【技术实现步骤摘要】
本公开涉及显示，具体而言，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
1、micro/mini-led为微型化led阵列结构，具有自发光显示特性，相较于同为自发光显示的oled技术，micro led不仅效率较高、寿命较长，材料不易受到环境影响而相对稳定，也能避免产生残影现象。
2、在一些应用中，需要使用小屏进行无缝拼接实现超大屏显示，相关技术中，存在esd不良问题。
3、需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。
2、根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，包括像素电路，所述像素电路包括数据写入晶体管，所述数据写入晶体管的第一极连接数据信号端；所述显示面板还包括：衬底基板；有源层，位于所述衬底基板的一侧，所述有源层包括：第一有源结构，包括第一有源部和与其连接的第二有源部，所述第一有源部用于形成所述数据写入晶体管的沟道区，所述第二有源部用于形成所述数据写入晶体管的第一极；第二导电层，位于所述有源层背离所述衬底基板的一侧，所述第二导电层包括：数据信号线，通过过孔连接所述第二有源部；第一转接部，连接于所述数据信号线的端部，所述第一转接部的延伸方向与所述数据信号线的延伸方向相同；第二转接部，通过第三转接部连接所述第一转接部，所述第三转接部与所述第一转接部和
3、在本公开的示例性实施例中，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积小于所述导电部在所述衬底基板的正投影面积。
4、在本公开的示例性实施例中，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积与所述导电部在所述衬底基板的正投影面积之比小于等于1/2。
5、在本公开的示例性实施例中，所述第二导电层的材料具有第二电阻率，所述第三导电层的材料具有第三电阻率，所述第二电阻率大于所述第三电阻率。
6、在本公开的示例性实施例中，所述第四转接部与所述第二转接部通过第一过孔连接，所述第一过孔的数量为多个。
7、在本公开的示例性实施例中，所述第三转接部位于所述第二导电层。
8、在本公开的示例性实施例中，所述显示面板还包括：第一导电层，位于所述有源层和所述第二导电层之间；其中，所述第三转接部位于所述第一导电层，所述第三导电部分别通过过孔连接所述第一转接部和所述第二转接部；所述第一导电层的材料具有第一电阻率，所述第二导电层的材料具有第二电阻率，所述第一电阻率大于所述第二电阻率。
9、在本公开的示例性实施例中，所述第三转接部通过第二过孔连接所述第二转接部，所述第三转接部通过第三过孔连接所述第一转接部；其中，所述第二过孔的数量为多个，和/或，所述第三过孔的数量为多个。
10、在本公开的示例性实施例中，多个所述第二过孔沿行列方向阵列分布。
11、在本公开的示例性实施例中，所述第一有源结构在所述衬底基板的正投影沿行方向延伸，所述数据信号线在所述衬底基板的正投影沿列方向延伸。
12、在本公开的示例性实施例中，所述有源层还包括：第二有源结构，在所述衬底基板的正投影沿行方向延伸，所述第二有源结构沿列方向位于所述第一有源结构的一侧，所述第二有源结构包括第四有源部和连接于所述第四有源部一侧的第五有源部，所述第四有源部用于形成所述数据写入晶体管的另一沟道区，所述第五有源部用于形成所述数据写入晶体管的第一极，且所述第五有源部通过过孔连接所述数据信号线。
13、在本公开的示例性实施例中，所述第二有源结构的数量为一个或多个；当所述第二有源结构为多个时，多个所述第二有源部在列方向上间隔分布。
14、在本公开的示例性实施例中，所述第二有源结构与所述第一有源结构分离。
15、在本公开的示例性实施例中，所述第二有源结构在列方向上连接于所述第一有源结构的一侧。
16、在本公开的示例性实施例中，所述第一导电层还包括：栅极信号线，所述栅极信号线包括主体部和凸起部，所述主体部在所述衬底基板的正投影沿行方向延伸，所述凸起部沿列方向连接于所述主体部的一侧，所述凸起部在所述衬底基板的正投影覆盖所述第一有源部和所述第四有源部在所述衬底基板的正投影，所述凸起部用于形成所述数据写入晶体管的栅极；其中，所述第二有源结构在所述衬底基板的正投影位于所述第一有源结构在所述衬底基板的正投影和所述主体部在所述衬底基板的正投影之间。
17、在本公开的示例性实施例中，所述显示面板还包括：绝缘层，在所述第三导电层背离所述衬底基板的一侧覆盖所述第三导电层，所述绝缘层上具有暴露所述导电部的至少部分结构的第四过孔；扇出区，位于所述显示面板的非显示侧，所述扇出区包括多条走线；芯片，位于所述显示面板的非显示侧，所述芯片绑定连接于扇出区的所述走线；侧边走线，设置于所述显示面板的侧壁且沿所述衬底基板的厚度方向延伸，所述侧边走线的一端延伸至显示侧通过所述第四过孔连接所述导电部，另一端延伸至非显示侧连接位于所述扇出区的走线；其中，位于所述扇出区的走线以及所述侧边走线在形成所述第四过孔后形成。
