【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开大体上涉及成像叠对计量且更特定来说，涉及沿着多个方向的同时隔离成像叠对计量测量。
技术介绍
1、基于图像的叠对计量通常通过对使用不同光刻曝光制造的样本上的多个特征成像且确定经成像特征的相对位置而产生叠对测量。以此方式，叠对测量可提供光刻曝光之间的配准误差的指示。然而，对于制造更小特征大小的需要导致更严格叠对公差。因此，需要开发以高准确度及处理能力提供叠对计量的系统及方法。
技术实现思路
1、根据本公开的一或多个说明性实施例，公开一种光学计量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含用于实施用于特性化样本上的叠对目标的计量配方的叠对计量工具。根据本公开的一或多个说明性实施例，所述叠对目标包含沿着第一测量方向分布的第一方向周期性特征及在所述样本的第二组层中的第二方向周期性特征。在另一说明性实施例中，所述叠对计量工具包含用于使用一或多个第一照明光束及一或多个第二照明光束照明所述叠对目标的照明光学器件，其中所述第一照明光束中的至少一者及所述第二照明光束中的至少一者同时入射于所述叠对目标上。在另一说明性实施例中，所述叠对计量工具进一步包含可配置以基于所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标的衍射在一或多个检测器上产生所述叠对目标的图像的集光光学器件。在另一说明性实施例中，所述第一照明光束的衍射阶促成仅所述第一方向周期性特征的经解析图像形成，且所述第二照明光束的衍射阶促成仅所述第二方向周期性特征的经解析图像形成。在另一说明性实施例中，所述系统进一步包含用于基于所述图像产生沿着所述
2、根据本公开的一或多个说明性实施例，公开一种光学计量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含用于在实施计量配方时使用第一照明光束及第二照明光束照明样本上的叠对目标的照明光学器件，其中所述第一照明光束中的至少一者及所述第二照明光束中的至少一者同时入射于所述叠对目标上。在另一说明性实施例中，根据所述计量配方的所述叠对目标包含沿着第一测量方向分布的第一方向周期性特征及沿着不同于所述第一测量方向的第二测量方向分布的第二方向周期性特征。在另一说明性实施例中，所述系统进一步包含用于基于所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标的衍射在一或多个检测器上产生所述叠对目标的图像的集光光学器件。在另一说明性实施例中，所述第一照明光束的衍射阶促成仅所述第一方向周期性特征的经解析图像形成，且所述第二照明光束的衍射阶促成仅所述第二方向周期性特征的经解析图像形成。在另一说明性实施例中，所述系统进一步包含用于基于所述图像产生沿着所述第一及第二测量方向的第一及第二叠对测量的控制器。
3、根据本公开的一或多个说明性实施例，公开一种光学计量方法。在一个说明性实施例中，所述方法包含使用第一照明光束及第二照明光束照明样本上的叠对目标，其中所述第一照明光束中的至少一者及所述第二照明光束中的至少一者同时入射于所述叠对目标上。在另一说明性实施例中，所述叠对目标包含沿着第一测量方向分布的第一方向周期性特征及沿着不同于所述第一测量方向的第二测量方向分布的第二方向周期性特征。在另一说明性实施例中，所述方法包含基于所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标的衍射在一或多个检测器上产生所述叠对目标的图像。在另一说明性实施例中，所述第一照明光束的衍射阶促成仅所述第一方向周期性特征的经解析图像形成，且所述第二照明光束的衍射阶促成仅所述第二方向周期性特征的经解析图像形成。在另一说明性实施例中，所述方法包含基于所述一或多个图像产生沿着所述第一测量方向的第一叠对测量。在另一说明性实施例中，所述方法包含基于所述一或多个图像产生沿着所述第二测量方向的第二叠对测量。
4、应理解，前文概述及下文详细描述两者仅是示范性及说明性的且不一定限制如主张的本专利技术。并入本说明书中且构成本说明书的部分的附图说明本专利技术的实施例且与概述一起用于解释本专利技术的原理。
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1.一种光学计量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标上的方位入射角及所述叠对目标上的高度入射角、波长、带宽、偏光、强度、所述一或多个照明光学器件的照明光瞳中的数值孔径、所述照明光瞳中的瓣形状或倾斜度中的至少一者来区分。
3.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束包含提供所述叠对目标上的第一方位入射角的单个第一照明光束，其中所述第二照明光束包含提供所述叠对目标上的第二方位入射角的单个第二照明光束。
4.根据权利要求3所述的光学计量系统，其中所述第一及第二方位入射角是正交的。
5.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束包含提供所述叠对目标上的第一组对称相对的方位入射角的第一组两个照明光束，其中所述第二照明光束包含提供所述叠对目标上的第二组对称相对的方位入射角的第二组两个照明光束。
6.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述第一及第二组方位入射角是正交的。
7.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述一或多
8.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述一或多个照明光学器件将所述第一组两个照明光束中的一者及所述第二组两个照明光束中的一者引导到所述叠对目标作为第一曝光，其中所述一或多个照明光学器件将所述第一组两个照明光束中的另一者及所述第二组两个照明光束中的另一者引导到所述叠对目标作为第二曝光。
9.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件包含单个集光通道，其中所述一或多个检测器包含单个检测器。
10.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件包含两个集光通道，其中所述一或多个检测器包含两个检测器，其中所述两个集光通道中的每一者包含所述两个检测器中的一者，其中所述一或多个集光光学器件将来自所述第一照明光束的所述衍射阶分离到所述两个集光通道中的第一者中且将来自所述第二照明光束的所述衍射阶分离到所述两个集光通道中的第二者中，其中所述两个集光通道中的所述第一者提供其中仅解析所述第一方向周期性特征的所述叠对目标的一或多个图像，其中所述两个集光通道中的所述第二者提供其中仅解析所述第二方向周期性特征的所述叠对目标的一或多个图像。
