【技术实现步骤摘要】
本公开内容一般涉及在隔绝的环境之中于腔室之间传输基板的机器人和基板传送系统的领域。基板可使用在传输封闭件之中的磁悬浮平台来传输。亦公开在传送腔室中使用该磁悬浮平台的方法。
技术介绍
1、在数个处理腔室之中使用大量处理步骤于半导体基板上生产半导体装置。各个处理腔室用来完成一个或多个各种步骤(例如，蚀刻、抛光、沉积)以形成半导体装置。基板传送系统用来在处理腔室的各个处理腔室之间移动基板。处理腔室和基板传送系统可分别保持在真空下。用于基板传送系统的一种布置是线性布置，在该线性布置中处理腔室沿着线性(矩形)腔室的各侧成排布置。
2、使用线性布置的基板传送系统通常包括传送带，传送带具有矩形顶部表面并且处理腔室在传送带的一侧或相对侧上。传送带可连接至装载锁定件，以便当基板从基板传送系统供应和移除时，在基板传送系统之中维持真空环境。一个或多个机械臂可定位接近处理腔室，以在传送带和处理腔室之间传送基板。传统的基板载具通常受限于仅以一个方向移动基板。因此，用于在处理腔室之间移动基板和进和/或出装载锁定件的运动选择可能受限。此外，传统基板载具可具有大的足迹和内部空间，以容纳在第一方向中移动的一个轨道，和在相对的第二方向中移动的水平偏移的第二轨道。
技术实现思路
1、根据各种实施方式，本文公开一种用于电子装置处理系统的传送腔室，包含第一磁悬浮轨道，设置于传送腔室之中的第一高度处，其中第一磁悬浮轨道具有面向上定向，构造成在第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；第二磁悬浮轨道，设置于传送腔室之中的第二
2、根据各种实施方式，本文进一步公开一种电子装置处理系统，包含传送腔室，包含第一磁悬浮轨道，设置于传送腔室之中的第一高度处，其中第一磁悬浮轨道具有面向上定向，构造成在第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；第二磁悬浮轨道，设置于传送腔室之中的第二高度处，其中第二磁悬浮轨道具有面向下定向，构造成在第一磁悬浮轨道下方产生第二磁场；多个基板载具，构造成沿着第一磁悬浮轨道和第二磁悬浮轨道移动，其中多个基板载具的各个基板载具在基板载具的底部上包含第一磁体，以与第一磁场相互作用，且在基板载具的顶部上包含第二磁体，以与第二磁场相互作用；和至少一个升降杆组件，构造成在第一磁悬浮轨道和第二磁悬浮轨道之间于垂直方向中移动多个基板载具；多个处理腔室，沿着传送腔室的长度连接至传送腔室；和第一装载锁定件，连接至传送腔室的一端。
3、在又进一步各种实施方式中，本文公开一种在传送腔室中移动一个或多个基板的方法，包含通过与第一磁悬浮轨道接合的第一基板载具从装载锁定件取回第一基板，第一磁悬浮轨道定位靠近传送腔室的底部，其中第一磁悬浮轨道具有面向上定向，构造成在第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；通过第一磁悬浮轨道产生第一磁场，以沿着第一磁悬浮轨道在第一方向中移动具有第一基板的第一基板载具；用第一升降杆组件举升具有第一基板的第一基板载具至第二磁悬浮轨道，第二磁悬浮轨道定位靠近传送腔室的顶部表面，其中第二磁悬浮轨道具有面向下定向，构造成在第一磁悬浮轨道下方产生第二磁场；侦测第一基板载具靠近第二磁悬浮轨道；和产生第二磁场以在第二磁悬浮轨道下方悬吊第一基板载具，且沿着第二磁悬浮轨道在第二相对方向中移动具有第一基板的第一基板载具。
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1.一种用于电子装置处理系统的传送腔室，包含：
2.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述至少一个组件包含至少一个升降杆组件。
3.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述传送腔室仅具有设置于所述传送腔室之中的第一高度处的单一磁悬浮轨道，并且仅具有设置于所述传送腔室之中的第二高度处的单一磁悬浮轨道，其中所述第一磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第一高度处，且所述第二磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第二高度处。
4.如权利要求1所述的传送腔室，进一步包含多个基板载具，所述多个基板载具构造成沿着所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道移动，其中所述多个基板载具的各个基板载具在所述基板载具的底部上包含第一磁体，以与所述第一磁场相互作用，且在所述基板载具的顶部上包含第二磁体，以与所述第二磁场相互作用。
5.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述传送腔室包含多个口，且其中所述多个口的各个口构造成准许对处理腔室的进出。
6.如权利要求5所述的传送腔室，进一步包含额外口，所述额外口构造成准许装载锁定件的进出，其中所述额外口沿着所述传送
7.如权利要求5所述的传送腔室，其中所述多个口是多个狭缝阀，其中所述多个狭缝阀的至少第一子集的第一传送平面对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。
8.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述第一磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的长度在第一方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，且其中所述第二磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第二方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，其中所述第二方向与所述第一方向相对。