18、根据本公开的第二方面，还提供一种显示面板制备方法，用于制备本公开任意实施例所述的显示面板，所述方法包括：利用构图工艺在所述有源层形成第一有源结构，第一有源结构，包括第一有源部和与其连接的第二有源部，所述第一有源部用于形成所述数据写入晶体管的沟道区，所述第二有源部用于形成所述数据写入晶体管的第一极；利用构图工艺在所述第二导电层形成数据信号线、第一转接部和第二转接部，其中，所述数据信号线通过过孔连接所述第二有源部，所述第一转接部连接于所述数据信号线的端部，且所述第一转接部的延伸方向与所述数据信号线的延伸方向相同；所述第二转接部通过第三转接部连接所述第一转接部，所述第三转接部与所述第一转接部和所述第二转接部位于同一导电层或不同导电层；利用构图工艺在第三导电层形成导电部和第四转接部，所述导电部位于所述显示面板的显示区边沿，所述导电部在所述数据信号线的延伸方向上与所述数据信号线相对，所述导电部用于形成所述显示面板的绑定转接部；所述第四转接部连接于所述导电部面向所述数据信号线的一侧；所述第二转接部的第一端连接所述第三转接部，第二端通过过孔连接所述第四转接部，且所述第四转接部在所述衬底基板的正投影覆盖所述第本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括像素电路，所述像素电路包括数据写入晶体管，所述数据写入晶体管的第一极连接数据信号端；所述显示面板还包括：
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积小于所述导电部在所述衬底基板的正投影面积。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积与所述导电部在所述衬底基板的正投影面积之比小于等于1/2。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二导电层的材料具有第二电阻率，所述第三导电层的材料具有第三电阻率，所述第二电阻率大于所述第三电阻率。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部与所述第二转接部通过第一过孔连接，所述第一过孔的数量为多个。
6.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第三转接部位于所述第二导电层。
7.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，多个所述第二过孔沿行列方向阵列分布。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有源结构在所述衬底基板的正投影沿行方向延伸，所述数据信号线在所述衬底基板的正投影沿列方向延伸。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述有源层还包括：
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二有源结构的数量为一个或多个；
13.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二有源结构与所述第一有源结构分离。
14.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二有源结构在列方向上连接于所述第一有源结构的一侧。
15.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电层还包括：
16.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
17.一种显示面板制备方法，其特征在于，用于制备权利要求1-16任一项所述的显示面板，所述方法包括：
18.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-16任一项所述的显示面板。
...【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括像素电路，所述像素电路包括数据写入晶体管，所述数据写入晶体管的第一极连接数据信号端；所述显示面板还包括：
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积小于所述导电部在所述衬底基板的正投影面积。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部在所述衬底基板的正投影面积与所述导电部在所述衬底基板的正投影面积之比小于等于1/2。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二导电层的材料具有第二电阻率，所述第三导电层的材料具有第三电阻率，所述第二电阻率大于所述第三电阻率。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第四转接部与所述第二转接部通过第一过孔连接，所述第一过孔的数量为多个。
6.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第三转接部位于所述第二导电层。
7.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第三转接部通过第二过孔连接所述第二转接部，所述第三转接部通过第三...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘冬妮，玄明花，张振宇，张舜航，张震，李佩柔，林允植，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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