一种半导体设备结构及清洁设备制造技术

本技术提供一种半导体设备结构及清洁设备，供应控制器在第一漏水传感器与供水阀之间控制供水阀泄露的冷却介质不进入废气管；废水排出管有逆流阀防止冷却介质倒灌到洗涤箱，排出控制器在第二漏水传感器与逆流阀之间控制废水排出管倒灌的冷却介质不进入洗涤箱；第一漏水传感器在供应管与废气管第一端连接口感应供水阀泄露情况；第二漏水传感器在洗涤箱与废水排出管连接口感应逆流阀泄露情况。本技术通过设置漏水传感器检测水阀泄露情况，减少泄露风险造成其他机台宕机；同时通过漏水传感器自动控制供应状态和排出状态，减少需要进行巡检的频率，节约人力成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于半导体设备领域，特别是涉及一种半导体设备结构及清洁设备。

技术介绍

1、目前半导体制备工艺中需要使用洗涤器，意为处理半导体工业制程生产之废气处理设备，以使废气排放能符合环境保护之标准，洗涤器在生产中通过高温燃烧把有害尾气燃烧处理，过程中产生热量，热量通过厂务供给的冷却水给带走热量，并通过冷却水沉淀燃烧过程中产生的副产物，达到国内实施空气污染排放标准。

2、然而用于供给冷却水以带走热量的设备结构容易产生内部部件腐蚀或者破损的情况，此时若供水端的阀门损坏，供水端没有及时停止供水，会导致冷却水一直向机台内部供给，导致液位过高引发泄露，从而可能造成其他机台宕机；而如果排水端的逆流阀损坏，会导致水倒灌，引起该用于供给冷却水的设备内部发生安全事故；由于上述原因导致冷却设备往往每天需要进行多次巡检，避免事故的发生，因此需要耗费较大人力资源。

3、因此，目前亟待一种能够避免上述泄露现象发生的设备以减少安全事故的发生。

4、应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的，不能仅仅因为这些方案在本申请的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种半导体设备结构及清洁设备，用于解决现有技术中供水机台容易泄露产生安全事故的问题。

2、为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供以下技术方案：</p>

3、第一方面，本技术提供一种半导体设备结构，所述半导体设备结构包括：洗涤箱、废气管、冷却介质供应箱、供应管、供水阀、供应控制器、废水排出管、逆流阀、排出控制器和漏水传感器；所述漏水传感器包括第一漏水传感器和第二漏水传感器；

4、所述供应管的一端与所述冷却介质供应箱连接以输出所述冷却介质供应箱内的冷却介质，所述供应管的另一端与所述废气管的第一端连接；所述供水阀设置于所述供应管内以控制所述供应管的冷却介质到所述废气管的通道的开关，所述第一漏水传感器设置于所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处用于感应所述供水阀的泄露情况并产生第一感应信号，所述供应控制器设置于所述供应管内所述第一漏水传感器与所述供水阀之间的位置，所述第一感应信号用于控制所述供应控制器在所述供水阀产生泄露时关闭以控制从所述供水阀泄露的冷却介质不进入所述废气管；

5、所述废气管的第二端与所述洗涤箱连接，所述洗涤箱与所述废水排出管连接，从所述废气管通入的冷却介质通入所述洗涤箱内并从所述废水排出管排出；所述废水排出管内设置有逆流阀以防止所述废水排出管的冷却介质倒灌到所述洗涤箱内，所述第二漏水传感器设置于所述洗涤箱与所述废水排出管的连接口处用于感应所述逆流阀的泄露情况并产生第二感应信号，所述排出控制器设置于所述废水排出管内所述第二漏水传感器与所述逆流阀之间的位置，所述第二感应信号用于控制所述排出控制器在所述逆流阀产生泄露时关闭以控制从所述废水排出管倒灌的冷却介质不进入所述洗涤箱。