11.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
12.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
13.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
14.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一方向周期性特征包含沿着所述第一测量方向分布的具有第一节距及第二节距的光栅以形成第一方向摩尔结构，其中所述第二方向周期性特征包含沿着所述第二测量方向分布的具有所述第一节距及所述第二节距的光栅以形成第二方向摩尔结构，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
15.根据权利要求14所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件进一步包含用于阻断沿着所述第一及第二测量方向的所述0阶衍射瓣的一或多个元件。
16.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述叠对目标包括：
17.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一及第二组样本层是一组共同样本层。
18.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一组样本层不同于所述第二组样本层。
19.根据权利要求18所述的光学计量系统，其中所述第一组样本层包含所述样本的第一层及所述样本的第二层，其中所述第二组样本层包含所述样本的所述第一层及所述样本的第三层。
20.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一或第二方向周期性特征中的至少一者包含与单个层上的不同光刻曝光相关联的特征。
21.一种光学计量系统，其包括：
22.一种光学计量方法，其包括：
23.根据权利要求22所述的光学计量方法，其中所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标上的方位入射角及所述叠对目标上的高度入射角、波长、带宽、偏光、强度、一或多个照明光学器件的照明光瞳中的数值孔径、所述照明光瞳中的瓣形状或倾斜度中的至少一者来区分。
24.根据权利要求22所述的光学计量方法，其中所述第一照明光束包含提供所述叠对目标上的第一方位入射角的单个第一照明光束，其中所述第二照明...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学计量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标上的方位入射角及所述叠对目标上的高度入射角、波长、带宽、偏光、强度、所述一或多个照明光学器件的照明光瞳中的数值孔径、所述照明光瞳中的瓣形状或倾斜度中的至少一者来区分。
3.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束包含提供所述叠对目标上的第一方位入射角的单个第一照明光束，其中所述第二照明光束包含提供所述叠对目标上的第二方位入射角的单个第二照明光束。
4.根据权利要求3所述的光学计量系统，其中所述第一及第二方位入射角是正交的。
5.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一照明光束包含提供所述叠对目标上的第一组对称相对的方位入射角的第一组两个照明光束，其中所述第二照明光束包含提供所述叠对目标上的第二组对称相对的方位入射角的第二组两个照明光束。
6.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述第一及第二组方位入射角是正交的。
7.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述一或多个照明光学器件在实施所述计量配方时将所述第一组两个照明光束及所述第二组两个照明光束同时引导到所述叠对目标。
8.根据权利要求5所述的光学计量系统，其中所述一或多个照明光学器件将所述第一组两个照明光束中的一者及所述第二组两个照明光束中的一者引导到所述叠对目标作为第一曝光，其中所述一或多个照明光学器件将所述第一组两个照明光束中的另一者及所述第二组两个照明光束中的另一者引导到所述叠对目标作为第二曝光。
9.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件包含单个集光通道，其中所述一或多个检测器包含单个检测器。
10.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件包含两个集光通道，其中所述一或多个检测器包含两个检测器，其中所述两个集光通道中的每一者包含所述两个检测器中的一者，其中所述一或多个集光光学器件将来自所述第一照明光束的所述衍射阶分离到所述两个集光通道中的第一者中且将来自所述第二照明光束的所述衍射阶分离到所述两个集光通道中的第二者中，其中所述两个集光通道中的所述第一者提供其中仅解析所述第一方向周期性特征的所述叠对目标的一或多个图像，其中所述两个集光通道中的所述第二者提供其中仅解析所述第二方向周期性特征的所述叠对目标的一或多个图像。
11.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
12.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
13.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
14.根据权利要求1所述的光学计量系统，其中所述第一方向周期性特征包含沿着所述第一测量方向分布的具有第一节距及第二节距的光栅以形成第一方向摩尔结构，其中所述第二方向周期性特征包含沿着所述第二测量方向分布的具有所述第一节距及所述第二节距的光栅以形成第二方向摩尔结构，其中根据所述计量配方，所述叠对计量工具仅收集：
15.根据权利要求14所述的光学计量系统，其中所述一或多个集光光学器件进一步包含用于阻断沿...
【专利技术属性】
技术研发人员：Y·瓦克宁，A·希尔，A·玛纳森，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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