【技术实现步骤摘要】
本申请涉及气相沉积，尤其涉及一种支撑机构、气相沉积设备以及气相沉积方法。
技术介绍
1、气相沉积设备对待沉积件进行气相沉积的过程中，需要支撑结构支撑待沉积件。
2、但是，在气相沉积过程中，支撑结构全程与待沉积件的表面的同一区域接触，造成此区域被支撑结构全程遮挡而不能被沉积薄膜，导致待沉积件的薄膜沉积效果不佳。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供了一种支撑机构、气相沉积设备以及气相沉积方法，以解决在气相沉积过程中，支撑结构与待沉积件全程在待沉积件的表面的同一区域接触，造成此区域被支撑结构全程遮挡而不能被沉积薄膜，导致待沉积件的薄膜沉积效果不佳的问题。
2、第一方面，本申请一实施例提供了一种支撑机构，应用于气相沉积设备，气相沉积设备被配置为对待沉积件进行气相沉积，气相沉积设备包括腔体，腔体围成腔室，腔室用于容纳待沉积件，支撑机构被配置为支撑待沉积件，支撑机构包括：支撑台，设置于腔室；至少一组第一支撑柱，设置于支撑台上，至少一组第一支撑柱形成第一支撑平面；第一斜面滑块，设置于支撑台上，第一斜面滑块的远离支撑台的一侧具有第一斜面，第一斜面滑块被配置为沿水平直线往复滑动；支撑座，设置于第一斜面上，并与第一斜面滑动接触，至少一组第二支撑柱，设置于支撑座上，至少一组第二支撑柱形成第二支撑平面；其中，在第一斜面滑块沿水平直线往复滑动的过程中，支撑座沿竖直方向升高或者降低，从而使第二支撑平面高于或者低于第一支撑平面，其中，在第一支撑平面高于第二支撑平面的情况下，第一
3、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑机构还包括：第二斜面滑块，设置于支撑台上，第二斜面滑块的远离支撑台的一侧具有第二斜面，第二斜面滑块被配置为沿水平直线往复滑动；其中，第二斜面滑块和第一斜面滑块相对于支撑座的几何中心所在的竖直平面对称设置；支撑座设置于第一斜面和第二斜面上，在第一斜面滑块和第二斜面滑块沿水平直线相向滑动的过程中，支撑座沿竖直方向升高，使第二支撑平面高于第一支撑平面；在第一斜面滑块和第二斜面滑块沿水平直线背向滑动的过程中，支撑座沿竖直方向降低，使第二支撑平面低于第一支撑平面。
4、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑机构还包括：第一推杆组件，与第一斜面滑块连接，被配置为推动第一斜面滑块沿水平直线往复滑动；驱动结构，与第一推杆组件连接，被配置为驱动第一推杆组件沿水平直线往复移动。
5、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，第一推杆组件包括与第一斜面滑块连接的第一推杆以及与第一推杆连接的第一滑动组件；其中，腔体的侧壁具有沿水平方向设置的第一滑槽，第一滑动组件的第一端穿过第一滑槽与第一推杆连接，第一滑动组件的第二端与驱动结构连接，驱动结构设置于腔室外，并被配置为驱动第一滑动组件沿第一滑槽往复移动，使第一推杆沿水平直线往复移动。
6、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，驱动结构包括：第一驱动组件，被配置为提供正转驱动力和反转驱动力；第一齿轮，与第一驱动组件连接，在第一驱动组件的驱动下绕第一轴线交替正转和反转；驱动盘，设置于第一齿轮的靠近侧壁的一侧，在第一齿轮的带动下绕第一轴线交替正转和反转，驱动盘具有第二滑槽，第二滑槽的形状包括渐开线形；其中，第一滑动组件的第一端穿过第二滑槽和第一滑槽与第一推杆连接，第一滑动组件的第二端与第二滑槽滑动连接；其中，在驱动盘绕第一轴线交替正转和反转的过程中，第二滑槽推动第一滑动组件沿第一滑槽往复移动，使第一推杆沿水平直线往复移动。
7、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，第一齿轮具有中心孔；驱动结构还包括：连接盘，设置于第一齿轮的远离侧壁的一侧，并与第一齿轮的端面平行；第二驱动组件，与连接盘连接，被配置为驱动连接盘与第一齿轮的端面接触或者分离；连接轴，穿过中心孔，并与中心孔间隙配合，连接轴的第一端与驱动盘连接，连接轴的第二端与连接盘连接；其中，在第一齿轮转动并且连接盘接触第一齿轮的端面的情况下，连接轴被第一齿轮驱动，使驱动盘绕第一轴线正转和反转。