6、可选地，所述漏水传感器是通过检测水流流速是否超过预设正常水流流速的范围来判断是否发生泄露的传感器。

7、可选地，所述半导体设备结构还包括废气输入管、废气反应腔和冷凝腔，所述废气输入管与所述废气反应腔的一端连接用于输入废气进行反应处理，所述冷凝腔的一端与所述废气反应腔的另一端连接用于将反应后的废气进行冷凝液化，所述冷凝腔的另一端与所述废气管的第三端连接用于将冷凝后的废气和废液排入所述废气管；废液被所述废气管的第一端输入的冷却介质带至所述废气管的第二端进入所述洗涤箱，废气经过所述废气管的第一端输入的冷却介质冷却后从所述废气管的第四端排出。

8、可选地，所述废气管包括多级子废气管，多级子废气管依次连接，每级子废气管均通过一个供应管与所述冷却介质供应箱连接，每个所述供应管内均设置有供水阀，每个所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处均设置有所述第一漏水传感器，每个所述供应管内所述第一漏水传感器与所述供水阀之间的位置均设置有所述供应控制器。

9、可选地，包括多个所述第一漏水传感器环绕在所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处，包括多个所述第二漏水传感器环绕在所述洗涤箱与所述废水排出管的连接口处。

10、可选地，所述供应控制器为继电器电磁阀，和/或所述排出控制器为继电器电磁阀。

11、可选地，所述半导体设备结构还包括热交换器和回水管，所述回水管的一端与所述洗涤箱连接，所述回水管的另一端通过所述热交换器与所述冷却介质供应箱连接，所述回水管用于将所述洗涤箱内的冷却介质通过所述热交换器进行冷却后回流到所述冷却介质供应箱进行循环利用。

12、可选地，所述半导体设备结构还包括报警单元，所述报警单元与所述漏水传感器相连，当所述漏水传感器检测到所述供水阀或所述逆流阀处于泄露状态时，所述漏水传感器产生的第一感应信号或第二感应信号会触发所述报警单元产生报警信号。

13、可选地，所述报警信号包括蜂鸣声、指示灯闪烁或/和显示屏标识。

14、第二方面，本技术提供一种清洗设备，所述清洗设备包括上述任意一种所述的半导体设备结构，所述清洗设备用于处理废气，所述半导体设备结构用于带走所述清洗设备处理废气时产生的热量。

15、如上所述，本技术的半导体设备结构及清洁设备，具有以下有益效果：

16、本技术通过在洗涤箱内设置漏水传感器，检测供水阀和逆流阀是否发生泄露，以便在供水阀或逆流阀发生异常损坏导致漏水时可以及时通过关闭供应控制器或排出控制器作为备用开关对供水管和废水排出管进行止流控制，从而避免洗涤箱内液位过高产生冷却介质的外漏，对半导体设备结构的外部设备产生安全威胁，提高半导体设备结构的安全可靠性；

17、本技术通过设置多级子废气管，使得多级子废气管可以逐级对废气废液进行冷却，提高冷却效率，同时可以通过选择性地使用子废气管，而不全部使用子废气管，从而降低供水阀被腐蚀发生损坏的概率，提高供水阀的使用寿命；

18、本技术通过设置漏水传感器环绕在连接口处，可以从多个方位感应水流状态，从而提高检测漏水的灵敏度，能够更及时地发现漏水并关闭对应的供应控制器或排出控制器以停止漏水现象；

19、本技术通过设置回水管重复利用，减少需要使用废水排出管进行废水排出的频率，从而降低逆流阀发生损坏的概率；

20、本技术通过将漏水传感器与报警单元连接，可以在发生漏水时第一时间通知工作人员对对应的供水阀或逆流阀进行更换，提高半导体设备结构的安全性。

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【技术保护点】

1.一种半导体设备结构，其特征在于，所述半导体设备结构包括：洗涤箱、废气管、冷却介质供应箱、供应管、供水阀、供应控制器、废水排出管、逆流阀、排出控制器和漏水传感器；所述漏水传感器包括第一漏水传感器和第二漏水传感器；

