衬底处理设备制造技术

本发明专利技术提供一种衬底处理设备，其经设计以防止旋转的旋转轴的摆动。所述衬底包含旋转轴及连接部件。单元安置于所述旋转轴与所述连接部件之间以使所述旋转轴与所述连接部件彼此密切接触或单元安置于所述旋转轴下方以防止所述旋转轴的所述摆动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种衬底处理设备，且更明确地说涉及一种经配置以防止支撑衬底坐落部分的旋转轴在所述旋转轴旋转时的摆动。
技术介绍
—般来说，为制造半导体装置、显示装置及薄膜太阳能电池，执行用于在衬底上沉 积特定材料的薄膜的薄膜沉积工艺、用于使用光致抗蚀剂材料来暴露或掩蔽薄膜的选定区 域的光刻工艺、用于通过移除选定或未选区域来图案化薄膜的蚀刻工艺。在通过抽真空优 化的衬底处理设备中执行薄膜沉积工艺及蚀刻工艺。 然而，最近随着衬底大小的增加，在所述衬底的表面上均匀地喷射工艺气体变得 较困难。因此，存在形成于半导体装置上的膜的均匀性劣化的问题。根据相关技术，为解决 此问题，已在使半导体衬底旋转的同时在所述半导体衬底上沉积薄膜，借此改进所述薄膜 厚度的均匀性。 在这一点上，通过将所述衬底安置在衬底坐落部分上并将所述衬底坐落部分连接 到旋转轴来执行所述衬底的旋转。另外，所述旋转轴靠从外部驱动电动机施加的旋转力而 旋转。 0形环用于所述旋转轴与所述驱动电动机之间的连接部分。然而，所述0形环在其 使用达较长时间时快速地被磨损，且当其暴露于高温时快速地劣化。因此，存在当由所述衬 底坐落部分产生的热通过所述旋转轴传送到所述0形环时可损坏所述0形环的问题。当损 坏所述0形环时，所述衬底坐落部分不是水平旋转而是以摆动状态旋转。此致使沉积在所 述衬底上的薄膜的厚度的均匀性劣化。
技术实现思路
本专利技术提供一种衬底处理设备，其通过在旋转轴与轴之间插入辅助部件来增强当 将支撑衬底坐落部分并使所述支撑衬底坐落部分旋转及上下移动的旋转轴插入到所述轴 中且连接到中心轴时所述旋转轴与所述轴之间的耦合力。 本专利技术还提供一种衬底处理设备，其通过在旋转轴的下部部分上形成凹陷部分及 在辅助部件上形成插入于所述凹陷部分中的耦合部分来增强所述旋转轴与轴之间的耦合 力。 本专利技术还提供一种衬底处理设备，其通过采用在结构上不同于已在相关技术中使 用的O形环的耦合单元以防止旋转轴的摆动(即，旋进运动)来改进沉积于衬底上的薄膜 的均匀性。 本专利技术还提供一种衬底处理设备，其通过安装用于维持旋转轴上的中心的对准帽 以防止所述旋转轴的摆动(即，旋进运动)来改进沉积于衬底上的薄膜的均匀性。 根据实例性实施例，一种衬底处理设备包含室，其具有反应空间；衬底坐落部 分，其位于所述反应空间中；及旋转轴部分，其包含连接到所述衬底坐落部分的下部中心区域的旋转轴、所述旋转轴的一端以固定方式插入于其中的连接部件及使所述旋转轴与连接 轴彼此紧密耦合的接触部件。 所述接触部件可包含管形接触本体及提供于所述接触本体的上部区域及下部区 域中的至少一者中的弹性部分。所述旋转轴可由石英形成，所述连接部件可由SUS材料形 成且所述接触部件可由与所述连接部件相同的材料形成。 所述弹性部分可以是通过将所述接触本体的所述上部区域及所述下部区域中的 至少一者沿长度方向切割成多个切割区段并将所述接触本体的所述切割区段弯曲至少一 次而形成的。 所述接触部件可位于所述连接部件的上部区域处且所述旋转轴部分可包含使所述连接部件与所述旋转轴在所述连接部件的下部区域处彼此紧密耦合的辅助部件。所述接触部件可包含接触本体；第一弹性部分，其形成于所述接触本体的上部区域上且使所述旋转轴与所述连接部件在所述连接部件的上部区域处彼此紧密耦合；及第二弹性部分，其形成于所述接触本体的下部区域上且使所述旋转轴与所述连接部件在所述连接部件的下部区域处彼此紧密耦合。 所述接触部件可包含第一接触部件，其使所述旋转轴与所述连接部件在所述连 接部件的上部区域处彼此紧密耦合；及第二接触部件，其使所述旋转轴与所述连接部件在 所述连接部件的下部区域处彼此紧密耦合。 