【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及烘干控制，尤其是涉及一种烘箱段的箔材波动控制系统和控制方法。
技术介绍
1、极片是锂电池的重要组成部件之间，在极片的制备过程中，主要包括向铜箔或铝箔等基材上涂覆浆料、烘干、辊压及裁切等工序。现有的涂布设备的烘干系统通常使用烘箱将空气加热的方法把箔材烘干，但由于箔材带在烘箱中没有支撑，并且烘箱中的气流风速和气流温度往往并不均匀，经常会出现局部指数过高或过低的现象，使得箔材容易出现波动甚至卷边，严重影响了箔材的表面质量。也就是说，利用现有烘干系统对箔材进行烘干时，存在波动大、烘干质量不稳定的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种烘箱段的箔材波动控制系统和控制方法，以缓解现有技术中存在的烘箱内箔材波动大、烘干质量不稳定的技术问题。
2、第一方面，本专利技术实施例提供了一种烘箱段的箔材波动控制系统，该系统包括：箔材波动检测结构和箔材波动调节结构；上述箔材波动检测结构包括波动采集模块和波动分析模块；上述波动采集模块设置于烘箱侧面，用于采集上述烘箱内箔材的侧面图像并发送给上述波动分析模块；上述波动分析模块用于根据上述箔材的侧面图像的线条轨迹分析是否存在异常波动；上述箔材波动调节结构用于调节上述烘箱内的风压，从而控制上述烘箱内箔材的波动。
3、在一些可选的实现中，上述烘箱段包括若干节烘箱；每节上述烘箱对应至少一个上述波动采集模块和至少一组上述箔材波动调节结构；每组上述箔材波动调节结构包括至少一组风阀和至少一个风机，每组风阀包括对称设置于上述烘
4、在一些可选的实现中，每节上述烘箱对应一个上述波动采集模块；上述波动采集模块的成像视野覆盖整个当前节上述烘箱的内部范围；上述波动采集模块用于采集当前节的上述烘箱内部箔材段的第一侧面图像；上述波动分析模块用于将上述第一侧面图像的线条轨迹与目标箔材位置进行对比，判断当前节的上述烘箱内部箔材段的位置与上述目标箔材位置的差值是否超出阈值范围；如果是，则确定当前上述箔材段存在异常波动。
5、在一些可选的实现中，每节上述烘箱对应一组上述箔材波动调节结构；上述箔材波动调节结构用于在上述当前箔材段存在异常波动时，调节上述风阀的开度，和/或调节上述风机的参数，从而控制上述当前箔材段的波动。
6、在一些可选的实现中，每节上述烘箱对应n个上述波动采集模块，n＞1；每节上述烘箱内部包括n个子箔材段，n个上述子箔材段连接组成当前节上述烘箱的整个箔材；每个上述波动采集模块与当前节上述烘箱内部的一个上述子箔材段对应；每个上述波动采集模块的成像视野覆盖当前节上述烘箱内部的一个上述子箔材段。
7、在一些可选的实现中，每个上述波动采集模块用于采集与其对应的上述子箔材段的第二侧面图像；上述波动分析模块用于将上述第二侧面图像的线条轨迹与目标箔材的相应位置进行对比，判断当前上述子箔材段的位置与上述目标箔材相应位置的差值是否超出阈值范围；如果是，则确定当前上述子箔材段存在异常波动。
8、在一些可选的实现中，每节上述烘箱对应m组上述风阀，m＞1；每节上述烘箱内部包括n个子箔材段，n个上述子箔材段连接组成当前节上述烘箱的整个箔材；每个上述子箔材段对应至少一组上述风阀；上述箔材波动调节结构用于在上述当前子箔材段存在异常波动时，调节与上述当前子箔材段对应的上述风阀的开度，和/或调节上述风机的参数，从而控制上述当前子箔材段的波动。
9、第二方面，本专利技术实施例提供了一种烘箱段的箔材波动控制方法，该方法应用于第一方面任意一项上述的烘箱段的箔材波动控制系统，该方法包括：利用波动采集模块采集上述烘箱内箔材的侧面图像并发送给波动分析模块；上述波动分析模块根据上述箔材的侧面图像的线条轨迹分析是否存在异常波动；利用箔材波动调节结构调节上述烘箱内的风压，从而控制上述烘箱内箔材的波动。
10、第三方面，本专利技术实施例提供了一种电子设备，包括存储器、处理器，所述存储器中存储有可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述第二方面任一项所述的方法的步骤。
11、第四方面，本专利技术实施例提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有机器可运行指令，所述计算机可运行指令在被处理器调用和运行时，所述计算机可运行指令促使所述处理器运行上述第二方面任一项所述的方法。
12、本专利技术提供了一种烘箱段的箔材波动控制系统和控制方法，该系统包括：箔材波动检测结构和箔材波动调节结构；箔材波动检测结构包括波动采集模块和波动分析模块；波动采集模块设置于烘箱侧面，用于采集烘箱内箔材的侧面图像并发送给波动分析模块；波动分析模块用于根据箔材侧面图像的线条轨迹分析是否存在异常波动；箔材波动调节结构用于调节烘箱内的风压，从而控制烘箱内箔材的波动；该系统解决了现有烘干系统对箔材进行烘干时，箔材波动大、烘干质量不稳定的技术问题，达到了提高箔材波动控制精准度、提高箔材加工质量的技术效果。