2.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述漏水传感器是通过检测水流流速是否超过预设正常水流流速的范围来判断是否发生泄露的传感器。

3.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述半导体设备结构还包括废气输入管、废气反应腔和冷凝腔，所述废气输入管与所述废气反应腔的一端连接用于输入废气进行反应处理，所述冷凝腔的一端与所述废气反应腔的另一端连接用于将反应后的废气进行冷凝液化，所述冷凝腔的另一端与所述废气管的第三端连接用于将冷凝后的废气和废液排入所述废气管；废液被所述废气管的第一端输入的冷却介质带至所述废气管的第二端进入所述洗涤箱，废气经过所述废气管的第一端输入的冷却介质冷却后从所述废气管的第四端排出。

4.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述废气管包括多级子废气管，多级子废气管依次连接，每级子废气管均通过一个供应管与所述冷却介质供应箱连接，每个所述供应管内均设置有供水阀，每个所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处均设置有所述第一漏水传感器，每个所述供应管内所述第一漏水传感器与所述供水阀之间的位置均设置有所述供应控制器。

5.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：包括多个所述第一漏水传感器环绕在所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处，包括多个所述第二漏水传感器环绕在所述洗涤箱与所述废水排出管的连接口处。

6.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述供应控制器为继电器电磁阀，和/或所述排出控制器为继电器电磁阀。

7.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述半导体设备结构还包括热交换器和回水管，所述回水管的一端与所述洗涤箱连接，所述回水管的另一端通过所述热交换器与所述冷却介质供应箱连接，所述回水管用于将所述洗涤箱内的冷却介质通过所述热交换器进行冷却后回流到所述冷却介质供应箱进行循环利用。

8.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述半导体设备结构还包括报警单元，所述报警单元与所述漏水传感器相连，当所述漏水传感器检测到所述供水阀或所述逆流阀处于泄露状态时，所述漏水传感器产生的第一感应信号或第二感应信号会触发所述报警单元产生报警信号。

9.根据权利要求8所述半导体设备结构，其特征在于：所述报警信号包括蜂鸣声、指示灯闪烁或/和显示屏标识。

10.一种清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括权利要求1-9中任意一项所述的半导体设备结构，所述清洗设备用于处理废气，所述半导体设备结构用于带走所述清洗设备处理废气时产生的热量。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体设备结构，其特征在于，所述半导体设备结构包括：洗涤箱、废气管、冷却介质供应箱、供应管、供水阀、供应控制器、废水排出管、逆流阀、排出控制器和漏水传感器；所述漏水传感器包括第一漏水传感器和第二漏水传感器；

2.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述漏水传感器是通过检测水流流速是否超过预设正常水流流速的范围来判断是否发生泄露的传感器。

3.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述半导体设备结构还包括废气输入管、废气反应腔和冷凝腔，所述废气输入管与所述废气反应腔的一端连接用于输入废气进行反应处理，所述冷凝腔的一端与所述废气反应腔的另一端连接用于将反应后的废气进行冷凝液化，所述冷凝腔的另一端与所述废气管的第三端连接用于将冷凝后的废气和废液排入所述废气管；废液被所述废气管的第一端输入的冷却介质带至所述废气管的第二端进入所述洗涤箱，废气经过所述废气管的第一端输入的冷却介质冷却后从所述废气管的第四端排出。

4.根据权利要求1所述半导体设备结构，其特征在于：所述废气管包括多级子废气管，多级子废气管依次连接，每级子废气管均通过一个供应管与所述冷却介质供应箱连接，每个所述供应管内均设置有供水阀，每个所述供应管与所述废气管的第一端的连接口处均设置有所述第一漏水传感器，每个所述供应管内所述第一漏水传感器与所述供水阀之间的位置均设置有所述供应控制器。

【专利技术属性】
技术研发人员：王飞，盛春鸣，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：