【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于软包装薄膜，特别涉及一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜及其制备方法。
技术介绍
1、聚酰胺薄膜是一种高性能聚合物材料，常用于制造薄膜和薄膜产品。聚酰胺薄膜由于其具有的氧气阻隔性好、耐穿刺、高强度等特点在食品包装得到了广泛的应用。由于聚酰胺自身具有吸水的特性，在高湿度和蒸煮条件下聚酰胺薄膜的阻隔性明显下降，现有的增强聚酰胺薄膜阻隔性能的方法有镀铝、镀氧化铝、阻隔液涂布等。
2、申请号为cn202010646057.4的中国专利公开了一种涂布型高阻隔双向拉伸聚酰胺薄膜及其制备方法。其中，该薄膜包括涂布层和聚酰胺基材层；所述pva涂布层为pva涂布液涂覆在所述聚酰胺基材层表面形成，所述pva涂布液包括pva、硼酸和水；所述聚酰胺基材层由三层共挤双向拉伸聚酰胺薄膜组成，从内到外依次为a、b、c层；其中，所述c层的组分包括共聚聚酰胺，树枝状聚酰胺，纳米活性金属粒子和抗氧剂。该专利技术提供的涂布型高阻隔双向拉伸聚酰胺薄膜生产工序简单，材料绿色环保，制得的薄膜在高温高湿条件下具备良好的阻隔效果，该专利技术采用阻隔液涂布的方式具有透明可视化、避免镀层脱落、耐揉搓等优点。但由于pva自身的水溶性特点，使得在蒸煮及高湿条件下pva涂层的牢度容易下降，氧气阻隔性下降。
技术实现思路
1、为了解决上述问题，本专利技术提供了一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜及其制备方法，可在蒸煮条件和高湿度环境下实现薄膜的高氧气阻隔性能。
2、本专利技术的技术方案如下：
3、本专利技术的目的之
4、0.30≤a1/a2≤0.65。
5、进一步的，所述阻隔层的原料包括羧酸聚合物、无机层状粉体和交联剂。
6、进一步的，所述羧酸聚合物由一种或多种羧酸或酸酐单体组成。
7、进一步的，所述羧酸聚合物为聚丙烯酸、乙烯-马来酸酐聚合物、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物中的一种或几种。
8、进一步的，所述无机层状粉体为层状硅酸盐矿物材料，所述层状硅酸盐矿物材料以硅氧或铝氧为骨架。
9、进一步的，所述层状硅酸盐矿物材料的分子式为：anb4o10cm；其中，a为fe、mg、al、mn、ti、li、ca、na、k、ba中的一种或几种；b为si或al中的一种或两种；c为f或oh中的一种或两种。
10、进一步的，所述交联剂为胺类化合物，所述交联剂分子内部具有多个可与羧酸进行反应的胺基官能团。
11、进一步的，所述交联剂为碳化二亚胺、聚乙烯胺、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺中的一种或几种。
12、进一步的，所述阻隔层的厚度为1-3μm，所述聚酰胺薄膜层的厚度为10-30μm。
13、本专利技术的目的之二在于提供一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜的制备方法，包括以下步骤：
14、s1：将阻隔层的原料羧酸聚合物、无机层状粉体和交联剂混合均匀，得到高阻隔水性涂布液，备用；
15、s2：对聚酰胺薄膜进行电晕处理，并将步骤s1所得的高阻隔水性涂布液涂布于聚酰胺薄膜的电晕面上，经过干燥处理后，得到所述高阻隔聚酰胺涂布薄膜。
16、与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜通过在聚酰胺薄膜表面进行阻隔层的涂布，选用羧酸聚合物、无机层状粉体及交联剂作为阻隔层的主要成分，帮助提升聚酰胺薄膜在蒸煮条件和高湿度环境下的氧气阻隔性能，且该阻隔层的附着力好，制备的复合薄膜剥离强度大，特别适用于在有高阻隔要求的蒸煮食品的软包装复合薄膜领域应用。
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1.一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，包括阻隔层和聚酰胺薄膜层，其特征在于，所述薄膜在1710±10cm-1处的吸光度A1与在1635±10cm-1处的吸光度A2之比A1/A2满足下式：
2.根据权利要求1所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述阻隔层的原料包括羧酸聚合物、无机层状粉体和交联剂。
3.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述羧酸聚合物由一种或多种羧酸或酸酐单体组成。
4.根据权利要求3所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述羧酸聚合物为聚丙烯酸、乙烯-马来酸酐聚合物、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物中的一种或几种。
5.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述无机层状粉体为层状硅酸盐矿物材料，所述层状硅酸盐矿物材料以硅氧或铝氧为骨架。
6.根据权利要求5所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述层状硅酸盐矿物材料的分子式为：AnB4O10Cm；其中，A为Fe、Mg、Al、Mn、Ti、Li、Ca、Na、K、Ba中的一种或几种；B为Si或Al中的一种或两种；C
7.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述交联剂为胺类化合物，所述交联剂分子内部具有多个可与羧酸进行反应的胺基官能团。
8.根据权利要求7所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述交联剂为碳化二亚胺、聚乙烯胺、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺中的一种或几种。
9.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述阻隔层的厚度为1-3μm，所述聚酰胺薄膜层的厚度为10-30μm。
10.根据权利要求2-9任一所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，包括阻隔层和聚酰胺薄膜层，其特征在于，所述薄膜在1710±10cm-1处的吸光度a1与在1635±10cm-1处的吸光度a2之比a1/a2满足下式：
2.根据权利要求1所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述阻隔层的原料包括羧酸聚合物、无机层状粉体和交联剂。
3.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述羧酸聚合物由一种或多种羧酸或酸酐单体组成。
4.根据权利要求3所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述羧酸聚合物为聚丙烯酸、乙烯-马来酸酐聚合物、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物中的一种或几种。
5.根据权利要求2所述的一种高阻隔聚酰胺涂布薄膜，其特征在于，所述无机层状粉体为层状硅酸盐矿物材料，所述层状硅酸盐矿物材料以硅氧或铝氧为骨架。
6.根据权利要求5所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴腾达，李智尧，郑伟，
申请(专利权)人：厦门长塑实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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