所述旋转轴部分可包含中心本体，其以环形状形成；及定心本体，其具有向下倾 斜且位于所述中心本体上的帽倾斜表面，其中与所述旋转轴紧密接触的定心帽可提供于所 述帽倾斜表面上。 所述定心本体可包含至少一个第一定心本体，其具有从外侧向内侧倾斜的第一 帽倾斜表面；及至少一个第二定心本体，其具有从内侧向外侧倾斜的第二帽倾斜表面，其中 对应于所述帽倾斜表面的轴倾斜表面可提供于所述旋转轴的一端处。 所述旋转轴可包含上部支撑部分、在所述上部支撑部分下方的下部支撑部分及在 所述上部支撑部分与所述下部支撑部分之间的倾斜支撑部分，其中所述旋转轴在所述倾斜 支撑部分的区域中可包含从上部部分向下部部分逐渐减小的外径。 所述衬底处理设备可进一步包含安置于所述旋转轴与所述连接部件之间的辅助 部件，其中所述辅助部件可包含与所述上部支撑部分接触的上部辅助部分、与所述下部支 撑部分接触的下部辅助部分、与所述倾斜支撑部分接触的倾斜辅助部分及接触所述旋转轴 的下部部分的最终辅助部分。 所述旋转轴可包含提供于所述旋转轴的下部部分上的凹陷部分且所述辅助部件 可包含插入且耦合到所述凹陷部分中的耦合部分。 至少一个0形环可用作所述接触部件或所述接触部件可包含以管形状形成的接触本体及提供于所述接触本体的上部部分及下部部分中的至少一者上的弹性部分，其中当所述0形环可用作所述接触部件时，所述0形环可包含安置于所述连接部件与所述旋转轴之间的第一 0形环及安置于所述辅助部件与所述旋转轴之间的第二 0形环。根据另一实例性实施例，一种衬底处理设备包含室，其具有反应空间；衬底坐落部分，其位于所述反应空间中；及旋转轴部分，其包含连接到所述衬底坐落部分的下部中心区域的旋转轴、所述旋转轴的一端以固定方式插入于其中的连接部件以及包含环形中心6本体及定心本体的定心帽，所述定心本体位于所述中心本体上且具有向下倾斜的帽倾斜表 面，其中所述旋转轴密切接触所述帽倾斜表面。 所述定心本体可包含从所述中心本体的外表面延伸的侧壁表面及从所述侧壁表 面的一端朝向所述中心本体的上部表面向下倾斜的帽倾斜表面；对应于所述帽倾斜表面的 轴倾斜表面可提供于所述旋转轴的一端处；所述旋转轴可由石英形成；且所述连接部件可 由SUS材料形成。 所述衬底处理设备可进一步包含使所述连接部件紧密耦合到所述旋转轴的接触 部件，其中0形环可用作所述接触部件或所述接触部件可包含管形接触本体及提供于所述 接触本体的上部部分及下部部分中的至少一者上的弹性部分。 所述弹性部分可以是通过将所述接触本体的所述上部部分及所述下部部分中的 至少一者沿长度方向切割成多个切割区段并将所述接触本体的所述切割区段弯曲至少一 次而形成的。 根据又一实例性实施例，一种衬底处理设包含衬底坐落部分，其位于反应空间 中；及旋转轴部分，其包含连接到所述衬底坐落部分的下部中心区域的旋转轴、所述旋转轴 的一端以固定方式插入于其中的连接部件、使所述旋转轴与连接轴彼此紧密耦合的接触部 件及安置于所述旋转轴与所述连接部件之间的辅助部件，其中所述旋转轴包含邻近于所述 连接部件的上部侧的上部支撑部分、在所述上部支撑部分下方的下部支撑部分及在所述上 部支撑部分与所述下部支撑部分之间的倾斜支撑部分，其中所述旋转轴在所述倾斜支撑部 分的区域中具有向下逐渐减小的直径。 所述辅助部件可包含与所述上部支撑部分接触的上部辅助部分、与所述下部支撑 部分接触的下部辅助部分、与所述倾斜支撑部分接触的倾斜辅助部分及与所述旋转轴的下 部部分接触的最终辅助部分。 所述旋转轴本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底处理设备，其包括：室，其具有反应空间；衬底坐落部分，其位于所述反应空间中；及旋转轴部分，其包括连接到所述衬底坐落部分的下部中心区域的旋转轴、所述旋转轴的一端以固定方式插入于其中的连接部件及使所述旋转轴与连接轴彼此紧密耦合的接触部件。

【技术特征摘要】
