【技术实现步骤摘要】
一些实施例的各个方面涉及一种显示装置。
技术介绍
1、显示装置是显示图像以向用户提供信息的视觉或图形表示的装置。在多种显示装置之中，有机发光显示装置最近已经引起了关注。
2、最近，已经开发了包括显示装置的头戴式显示器(hmd)。头戴式显示器是能够提供虚拟现实(vr)或增强现实(ar)环境或体验的眼镜类型或可穿戴的监视器装置，该头戴式显示器以眼镜或头盔等形式穿戴，并聚焦在靠近用户眼睛的距离上。头戴式显示器可以通过透镜将显示装置上的图像显示给用户的眼睛。
3、在本
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部分中公开的上述信息仅用于增强对
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的理解，并且因此在本
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部分中讨论的信息不一定构成现有技术
技术实现思路
1、一些实施例的各个方面涉及一种显示装置。例如，一些实施例的各个方面涉及一种微型显示装置及其制造方法。
2、一些实施例的各个方面包括一种具有相对改善的工艺效率的显示装置。
3、一些实施例的各个方面包括一种制造显示装置的方法。
4、根据本公开的一些实施例的显示装置包括：基底，包括显示区域和与显示区域相邻的非显示区域；发光元件层，在基底上，在显示区域中，并且包括多个发光元件；焊盘部分，在基底上，在非显示区域中，并且与发光元件层隔开；透镜层，在发光元件层上，并且包括多个微透镜；以及涂覆层，在透镜层上，覆盖发光元件层的侧表面并且接触基底。
5、根据一些实施例，涂覆层可以包括聚倍半硅氧烷或硅氧烷。
6、根据一些实施例，涂覆层的厚度
7、根据一些实施例，显示装置还可以包括在透镜层和涂覆层之间的低折射率层。
8、根据一些实施例，低折射率层可以包括氟或中空二氧化硅。
9、根据一些实施例，低折射率层的折射率可以小于微透镜的折射率，并且低折射率层的折射率和微透镜的折射率之差可以在大约0.1至大约0.5的范围内。
10、根据一些实施例，基底可以包括：基体基底，限定多个凹槽并且包括硅晶圆；以及多个像素电路部分，分别被容纳在多个凹槽中。
11、根据一些实施例，涂覆层可以包括：密封部分，覆盖发光元件层的侧表面、接触基底并且限定与透镜层重叠的开口；以及填充部分，在透镜层上，与基底间隔开并且填充开口。
12、根据一些实施例，显示装置还可以包括在涂覆层上的偏振层。
13、根据一些实施例，显示装置还可以包括在发光元件层和透镜层之间的滤色器层。
14、根据本公开的一些实施例的制造显示装置的方法包括：在母基底上，在显示区域中形成包括多个发光元件的发光元件层；在母基底上，在非显示区域中形成焊盘部分；在发光元件层上形成包括多个微透镜的透镜层；以及在透镜层上形成涂覆层，涂覆层覆盖发光元件层的侧表面并且接触母基底。
15、根据一些实施例，该方法还可以包括在形成涂覆层之前，在母基底上将离型膜附接到非显示区域以覆盖焊盘部分。
16、根据一些实施例，形成涂覆层可以包括：在母基底上形成初步涂覆层以覆盖透镜层和离型膜；切割初步涂覆层；去除离型膜和与离型膜重叠的初步涂覆层；以及同时切割初步涂覆层和母基底。
17、根据一些实施例，在初步涂覆层的切割中，可以沿着显示区域的与离型膜相邻的一个侧表面切割初步涂覆层，并且在同时切割初步涂覆层和母基底中，可以沿着显示区域的另一侧表面同时切割初步涂覆层和母基底。
18、根据一些实施例，可以使用激光执行初步涂覆层的切割以及初步涂覆层和母基底的同时切割。
19、根据一些实施例，该方法还可以包括在形成涂覆层之前在透镜层上形成低折射率层。
20、根据一些实施例，形成涂覆层可以包括：形成密封部分，密封部分覆盖发光元件层的侧表面，接触母基底并且限定与透镜层重叠的开口；以及在透镜层上形成与母基底隔开并填充开口的填充部分。
21、根据一些实施例，该方法还可以包括在切割初步涂覆层之前，在初步涂覆层上形成初步偏振层。
22、根据一些实施例，切割初步涂覆层可以包括经由切割初步偏振层来形成偏振层。
23、根据一些实施例，母基底可以由硅晶圆形成。
24、在根据本公开的一些实施例的显示装置中，显示装置可以包括显示部分上的低折射率层和涂覆层。涂覆层可以覆盖显示部分的上表面和侧表面，并且可以接触基底。因此，可以有效地保护显示部分。
25、此外，在根据本公开的一些实施例的制造显示装置的方法中，覆盖焊盘部分的初步涂覆层和离型膜可以形成在母基底上。因为初步涂覆层和母基底可以在同一工艺中被激光切割，所以不需要用于切割母基底的额外工艺。因此，可以简化制造工艺，并且可以改善制造工艺中的效率。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述涂覆层包括聚倍半硅氧烷或硅氧烷。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述涂覆层的厚度在300μm至600μm的范围内。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述低折射率层包括氟或中空二氧化硅。
6.一种制造显示装置的方法，其中，所述方法包括：
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述方法还包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述形成所述涂覆层包括：
9.根据权利要求8所述的方法，其中，
10.根据权利要求8所述的方法，其中，使用激光执行所述初步涂覆层的所述切割，以及所述初步涂覆层和所述母基底的所述同时切割。
【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述涂覆层包括聚倍半硅氧烷或硅氧烷。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述涂覆层的厚度在300μm至600μm的范围内。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述低折射率层包括氟或中空二氧...
【专利技术属性】
技术研发人员：边详哲，郑圭镐，金台吾，韩秀衍，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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