System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 光源装置制造方法及图纸_技高网

光源装置制造方法及图纸

技术编号:42089792 阅读:7 留言:0更新日期:2024-07-19 17:04
提供一种能够提高由能量束生成的等离子体的发光效率的光源装置。有关本发明专利技术的一形态的光源装置是通过能量束将液体原料等离子体化而将放射线取出的光源装置,具备旋转体、原料供给部和膜厚调整部。上述旋转体被配置在上述能量束入射的位置处,具有与上述能量束的入射区域重叠地设置的槽部。上述原料供给部对上述槽部供给上述液体原料。上述膜厚调整部调整上述液体原料的膜厚,以使得在上述能量束的入射区域上述液体原料的表面成为与上述槽部对应的凹面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及能够应用于x射线或极紫外光等的射出的光源装置


技术介绍

1、以往,x射线被用于医疗用用途、工业用用途、研究用用途。在医疗用领域,x射线被用于胸部x射线相片摄影、牙科x射线相片摄影、ct(computer tomogram)之类的用途。

2、在工业用领域,x射线被用于观察构造物、焊接部等的物质内部的非破坏检查、断层非破坏检查之类的用途。

3、在研究用领域中,x射线被用于用来将物质的结晶构造解析的x射线衍射、用来分析物质的构成元素的x射线分光(荧光x射线分析)之类的用途。

4、x射线能够使用x射线管产生。

5、x射线管在其内部中具有一对电极(阳极、阴极)。如果使电流流到阴极灯丝中并加热,对阳极与阴极间施加高电压,则从灯丝产生的负的热电子高速地碰撞到处于阳极表面的靶极上,从该靶极产生x射线。

6、此外,在x射线管中,已知有将阳极侧的靶极作为液体金属喷射器、通过对该靶极照射电子束而将高亮度的x射线取出的技术。

7、x射线中的处于波长比较长的软x射线区域中的波长13.5nm的极紫外光(以下也称作“euv(extreme ultra violet)光”)近年来被用作曝光光。

8、这里,构成微细样式的euv光刻用的掩模的基材是作为层叠构造而在由低热膨胀性玻璃构成的基板之上设有用于使euv光反射的多层膜(例如,钼和硅)的反射镜。

9、并且,通过在多层膜上布图将波长13.5nm的放射线吸收的材料布图,构成euv掩模。

10、如果euv掩模的不能容许的缺陷的大小与以往的arf掩模的情况相比大幅变小,则难以检测到。

11、所以,作为euv掩模的检查,通常进行被称作光化检查(actinic inspection),进行使用与光刻的作业波长一致的波长的放射线的检查。

12、例如,如果使用波长13.5nm的放射线进行检查,则能够以比l0nm更好的解析力来检测缺陷。

13、一般作为euv光源装置可以举出dpp(discharge produced plasma)光源装置、ldp(laser assisted discharge produced plasma)光源装置及lpp(laser producedplasma)光源装置。

14、dpp方式的euv光源装置是对被供给了包含euv放射种(气相的等离子体原料)的放电气体的电极间施加高电压而通过放电生成高密度高温等离子体、利用从这里放射的极紫外光的装置。

15、ldp光源装置是将dpp光源装置改良而成的,例如是以下这样的装置:对产生放电的电极(放电电极)表面供给包含euv放射种的液体状的高温等离子体原料(例如,sn(锡)、li(锂)等),对该原料照射激光束等的能量束(例如,电子束、激光束等)而将该原料气化,然后,通过放电来生成高温等离子体。

16、lpp光源装置是通过将激光对于作为euv放射用靶极材料的被以微小的液滴状喷出的锡(sn)或锂(li)等的微滴聚光、将该靶极材料激励而产生等离子体的装置。

17、这样,作为产生处于软x射线区域中的euv光的euv光源装置,可以使用dpp方式(ldp方式)或lpp方式的光源装置。

18、另一方面,在euv光源装置中,dpp方式(ldp方式)的装置由于最终通过电极间的放电来生成等离子体,所以容易产生起因于euv原料的碎片。

19、lpp方式的装置由于以作为euv原料的微细的锡的微滴为靶极,使激励用激光聚光于其上,所以光源的构造复杂。此外,难以将锡的微滴稳定地滴落/供给,难以稳定地生成euv光。

