【技术实现步骤摘要】
本技术涉及气体静态稀释,尤其是气体静态稀释装置。
技术介绍
1、气体静态稀释,是把一定量的原料气和稀释气加入已知体积的容器中混合均匀的过程。根据加入的原料气和稀释气的体积,可以计算出原料气的稀释比例。然而,在某些情况下,仅通过一次稀释,原料气的稀释比例无法到达要求,此时需要进行二次稀释。
2、cn218107566u公开了高精度静态稀释仪,包括稀释罐以及连接在稀释罐上的稀释气进气管、标气进气管以及二次稀释气进气管,使用时,先从稀释气进气管向稀释罐内通入稀释气,再从标气进气管向稀释罐通入标气,最后从二次稀释气进气管通入二次稀释气,实现标气的二次稀释。并且高精度静态稀释仪还采用了完全惰性化的管路,避免气体吸附在管路内壁,影响稀释比例的问题。
3、然而,cn218107566u中在各个进气管上设置电磁阀,以控制对应进气管的通断,这会带来以下两方面问题:
4、第一方面,由于电磁阀内部无法进行惰性化涂覆,气体不可避免的会吸附在电磁阀上,在二次稀释的过程中,原料气的浓度已经比较低,此时一旦出现气体吸附的问题,会严重影响稀释比例。
5、第二方面,电磁阀只能将进气管完全打开或完全关闭,无法调节进气管中气体的流量。
6、虽然比例阀能够调整阀门的开度,从而调整气体流量,但即使使用比例阀来替代电磁阀,上述第一方面的问题依然存在,因为比例阀内部也不能做惰性涂覆。
技术实现思路
1、本技术实施例的目的是提供气体静态稀释装置,通过在二次稀释气管路上设
2、为实现上述目的,本技术实施例提供了气体静态稀释装置,包括:
3、壳体,所述壳体具有混合腔;
4、二次稀释气管路,所述二次稀释气管路的出口与所述混合腔连通;
5、气阻,所述气阻设置在所述二次稀释气管路上,所述气阻内部具有惰性涂覆层;以及
6、压力控制组件,所述压力控制组件设置在所述气阻的入口处,所述压力控制组件用于调节所述气阻的入口处的压力,以便调节经过所述气阻的气体流量。
7、在一些实施例中,所述气体静态稀释装置还包括:
8、支路,所述支路的入口连接于所述二次稀释气管路,并在所述二次稀释气管路上形成连接点,所述连接点位于所述气阻的入口处的前侧,所述支路的出口作为排空口,所述压力控制组件位于所述支路上。
9、在一些实施例中,所述压力控制组件包括:
10、第二压力传感器,所述第二压力传感器检测所述连接点处的压力;
11、比例阀,所述比例阀位于所述支路上,控制所述支路的开度;以及
12、控制单元,所述控制单元与所述第二压力传感器和所述比例阀耦合。
13、在一些实施例中,所述压力控制组件是电子流量控制器。
14、在一些实施例中,所述气体静态稀释装置还包括:
15、稀释气管路,所述稀释气管路的出口与所述混合腔连通,所述稀释气管路上设置有第一控制阀。
16、在一些实施例中,所述第一控制阀为比例阀或电磁阀。
17、在一些实施例中,所述气体静态稀释装置还包括:
18、原料气管路,所述原料气管路的出口与所述混合腔连通,所述原料气管路上设置有第二控制阀。
19、在一些实施例中,所述第二控制阀为比例阀或电磁阀。
20、在一些实施例中,所述气体静态稀释装置还包括:
21、第一压力传感器,所述第一压力传感器的检测端位于所述混合腔内。
22、在一些实施例中,所述气体静态稀释装置还包括:
23、出气管,所述出气管的入口与所述混合腔连通。
24、在一些实施例中,稀释气管路、原料气管路以及所述二次稀释气管路上分别连接有加热装置。
25、与现有技术相比,本技术实施例的有益效果是:在二次稀释气管路上设置气阻,并且气阻内部具有惰性涂覆层,从而当气体在二次稀释气管路上流动时不会发生吸附问题。此外,在气阻的入口处的前端设置压力控制组件,用来调节气阻的入口处的压力,从而调节经过气阻的气体流量,达到改变气体流量的目的,这样一方面能够避免由于气阻中气体流量过小,使得充气时间过程的问题;另一方面能够避免气阻中气体流量过大,使得混合腔中压力容易超出指定压力的问题。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.气体静态稀释装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
3.根据权利要求2所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述压力控制组件(73)包括:
4.根据权利要求1~3任意一项所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述压力控制组件(73)是电子流量控制器。
5.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
6.根据权利要求5所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述第一控制阀(21)为比例阀或电磁阀。
7.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
8.根据权利要求7所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述第二控制阀为比例阀或电磁阀。
9.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
10.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,稀释气管路(2)、原料气管路以及所述二次稀释气管路(7)上分别连接有加热
...【技术特征摘要】
1.气体静态稀释装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
3.根据权利要求2所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述压力控制组件(73)包括:
4.根据权利要求1~3任意一项所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述压力控制组件(73)是电子流量控制器。
5.根据权利要求1所述的气体静态稀释装置,其特征在于,所述气体静态稀释装置还包括:
6.根据权利要求5所述的气体静态稀...
【专利技术属性】
技术研发人员:可贵秋,曾建强,孙振宇,刘峰,吕顺祯,任文华,刘斐靖,侯立贤,王昊,张晓红,王雷,吕云雷,
申请(专利权)人:北京博赛德科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。