【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及能够在对准标记的检测中应用的检测装置、校准用显微镜及曝光装置。
技术介绍
1、在通过光刻制造半导体元件、印刷基板或液晶基板等的图案的工序中，使用曝光装置。曝光装置在形成有图案的掩模与要被转印该图案的工件以成为规定的位置关系的方式对位(校准)之后，经由掩模向工件照射曝光用光，将掩模图案转印(曝光)到工件。
2、在专利文献1及2中，在上述的曝光装置中，公开了用于进行掩模与工件的对位的校准用显微镜。利用校准用显微镜对形成于掩模的掩模标记和形成于工件的工件标记进行拍摄。基于拍摄到的掩模标记及工件标记各自的图像，计算掩模标记及工件标记各自的位置坐标。移动掩模及工件中的至少一方，以使两者的位置变为预先设定的位置关系。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2011-66185号公报
6、专利文献2：日本特开2021-117237号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、近年来，配线图案等的微细化日益发展，要求曝光精度的进一步提高。因而，要求能够提高掩模与工件的对位的精度的技术。
3、鉴于以上情况，本专利技术的目的在于提供一种能够高精度地进行掩模与工件的对位的检测装置、校准用显微镜及曝光装置。
4、用于解决课题的手段
5、为了达成上述目的，本专利技术的一方式的检测装置具备校准用显微镜和位置检测部。
6、所述校准用显微镜分别配置于向曝光
7、所述位置检测部基于由所述校准用显微镜拍摄到的所述掩模标记的图像及所述工件标记的图像，分别检测所述掩模标记的位置及所述工件标记的位置。
8、另外，所述校准用显微镜具有拍摄部、将所述第一光及所述第二光分别分割并向所述拍摄部出射的分束器和一个以上的像差校正透镜，所述分束器具有将所述第一光及所述第二光分别分割的光分割面和以将所述光分割面夹在中间的方式相互连接的第一部件及第二部件，且以供所述第一光入射的第一入射面、供所述第一光出射的第一出射面、供所述第二光入射的第二入射面以及供所述第二光出射的第二出射面中的任一方的面方向均与所述光分割面的面方向不同的方式构成。
9、另外，所述一个以上的像差校正透镜包含被配置在所述第一光的到所述拍摄部为止的光路即第一光路上的一个以上的第一像差校正透镜以及被配置在所述第二光的到所述拍摄部为止的第二光路上的一个以上的第二像差校正透镜。
10、在该检测装置中，作为校准用显微镜所具有的分束器的结构，采用利用第一部件及第二部件夹着将第一光及第二光分别分割的光分割面的结构。由此，能够稳定地发挥光分割面对第一光及第二光各自的分割光的功能。另外，由于在第一光路及第二光路上配置像差校正透镜，因此能够高精度地拍摄掩模标记的图像及工件标记的图像，能够高精度地检测掩模标记的位置及工件标记的位置。其结果，能够高精度地进行曝光用掩模与工件的对位。
11、所述分束器也可以是立方体型分束器。
12、所述分束器也可以以所述第一入射面、所述第一出射面、所述第二入射面及所述第二出射面中的任一方与所述光分割面的面方向的交叉角度均大于30度的方式构成。
13、所述分束器也可以以所述第一入射面、所述第一出射面、所述第二入射面及所述第二出射面中的任一方与所述光分割面的面方向的交叉角度均为45度的方式构成。
14、所述分束器也可以以所述第一入射面相对于所述第一光路的交叉角度包含在75度至105度的范围内的方式构成。
15、所述分束器也可以以所述第一出射面相对于所述第一光路的交叉角度包含在75度至105度的范围内的方式构成。
16、所述分束器也可以以所述第二入射面相对于所述第二光路的交叉角度包含在75度至105度的范围内的方式构成。
17、所述分束器也可以以所述第二出射面相对于所述第二光路的交叉角度包含在75度至105度的范围内的方式配置。
18、所述一个以上的第一像差校正透镜也可以配置于与所述第一入射面对置的位置以及与所述第一出射面对置的位置中的至少一方。该情况下，所述一个以上的第二像差校正透镜也可以配置于与所述第二入射面对置的位置以及与所述第二出射面对置的位置中的至少一方。
19、所述一个以上的第一像差校正透镜也可以配置于与供所述第一光及所述第二光双方入射的共用入射面对置的位置以及与供所述第一光及所述第二光双方出射的共用出射面对置的位置中的至少一方。该情况下，所述一个以上的第二像差校正透镜也可以配置于与所述共用入射面对置的位置以及与所述共用出射面对置的位置中的至少一方。
20、所述第一光路及所述第二光路也可以具有共用光路。该情况下，所述一个以上的像差校正透镜也可以包含配置于所述共用光路、作为所述第一像差校正透镜发挥功能并且作为所述第二像差校正透镜发挥功能的一个以上的共用校正透镜。
21、所述一个以上的像差校正透镜也可以由所述一个以上的共用校正透镜构成。
22、所述共用光路也可以包含从所述分束器向所述拍摄部出射的所述第一光及所述第二光的光路。该情况下，所述一个以上的共用校正透镜也可以配置于与供在所述共用光路上从所述分束器朝向所述拍摄部前进的所述第一光及所述第二光双方出射的共用出射面对置的位置。
23、所述第一部件及所述第二部件也可以由折射率相互相同的材料构成。
24、所述第一光也可以是曝光用光。该情况下，所述第二光也可以是非曝光用光。
25、本专利技术的一方式的校准用显微镜具备拍摄部、所述分束器和所述一个以上的像差校正透镜。
26、本专利技术的一方式的曝光装置包含所述检测装置，并且还具备光出射部、掩模台和工件台。
27、所述光出射部出射所述曝光用光。
28、所述掩模台保持所述曝光用掩模。
29、所述工件台保持所述工件。
30、所述掩模台及所述工件台中的至少一方构成为能够移动。
31、专利技术效果
32、如上，根据本专利技术，能够高精度地进行掩模与工件的对位。此外，不一定限定于此处记载的效果，也可以是本公开中记载的任何效果。
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1.一种检测装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
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15.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
16.一种校准用显微镜，其特征在于，具备：
17.一种曝光装置，其特征在于，
...【技术特征摘要】
1.一种检测装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，
9.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，<...
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