20、在专利文献1中,提出了对圆盘状的旋转体涂布液体状的x射线产生用的靶极原料、对该涂布的液体状原料照射能量束(激光束)来得到x射线的方法。根据该方法,能够以比较简单的结构得到高亮度的x射线。

21、在将专利文献1所记载的方法应用于euv光源装置的情况下,虽然相当于所谓lpp方式,但不需要将液体状的euv原料作为微滴供给。因此,euv原料供给较容易,并且能够可靠地对液体状的euv原料照射激光束,能够以比较简单的结构的装置得到euv放射。

22、现有技术文献

23、专利文献

24、专利文献1:日本特许第6658324号公报

25、专利文献2:日本特许第4893730号公报


技术实现思路

1、专利技术要解决的课题

2、在使用能量束使原料气化而产生等离子体的情况下,有时气化的原料的空间上的扩散等与放射线的强度有关。

3、例如在专利文献2所记载的ldp方式的光源装置中,在两个放电电极之间通过能量束使原料气化,对各电极施加高电压而生成放电等离子体。此时,通过使用能量束或棒状部件在原料的表面上形成凹部,抑制气化的原料的空间上的扩散,有效率地产生放电等离子体。

4、另一方面,在如专利文献1那样使用旋转体的lpp方式中,用能量束使液体状原料气化,通过对该气化的原料继续照射能量束,将原料加热激励,生成高温等离子体。如果该高温等离子体的密度较低,则可以想到发光效率会下降。因此,要求提高由能量束生成的等离子体的发光效率的技术。

5、鉴于以上这样的情况,本专利技术的目的是提供一种能够提高由能量束生成的等离子体的发光效率的光源装置。

6、用来解决课题的手段

7、为了达成上述目的,有关本专利技术的一技术方案的光源装置是通过能量束将液体原料等离子体化而将放射线取出的光源装置,具备旋转体、原料供给部和膜厚调整部。

8、上述旋转体被配置在上述能量束入射的位置处,具有与上述能量束的入射区域重叠地设置的槽部。

9、上述原料供给部对上述槽部供给上述液体原料。

10、上述膜厚调整部调整上述液体原料的膜厚,以使得在上述能量束的入射区域中上述液体原料的表面成为与上述槽部对应的凹面。

11、在该光源装置中,在配置在能量束入射的位置处的旋转体上,以与能量束的入射区域重叠的方式设置槽部,对于槽部供给液体原料。调整该液体原料的膜厚,在能量束的入射区域中,在液体原料的表面上形成与槽部对应的凹面。由该凹面限制原料在气化时膨胀的方向,能够提高由能量束生成的等离子体的发光效率。

12、上述槽部也可以被设置在面向上述旋转体的旋转轴的位置处。

13、上述旋转体也可以具有圆盘状的旋转体主体。在此情况下,上述槽部也可以被设置在上述旋转体主体的一方的主面上。

14、上述槽部也可以是沿着上述旋转体主体的径向的截面形状为三角形、矩形或圆弧形的环状的槽。

15、上述膜厚调整部也可以包括削刮器,所述削刮器从上述旋转体独立地被固定在上述槽部的正上方,将与上述旋转体一起旋转的上述液体原料的一部分削掉。

16、上述削刮器也可以是将上述旋转体的外缘夹入的沟槽构造的部件。

17、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光源装置,通过能量束将液体原料等离子体化而将放射线取出,其特征在于,

2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,

3.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

4.如权利要求3所述的光源装置,其特征在于,

5.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

6.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,

7.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,

8.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

9.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

10.如权利要求9所述的光源装置,其特征在于,

11.如权利要求9所述的光源装置,其特征在于,

12.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

13.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

14.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

15.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种光源装置,通过能量束将液体原料等离子体化而将放射线取出,其特征在于,

2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,

3.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

4.如权利要求3所述的光源装置,其特征在于,

5.如权利要求1或2所述的光源装置,其特征在于,

6.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,

7.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,

8.如权利要求1或2...

【专利技术属性】
技术研发人员:寺本雄介
申请(专利权)人:优志旺电机株式会社
类型:发明
国别省市:

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