8、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，第一滑动组件包括：滑动头，与第二滑槽滑动连接，滑动头的靠近第一滑槽的一端具有沿驱动盘的径向延伸的延伸部；滑杆，滑杆的第一端穿过第一滑槽与第一推杆连接，滑杆的第二端与延伸部连接；其中，在第二滑槽的推动下滑动头带动滑杆沿第一滑槽往复移动。
9、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑台具有第一凹槽，被配置为容纳第一斜面滑块；其中，第一凹槽底部设置有滚轮组件，第一斜面滑块设置于滚轮组件上。
10、第二方面，本申请一实施例提供了一种气相沉积设备，包括第一方面任一项提及的支撑机构。
11、第三方面，本申请一实施例提供了一种气相沉积方法，应用于第一方面任一项提及的支撑机构，其中，支撑机构应用于气相沉积设备，气相沉积设备被配置为对待沉积件进行气相沉积，气相沉积设备包括腔体，腔体围成腔室，腔室用于容纳待沉积件，支撑机构被配置为支撑待沉积件；其中，气相沉积方法包括：利用支撑机构形成的第一支撑平面和第二支撑面交替支撑待沉积件。
12、本申请实施例提供的支撑机构，支撑台上设置有至少一组第一支撑柱和至少一组第二支撑柱，第一斜面滑块可以在支撑台上沿直线滑动，第二支撑柱设置于第一斜面滑块的第一斜面上的支撑座上，在第一斜面滑块沿往复滑动的过程中，支撑座可以沿竖直方向升高或者降低，使第二支撑平面高于或者低于第一支撑平面，在第一支撑平面高于第二支撑平面的情况下，第一支撑柱支撑待沉积件，在第一支撑平面低于第二支撑平面的情况下，第二支撑柱支撑待沉积件，通过第一支撑柱和第二支撑柱更替支撑待沉积件，使得第一支撑柱和第二支撑柱与待沉积件的接触区域均可以暴露在工艺气体中，从而可以一次性完成对待沉积件的所有表面的薄膜沉积，提高了待沉积件的沉积效果，省去了薄膜修补等工艺，提高了生产效率。
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1.一种支撑机构，其特征在于，应用于气相沉积设备，所述气相沉积设备被配置为对待沉积件进行气相沉积，所述气相沉积设备包括腔体，所述腔体围成腔室，所述腔室用于容纳所述待沉积件，所述支撑机构被配置为支撑所述待沉积件，所述支撑机构包括：
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，还包括：
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述第一推杆组件包括与所述第一斜面滑块连接的第一推杆以及与所述第一推杆连接的第一滑动组件；
5.根据权利要求4所述的支撑机构，其特征在于，所述驱动结构包括：
6.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述第一齿轮具有中心孔；
7.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述第一滑动组件包括：
8.根据权利要求1至7任一项所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑台具有第一凹槽，被配置为容纳所述第一斜面滑块；
9.一种气相沉积设备，其特征在于，包括：
10.一种气相沉积方法，其特征在于，应用于权
...【技术特征摘要】
1.一种支撑机构，其特征在于，应用于气相沉积设备，所述气相沉积设备被配置为对待沉积件进行气相沉积，所述气相沉积设备包括腔体，所述腔体围成腔室，所述腔室用于容纳所述待沉积件，所述支撑机构被配置为支撑所述待沉积件，所述支撑机构包括：
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，还包括：
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述第一推杆组件包括与所述第一斜面滑块连接的第一推杆以及与所述第一推杆连接的第一滑动组件；
5.根据权利要求4所述的支撑机构，其特征在于，所述驱动结构包括：
6.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖家豪，邱淋鹏，柴攀，万强，
申请(专利权)人：湖南德智新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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