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1.一种烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，包括：箔材波动检测结构和箔材波动调节结构；
2.根据权利要求1所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，所述烘箱段包括若干节烘箱；每节所述烘箱对应至少一个所述波动采集模块和至少一组所述箔材波动调节结构；每组所述箔材波动调节结构包括至少一组风阀和至少一个风机，每组风阀包括对称设置于所述烘箱内部箔材段上方和所述箔材段下方的两个风阀。
3.根据权利要求2所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应一个所述波动采集模块；所述波动采集模块的成像视野覆盖整个当前节所述烘箱的内部范围；
4.根据权利要求3所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应一组所述箔材波动调节结构；所述箔材波动调节结构用于在当前所述箔材段存在异常波动时，调节所述风阀的开度，和/或调节所述风机的参数，从而控制当前所述箔材段的波动。
5.根据权利要求2所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应N个所述波动采集模块，N＞1；每节所述烘箱内部包括N个子箔材段，N个所述子箔材段连接组成
6.根据权利要求5所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每个所述波动采集模块用于采集与其对应的所述子箔材段的第二侧面图像；
7.根据权利要求6所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应M组所述风阀，M＞1；每节所述烘箱内部包括N个子箔材段，N个所述子箔材段连接组成当前节所述烘箱的整个箔材；每个所述子箔材段对应至少一组所述风阀；
8.一种烘箱段的箔材波动控制方法，其特征在于，应用于权利要求1至7任意一项所述的烘箱段的箔材波动控制系统，所述方法包括：
9.一种电子设备，包括存储器、处理器，所述存储器中存储有可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述权利要求8所述的方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有机器可运行指令，所述计算机可运行指令在被处理器调用和运行时，所述计算机可运行指令促使所述处理器运行所述权利要求8所述的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，包括：箔材波动检测结构和箔材波动调节结构；
2.根据权利要求1所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，所述烘箱段包括若干节烘箱；每节所述烘箱对应至少一个所述波动采集模块和至少一组所述箔材波动调节结构；每组所述箔材波动调节结构包括至少一组风阀和至少一个风机，每组风阀包括对称设置于所述烘箱内部箔材段上方和所述箔材段下方的两个风阀。
3.根据权利要求2所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应一个所述波动采集模块；所述波动采集模块的成像视野覆盖整个当前节所述烘箱的内部范围；
4.根据权利要求3所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应一组所述箔材波动调节结构；所述箔材波动调节结构用于在当前所述箔材段存在异常波动时，调节所述风阀的开度，和/或调节所述风机的参数，从而控制当前所述箔材段的波动。
5.根据权利要求2所述的烘箱段的箔材波动控制系统，其特征在于，每节所述烘箱对应n个所述波动采集模块，n＞1；每节所述烘箱内部包括n个子...
【专利技术属性】
技术研发人员：李京键，李修土，彭建林，
申请(专利权)人：深圳市曼恩斯特科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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