【技术实现步骤摘要】
本申请属于石墨烯制备，具体涉及一种石墨烯微晶片制备系统。
技术介绍
1、石墨烯材料集多种优异性能于一身，它具有非常好的导热性、良好的机械强度、超高的载流子迁移率、优异的导电性和与层数相关的高透光性等独特性能。与半导体材料相比，石墨烯具有极高的化学稳定性，在微电子、信息技术、微纳传感器、新能源、环境、生物医学等领域的体现了巨大应用潜能。尤其是其电子迁移率高于硅材料两个数量级，石墨烯材料有望取代半导体工业中的硅材料。
2、但是，现有的石墨烯微晶片制备设备生产产线复杂，环境污染严重，生产出来的石墨烯微晶片不够纯净，浸润性低。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的是提供一种石墨烯微晶片制备系统，其生产产线简单，环境污染显著降低，生产出来的石墨烯微晶片纯净且浸润性高，从而可以解决
技术介绍
中涉及的至少一个技术问题。
2、为了解决上述技术问题，本申请技术方案如下：
3、本申请实施例提供了一种石墨烯微晶片制备系统，包括石墨烯清洗分离设备、烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备、真空箱以及真空泵，所述烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备均设置于所述真空箱内，所述真空泵与所述真空箱连接以用于提供真空环境，所述石墨烯清洗分离设备包括依次组配的石墨烯输入泵、清洗破碎机、微片剥离机以及与所述烘干设备连接的石墨烯输出泵。
4、作为本技术的一种优选改进，还包括用于将石墨烯矿研磨细筛的石墨烯矿粉加工设备、用于对所述石墨烯矿粉加工设备加工的石墨烯矿粉进行酸洗的石墨烯
5、作为本技术的一种优选改进，所述石墨烯清洗分离设备还包括设置于所述清洗破碎机与所述微片剥离机之间的含水量检测设备。
6、作为本技术的一种优选改进，还包括设置于所述含水量检测设备与所述微片剥离机之间的搅拌设备。
7、作为本技术的一种优选改进，所述石墨烯矿粉加工设备细筛的目数为480目到520目。
8、作为本技术的一种优选改进，所述石墨烯矿粉酸洗设备采用浓度为30％-40％的稀硝酸对石墨烯矿粉进行酸洗。
9、作为本技术的一种优选改进，所述石墨烯破碎剥离设备对经过酸洗后的石墨烯矿粉进行破碎剥离5-45分钟。
10、作为本技术的一种优选改进，所述石墨烯微晶片制备系统包括多套按石墨烯粉体制备顺次组装的所述石墨烯清洗分离设备，位于后一顺次的所述石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最低工作频率比前一顺次的石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最低工作频率高10-20khz；位于后一顺次的所述石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最高工作频率比前一顺次的石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最高工作频率高35-40khz。
11、作为本技术的一种优选改进，所述烘干设备为微波烘干机，每次烘干时间为1-15分钟。
12、本申请有益效果如下：
13、1、生产产线简单，环境污染显著降低，生产出来的石墨烯粉体纯净且浸润性高；
14、2、通过设置含水量检测设备，可以保障石墨烯浆体进入微片剥离机时具有合适的含水量，这样，剥离更彻底，减少材料浪费；
15、3、通过设置搅拌设备，可以保障石墨烯浆体进入微片剥离机时，固体和液体混合均匀，防止固体粘接成团。
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1.一种石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：包括石墨烯清洗分离设备、烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备、真空箱以及真空泵，所述烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备均设置于所述真空箱内，所述真空泵与所述真空箱连接以用于提供真空环境，所述石墨烯清洗分离设备包括依次组配的石墨烯输入泵、清洗破碎机、微片剥离机以及与所述烘干设备连接的石墨烯输出泵。
2.根据权利要求1所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：还包括用于将石墨烯矿研磨细筛的石墨烯矿粉加工设备、用于对所述石墨烯矿粉加工设备加工的石墨烯矿粉进行酸洗的石墨烯矿粉酸洗设备以及用于对所述石墨烯矿粉酸洗设备酸洗后的石墨烯矿粉进行微片剥离和颗粒破碎的石墨烯破碎剥离设备，所述石墨烯破碎剥离设备与所述石墨烯输入泵连接。
3.根据权利要求2所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述石墨烯清洗分离设备还包括设置于所述清洗破碎机与所述微片剥离机之间的含水量检测设备。
4.根据权利要求3所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：还包括设置于所述含水量检测设备与所述微片剥离机之间的搅拌设备。
5.根据权
6.根据权利要求2所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述石墨烯矿粉酸洗设备采用浓度为30％-40％的稀硝酸对石墨烯矿粉进行酸洗。
7.根据权利要求2所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述石墨烯破碎剥离设备对经过酸洗后的石墨烯矿粉进行破碎剥离5-45分钟。
8.根据权利要求2所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述石墨烯微晶片制备系统包括多套按石墨烯粉体制备顺次组装的所述石墨烯清洗分离设备，位于后一顺次的所述石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最低工作频率比前一顺次的石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最低工作频率高10-20KHz；位于后一顺次的所述石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最高工作频率比前一顺次的石墨烯清洗分离设备中的清洗破碎机的最高工作频率高35-40KHz。
9.根据权利要求1所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述烘干设备为微波烘干机，每次烘干时间为1-15分钟。
...【技术特征摘要】
1.一种石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：包括石墨烯清洗分离设备、烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备、真空箱以及真空泵，所述烘干设备、固气分离设备、等离子改性设备均设置于所述真空箱内，所述真空泵与所述真空箱连接以用于提供真空环境，所述石墨烯清洗分离设备包括依次组配的石墨烯输入泵、清洗破碎机、微片剥离机以及与所述烘干设备连接的石墨烯输出泵。
2.根据权利要求1所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：还包括用于将石墨烯矿研磨细筛的石墨烯矿粉加工设备、用于对所述石墨烯矿粉加工设备加工的石墨烯矿粉进行酸洗的石墨烯矿粉酸洗设备以及用于对所述石墨烯矿粉酸洗设备酸洗后的石墨烯矿粉进行微片剥离和颗粒破碎的石墨烯破碎剥离设备，所述石墨烯破碎剥离设备与所述石墨烯输入泵连接。
3.根据权利要求2所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：所述石墨烯清洗分离设备还包括设置于所述清洗破碎机与所述微片剥离机之间的含水量检测设备。
4.根据权利要求3所述的石墨烯微晶片制备系统，其特征在于：还包括设置于所述含水量检测设备与所述微片剥离机之间的搅拌设备。
【专利技术属性】
技术研发人员：廖尚武，王照洋，姜重庆，
申请(专利权)人：河南奇林量子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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