KR 2008-10-29 10-2008-0106527;KR 2009-10-8 10-2009一种衬底处理设备，其包括室，其具有反应空间；衬底坐落部分，其位于所述反应空间中；及旋转轴部分，其包括连接到所述衬底坐落部分的下部中心区域的旋转轴、所述旋转轴的一端以固定方式插入于其中的连接部件及使所述旋转轴与连接轴彼此紧密耦合的接触部件。2. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述接触部件包括管形接触本体及提供 于所述接触本体的上部区域及下部区域中的至少一者中的弹性部分，所述旋转轴由石英形 成，所述连接部件由SUS材料形成且所述接触部件由与所述连接部件相同的材料形成。3. 根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中所述弹性部分是通过将所述接触本体的 所述上部区域及下部区域中的至少一者沿长度方向切割成多个切割区段并将所述接触本 体的所述切割区段弯曲至少一次而形成的。4. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述接触部件位于所述连接部件的上部 区域处且所述旋转轴部分包括使所述连接部件与所述旋转轴在所述连接部件的下部区域 处彼此紧密耦合的辅助部件。5. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述接触部件包括 第一弹性部分，其形成于接触本体的上部区域上且使所述旋转轴与所述连接部件在所述连接部件的上部区域处彼此紧密耦合；及第二弹性部分，其形成于所述接触本体的下部区域上且使所述旋转轴与所述连接部件 在所述连接部件的下部区域处彼此紧密耦合。6. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述接触部件包括第一接触部件，其使所述旋转轴与所述连接部件在所述连接部件的上部区域处彼此紧 密耦合；及第二接触部件，其使所述旋转轴与所述连接部件在所述连接部件的下部区域处彼此紧弥规a tS不内口 o7. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述旋转轴部分包括中心本体，其以环形状形成；及定心本体，其具有向下倾斜且位于所述中心本体上的帽倾斜表面， 其中与所述旋转轴紧密接触的定心帽提供于所述帽倾斜表面上。8. 根据权利要求7所述的衬底处理设备，其中所述定心本体包括 至少一个第一定心本体，其具有从外侧向内侧倾斜的第一帽倾斜表面；及至少一个第二定心本体，其具有从内侧向外侧倾斜的第二帽倾斜表面， 其中对应于所述帽倾斜表面的轴倾斜表面提供于所述旋转轴的一端处。9. 根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述旋转轴包括上部支撑部分、在所述 上部支撑部分下方的下部支撑部分及在所述上部支撑部分与下部支撑部分之间的倾斜支 撑部分，其中所述旋转轴在所述倾斜支撑部分的区域中具有从上部部分向下部部分逐渐减小 的外径。10. 根据权利要求9所述的衬底处理设备，其进一步包括安置于所述旋转轴与所述连接部件之间的辅助部件，其中所述辅助部件包括与所述上部支撑部分接触的上部辅助部分、与所述下部支撑部 分接触的下部辅助部分、与所述倾斜支撑部分接触的倾斜辅助部分及与所述旋转轴的下部 部分接触的最终辅助部分，且所述旋转轴包括提供于所述旋转轴的下部部分上的凹陷部分且所述辅助部件包括插 入且耦合到所述凹陷部分中的耦合部分。11. 根据权利要求9所述的衬底处理设备，其中至少一个0形环用作所述接触部件或所 述接触部件包括以管形状形成的接触本体及提供于所述接触本体的上部部分及下部部分 中的至少一者上的弹性部分，且其中当所述0形环用作所述接触部件时，所述0形环包括安 置于所述连接部件与所述旋转轴之间的第一 0形环及安置于所述辅助部件与所述旋转轴 之间的第二O形环。...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔圭镇，罗圣闵，李义揆，全容汉，杨彻勋，李太浣，黄旭，金宣基，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]