一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:41984864 阅读:5 留言:0更新日期:2024-07-12 12:14
本技术涉及一种清洗装置,属于碳化硅晶加工技术领域,具体是一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,包括固定架,固定架的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架,固定架的内部顶部壁面固定安装有调节气缸,还包括;驱动电机,定位架,内圈;连接架,喷水框,清洗海绵;安装板,放置板;本技术,将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部,通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部,使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗,提高清洗效率;解决了现有的清洗时间长,效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及碳化硅晶加工,特别是一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置


技术介绍

1、碳化硅晶片的主要应用领域有led固体照明和高频率器件,该材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性,在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势,碳化硅晶片在加工时需要进行研磨,研磨之后晶片表面会残留大量的粉末和化学制剂,需要进行清洗,以便于后续的使用。

2、公开号为cn216504318u中国专利,公开的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,包括清洗箱,还包括移动抽出机构、冲洗机构和擦洗机构,所述移动抽出机构固定安装在清洗箱内部,所述移动抽出机构顶部固定安装有固定机构。

3、上述现有技术方案中,将碳化硅晶片放置在固定机构的顶部,然后通过移动抽出机构将固定机构移动至冲洗机构的底端,使冲洗机构对碳化硅晶片进行清洗,但是每次只能对单个碳化硅晶片进行清洗,清洗时间长,效率低。


技术实现思路

1、为了解决上述技术问题,本技术提出了一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部,通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部,使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗,提高清洗效率。

2、实现本技术目的的技术解决方案为:一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,包括固定架,固定架的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架,固定架的内部顶部壁面固定安装有调节气缸,还包括;

3、驱动电机,所述驱动电机固定安装在安装架的顶部壁面上,驱动电机的输出端固定安装有定位架,定位架的侧壁固定安装有内圈;

4、连接架,所述连接架固定安装在调节气缸的底部壁面上,连接架的侧壁靠近后端的位置固定安装有喷水框,喷水框的底部壁面连接有清洗海绵;

5、安装板,所述安装板共有多个,多个安装板等距固定安装在内圈的外侧壁上,安装板的顶部壁面通过轴承转动安装有放置板。

6、在某些实施例中,所述喷水框的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置和烘干风机。

7、在某些实施例中,所述放置板的顶部壁面固定安装有缓冲海绵。

8、在某些实施例中,所述固定架的内侧壁固定安装有套在放置板外部的外圈。

9、在某些实施例中,所述外圈的内侧壁和多个放置板的侧壁均圆周等距固定安装有多个联动齿,放置板上的联动齿和外圈内部的联动齿相互啮合。

10、在某些实施例中,所述清洗剂上料装置和烘干风机均与连接架固定连接。

11、本实用与现有技术相比,其显著优点是:

12、其一:本技术,将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部,通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部,使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗,提高清洗效率;解决了现有的清洗时间长,效率低的问题。

13、其二:本技术,因为放置板转动安装在安装板的顶部,当驱动电机的输出端带动安装板转动时,所以放置板上的联动齿和外圈上的联动齿相互啮合,会使放置板带动放置板顶部的碳化硅晶片一起自转,提高清洗海绵对碳化硅晶片的清理范围,提高了清理效果。

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【技术保护点】

1.一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,包括固定架(1),固定架(1)的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架(2),固定架(1)的内部顶部壁面固定安装有调节气缸(11),其特征在于:还包括;

2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述喷水框(7)的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置(8)和烘干风机(9)。

3.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述放置板(14)的顶部壁面固定安装有缓冲海绵(15)。

4.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述固定架(1)的内侧壁固定安装有套在放置板(14)外部的外圈(3)。

5.根据权利要求4所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述外圈(3)的内侧壁和多个放置板(14)的侧壁均圆周等距固定安装有多个联动齿(17),放置板(14)上的联动齿(17)和外圈(3)内部的联动齿(17)相互啮合。

6.根据权利要求2所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述清洗剂上料装置(8)和烘干风机(9)均与连接架(12)固定连接。

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【技术特征摘要】

1.一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,包括固定架(1),固定架(1)的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架(2),固定架(1)的内部顶部壁面固定安装有调节气缸(11),其特征在于:还包括;

2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述喷水框(7)的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置(8)和烘干风机(9)。

3.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置,其特征在于:所述放置板(14)的顶部壁面固定安装有缓冲海绵(15)。

4.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈宇翔翟会阳李永波李纪宏
申请(专利权)人:苏州万龙达电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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