9.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述多个基板载具的一个基板载具包含用于保持基板的终端受动器，其中所述第一磁悬浮轨道或所述第二磁悬浮轨道的至少一个磁悬浮轨道构造成使所述基板载具旋转，以放置所述基板至处理腔室中。
10.如权利要求1所述的传送腔室，包含多个组件，所述多个组件构造成在垂直方向中移动所述多个基板载具，其中所述多个组件沿着所述第一磁悬浮轨道定位。
11.一种移动一个或多个基板通过传送腔室的方法，包含以下步骤：
12.如权利要求11所述的方法，其中所述至少一个组件包含至少一个升降杆组件。
13.如权利要求11所述的方法，其中所述传送腔室仅具有设置于所述传送腔室之中的第一高度处的单一磁悬浮轨道，并且仅具有设置于所述传送腔室之中的第二高度处的单一磁悬浮轨道，其中所述第一磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第一高度处，且所述第二磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第二高度处。
14.如权利要求11所述的方法，进一步包含多个基板载具，所述多个基板载具构造成沿着所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道移动，其中所述多个基板载具的各个基板载具在所述基板载具的底部上包含第一磁体，以与所述第一磁场相互作用，且在所述基板载具的顶部上包含第二磁体，以与所述第二磁场相互作用。
15.如权利要求11所述的方法，其中所述传送腔室包含多个口，且其中所述多个口的各个口构造成准许对处理腔室的进出。
16.如权利要求11所述的方法，进一步包含额外口，所述额外口构造成准许装载锁定件的进出，其中所述额外口沿着所述传送腔室的所述宽度设置于所述传送腔室的第一端处。
17.如权利要求11所述的方法，其中所述第一磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的长度在第一方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，且其中所述第二磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第二方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，其中所述第二方向与所述第一方向相对。
18.如权利要求11所述的传送腔室，其中所述多个基板载具的一个基板载具包含用于保持基板的终端受动器，其中所述第一磁悬浮轨道或所述第二磁悬浮轨道的至少一个磁悬浮轨道构造成使所述基板载具旋转，以放置所述基板至处理腔室中。
19.如权利要求11所述的方法，包含多个组件，所述多个组件构造成在垂直方向中移动所述多个基板载具，其中所述多个组件沿着所述第一磁悬浮轨道定位。
20.一种半导体处理系统，包含：
...【技术特征摘要】
1.一种用于电子装置处理系统的传送腔室，包含：
2.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述至少一个组件包含至少一个升降杆组件。
3.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述传送腔室仅具有设置于所述传送腔室之中的第一高度处的单一磁悬浮轨道，并且仅具有设置于所述传送腔室之中的第二高度处的单一磁悬浮轨道，其中所述第一磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第一高度处，且所述第二磁悬浮轨道设置于所述传送腔室之中的所述第二高度处。
4.如权利要求1所述的传送腔室，进一步包含多个基板载具，所述多个基板载具构造成沿着所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道移动，其中所述多个基板载具的各个基板载具在所述基板载具的底部上包含第一磁体，以与所述第一磁场相互作用，且在所述基板载具的顶部上包含第二磁体，以与所述第二磁场相互作用。
5.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述传送腔室包含多个口，且其中所述多个口的各个口构造成准许对处理腔室的进出。
6.如权利要求5所述的传送腔室，进一步包含额外口，所述额外口构造成准许装载锁定件的进出，其中所述额外口沿着所述传送腔室的所述宽度设置于所述传送腔室的第一端处。
7.如权利要求5所述的传送腔室，其中所述多个口是多个狭缝阀，其中所述多个狭缝阀的至少第一子集的第一传送平面对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。
8.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述第一磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的长度在第一方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，且其中所述第二磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第二方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，其中所述第二方向与所述第一方向相对。
9.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述多个基板载具的一个基板载具包含用于保持基板的终端受动器，其中所述第一磁悬浮轨道或所述第二磁悬浮轨道的至少一个磁悬浮轨道构造成使所述基板载具旋转，以放置所述基板至处理腔室中。
10.如权利要求1所述的传送腔室，包含多个组件，所述多个组件构造成在垂直方向中移动所述多个基...
【专利技术属性】
技术研发人员：亚历克斯·伯杰，杰弗里·赫金斯，埃里克·恩格尔哈特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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