【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学仪器，特别是一种光学保护片及其制备方法和光学仪器。
技术介绍
1、在光学仪器
，尤其在光学感应
，对光学感应器件的感应性能和可靠性要求越来越高。
2、在相关技术中，光学保护片作为光学感应器件的窗口，其性能好坏极大地影响着光学感应器件的感应准确性和可靠性。
技术实现思路
1、基于此，本申请提供一种光学保护片及其制备方法和光学仪器，可以减少光学保护片对光学感应器件的感应准确性和可靠性产生的影响。
2、第一方面，提供一种光学保护片，光学保护片用于对光学仪器中的光学元器件进行保护；光学保护片包括：
3、基底层，基底层具有沿其厚度方向相背的第一表面和第二表面，第一表面朝向光学元器件的一侧设置，第二表面背向光学元器件的一侧设置；
4、导电功能层，设置于基底层的第一表面一侧，且导电功能层至少允许第一波段的光透过，导电功能层还用于在通电时对光学保护片进行加热，以去除光学保护片上的水分；其中，第一波段为全波段中的全部波段或部分波段；
5、增透膜，设置于基底层上，用于使照射到增透膜上的第一波段的光至少有80%透过。
6、可选地，导电功能层的厚度小于1000nm；
7、导电功能层的材料包括：硅、se、gaas、gap、zns、znse、c、cds、pbs、cdte、锰铬铁铜氧化物、镓铝砷、镓砷磷等的一种或多种。
8、可选地，导电功能层还包含有0~5%的掺杂元素，所述掺杂元素选自过渡金
9、可选地，光学保护片还包括：与导电功能层电连接的导电线，导电线用于向导电功能层通电。
10、可选地，增透膜包括：交替层叠的多层低折射率材料层和多层高折射率材料层；
11、可选地，在所述增透膜中，至少一层高折射率材料层具有导电功能，且所述至少一层高折射率材料层与所述导电功能层和/或所述导电线电连接；
12、可选地，所述至少一层高折射率材料层的材料包括：铟锡氧化物、氧化锌、硅、ge、gaas、gap、znse、cds、pbs、cdte、锰铬铁铜氧化物、镓铝砷、镓砷磷中的一种或多种。
13、可选地，在所述增透膜所包含的所述多层低折射率材料层中，所述低折射率材料层的材料选自氧化硅、氧化铝、氧化钨、氧化镁、氧化钇、氟化铈、氟化镁以及氟化铝钠中的一种或多种；
14、所述所述增透膜所包含的高折射率材料层的材料中，所述高折射率材料层的材料选自氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化钽、氮化硅、氮氧化硅、氧化钛、氧化铌、氧化钽、氧化锑、氧化锌、氧化锡、氧化铬、氧化铪、硫化锌、氧化铈、氧化锆以及氟化铅、铟锡氧化物、氧化锌、硅、ge、gaas、gap、znse、cds、pbs、cdte、锰铬铁铜氧化物、镓铝砷和镓砷磷中的一种或多种。
15、可选地，增透膜设置于基底层的第二表面一侧，且增透膜的厚度小于6000nm。
16、可选地，光学保护片还包括：减反膜；
17、减反膜包括：交替层叠的多层低折射率材料层和多层高折射率材料层。
18、可选地，减反膜设置于所述基底层的第一表面一侧。
19、可选地，减反膜的厚度小于3000nm。
20、在减反膜所包含的每层低折射率材料层的材料选自氧化硅、氧化铝、氧化钨、氧化镁、氧化钇、氟化铈、氟化镁以及氟化铝钠中的一种或多种；
21、所述减反膜所包含的每层高折射率材料层的材料分别选自氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化钽、氮化硅、氮氧化硅、氧化钛、氧化铌、氧化钽、氧化锑、氧化锌、氧化锡、氧化铬、氧化铪、硫化锌、氧化铈和氧化锆中的一种或多种；
22、可选地，在减反膜所包含的多层低折射率材料层和多层高折射率材料层中，每层所述低折射率材料层和每层所述高折射率材料层还包含有质量占比小于或等于30%的碳化硅、氮化钛、氮化铬、碳化钛、碳化铬、氮化钨以及碳化钨中的一种或多种。
23、可选地，光学保护片还包括：防指纹层或超亲水易清洁功能层；
24、防指纹层或超亲水易清洁功能层设置于第二表面一侧，且位于光学保护片的最外侧；
25、和/或，
26、所述防指纹层或超亲水易清洁功能层设置于所述第一表面一侧，且位于所述光学保护片的最远离基底一侧。
27、第二方面，提供一种光学保护片的制备方法，光学保护片用于对光学仪器中的光学元器件进行保护，该方法包括：
28、在基底层的第一表面一侧形成导电功能层；其中，基底层的第一表面为所述基底层朝向光学元器件的表面，导电功能层至少允许第一波段的光透过，导电功能层还用于在通电时对光学保护片进行加热，以去除光学保护片上的水分；其中，第一波段为全波段中的全部波段或部分波段；
29、在基底层上形成增透膜，增透膜用于使照射到增透膜上的第一波段的光至少有80%透过。
30、可选地，导电功能层和增透膜均采用物理和/或化学气相沉积方法制备得到。
31、第三方面，提供一种光学仪器，包括：
32、如第一方面所述的光学保护片或者如第二方面所述的光学保护片的制备方法制备的光学保护片。
33、可选地，光学仪器为显示屏或光学探测仪。
34、与现有技术相比较，本申请具有如下有益效果：
35、通过在基底层上设置导电功能层和增透膜，一方面导电功能层至少允许第一波段的光透过，从而可以使第一波段的光透过光学保护片被光学感应器件所接收，不会对光学感应器件的光学感应产生影响；另一方面，增透膜可以使照射到其上的第一波段的光至少有80%透过，因此，可以有效增大第一波段的光在光学保护片上的透过率，减少对光学感应器件的光学感应准确性产生影响；再一方面，在使用时，在光学保护片上有水汽形成时，通过向导电功能层通电，可以对光学保护片进行加热，从而可以将光学保护片上的水分去除，进而可以进一步减少对光学感应器件的感应性能和可靠性产生影响。
36、另外，通过将导电功能层设置于第一表面一侧，还可以通过基底层对导电功能层进行保护，防止导电功能层发生漏电不良。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种光学保护片，其特征在于，所述光学保护片用于对光学仪器中的光学元器件进行保护；所述光学保护片包括：
2.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，所述增透膜包括：交替层叠的多层低折射率材料层和多层高折射率材料层；
4.根据权利要求3所述的光学保护片，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，所述增透膜设置于所述基底层的第一表面一侧，且所述增透膜的厚度小于6000nm。
6.根据权利要求1~5任一项所述的光学保护片，其特征在于，还包括：减反膜；
7.根据权利要求6所述的光学保护片，其特征在于，
8.根据权利要求1~5任一项所述的光学保护片，其特征在于，还包括：防指纹层或超亲水易清洁功能层；
9.一种光学保护片的制备方法，其特征在于，所述光学保护片用于对光学仪器中的光学元器件进行保护，所述方法包括：
10.一种光学仪器，其特征在于，包括：
【技术特征摘要】
1.一种光学保护片，其特征在于，所述光学保护片用于对光学仪器中的光学元器件进行保护；所述光学保护片包括：
2.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，所述增透膜包括：交替层叠的多层低折射率材料层和多层高折射率材料层；
4.根据权利要求3所述的光学保护片，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的光学保护片，其特征在于，所述增透膜设置于所述基底层的第一表面一侧，且所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：李可峰，刘保磊，黄立，王伟，
申请(专利权)人：维达力科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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