯酸酯质量比(2-5):(5-8)的混合物。
5、本专利技术技术方案之二，一种上述介电材料的制备方法，将各原料混合均匀得到浆料，对所述浆料进行3d打印，得到所述介电材料。
6、本专利技术技术方案之三，上述的介电材料在电子器件的绝缘与封装、能量存储或者信息转化领域中的应用。
7、本专利技术公开了以下技术效果：
8、本专利技术介电材料的原料组成简单，所用原料均为市售材料，原料易得。
9
10、本专利技术介电材料的制备工艺简单，对实验设备及场所要求低，有利于规模化、工业化生产。本专利技术介电材料利用光固化技术成型，可以实现复杂、特殊结构介电材料的制备。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种介电材料，其特征在于，原料包括：光敏树脂基体和光引发剂；
2.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，所述光引发剂的添加量为所述光敏树脂基体质量的1％～2％。
3.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，原料还包括氧化铝。
4.根据权利要求3所述的介电材料，其特征在于，所述氧化铝的添加量为所述光敏树脂基体质量的0％～30％。
5.根据权利要求3所述的介电材料，其特征在于，所述氧化铝的粒径为100nm。
6.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，原料还包括UV消泡剂。
7.根据权利要求6所述的介电材料，其特征在于，所述UV消泡剂的添加量为所述光敏树脂基体质量的1％～2％。
8.一种权利要求1～7任一项所述的介电材料的制备方法，其特征在于，将各原料混合均匀得到浆料，对所述浆料进行3D打印，得到所述介电材料。
9.根据权利要求8所述的介电材料的制备方法，其特征在于，所述3D打印的工艺条件为：光源波长405nm；切片层厚50μm；曝光功率6～8mW；单层曝光时间3～4s。>
10.如权利要求1～7任一项所述的介电材料在电子器件的绝缘与封装、能量存储或者信息转化领域中的应用。
...【技术特征摘要】
1.一种介电材料，其特征在于，原料包括：光敏树脂基体和光引发剂；
2.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，所述光引发剂的添加量为所述光敏树脂基体质量的1％～2％。
3.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，原料还包括氧化铝。
4.根据权利要求3所述的介电材料，其特征在于，所述氧化铝的添加量为所述光敏树脂基体质量的0％～30％。
5.根据权利要求3所述的介电材料，其特征在于，所述氧化铝的粒径为100nm。
6.根据权利要求1所述的介电材料，其特征在于，原料还包括uv消泡剂。
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。