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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容涉及银镀膜。特别是涉及适合作为连接器、开关、继电器等电接点、端子构件的银镀膜。
技术介绍
1、银(ag)镀膜由于导电性高,因此被广泛用于电子部件中。在电子部件中的以连接器、开关和继电器为代表的电接点、端子构件中,由于因插拔、滑动而磨损,因此除了要求导电性之外还要求耐磨损性。为了赋予耐磨损性,主要使用提高硬度、降低摩擦等手段。
2、例如,在专利文献1中,关于连接器用镀银端子,提出了如下技术:在由铜或铜合金构成的母材的表面,利用晶粒大的银镀层进行包覆,由此防止由铜的扩散引起的接触电阻的上升,此外在最表面利用晶粒小的银镀层进行包覆,由此改善硬度。
3、另外,在专利文献2中,提出了通过在银镀膜中含有硒、在维持高硬度的状态下防止接触电阻增加的技术。专利文献3中记载了使用含有0.1~2.0质量%的锑并且提高了硬度的银镀膜的方法。此外,专利文献4中公开了在最表层形成有锑浓度为0.5质量%以上的维氏硬度hv140以上的银合金层的铜或铜合金构件。
4、此外,专利文献5中提出了一种技术,其为包含银-铋合金层的物品,通过含有1~10质量%的铋而使摩擦系数为1以下。
5、[现有技术文献]
6、[专利文献]
7、[专利文献1] 日本特开2008-169408号公报
8、[专利文献2] 日本特开2016-145413号公报
9、[专利文献3] 日本特开2005-133169号公报
10、[专利文献4] 日本特开2009-79250号公报
...【技术保护点】
1.一种银镀膜,所述银镀膜含有0.02重量%以上且小于1重量%的铋,并且所述银镀膜的微晶尺寸为230Å以下。
2.根据权利要求1所述的银镀膜,所述银镀膜的接触电阻为2mΩ以下。
3.根据权利要求1或2所述的银镀膜,所述银镀膜在180℃下热处理100小时后的接触电阻为2mΩ以下。
4.根据权利要求1或2所述的银镀膜,所述银镀膜的维氏硬度为Hv135以上。
5.根据权利要求1或2所述的银镀膜,所述银镀膜在180℃下热处理100小时后的维氏硬度为Hv135以上。
6.根据权利要求5所述的银镀膜,所述银镀膜在180℃下热处理100小时后维氏硬度的降低量为Hv20以内。
7.一种电接点,具备权利要求1~6中任一项所述的银镀膜。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种银镀膜,所述银镀膜含有0.02重量%以上且小于1重量%的铋,并且所述银镀膜的微晶尺寸为230å以下。
2.根据权利要求1所述的银镀膜,所述银镀膜的接触电阻为2mω以下。
3.根据权利要求1或2所述的银镀膜,所述银镀膜在180℃下热处理100小时后的接触电阻为2mω以下。
4.根据权利要求1或2所述的银镀...
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