System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸_技高网

一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:41952353 阅读:3 留言:0更新日期:2024-07-10 16:39
本发明专利技术公开一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,涉及镀膜机技术领域,包括:直线导轨;移动车体,所述移动车体能够沿所述直线导轨进行往复式直线运动;支架,所述支架的底端与所述移动车体固连;旋转驱动机构,所述旋转驱动机构固设在所述支架的顶端;夹具,所述夹具与所述旋转驱动机构的输出轴固连,所述旋转驱动机构用于驱动所述夹具转动;所述夹具用于夹持被镀膜的样品。本发明专利技术的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置能够扩大磁控溅射镀膜设备中镀制样品的均匀区,使镀制样品的尺寸范围在不改变阴极溅射靶的情况下尽可能的增大。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀膜机,特别是涉及一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置


技术介绍

1、目前磁控溅射镀膜机系统从结构上来说一般分为两种:一是直线式往返镀膜,真空腔体内的运动机构的在平直轨道上做往返直线运动;二是旋转式镀膜,镀膜机腔体中样品将围绕着靶材旋转运动,从而均匀镀膜。

2、申请号为cn201220669495.3的专利公开的磁控溅射镀膜机的工件转动装置就属于旋转式磁控镀膜设备。旋转式磁控镀膜设备由于大多数运动部件都是做旋转圆周运动很方便引入自转系统,此自转系统不需要进行移动,技术实验方案简单容易实现。

3、而直线往返式磁控镀膜设备由于内部运动机构需要进行往复运动导致实现内部单独旋转机构较为复杂,目前直线式磁控溅射镀膜还没有可调节的自转样品机构。直线往返式磁控镀膜设备仅仅能够直线往返运动,旋转式磁控镀膜设备仅仅能够旋转运动,两者所达到的镀膜面积均有限,且直线往返式磁控镀膜设备仅能保证直线运动方向镀膜的均匀性,但在垂直导轨的运动方向上,由于阴极靶的磁场分布原因很难在大面积上实现均匀沉积。

4、在实际镀膜过程中由于阴极靶材的磁场不可能非常均匀,即使运动机构可以匀速的进行直线反复平移或匀速的旋转镀膜,但对于样品表面很大特别是大面积样品时还会出现均匀性不够的情况。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,以解决上述现有技术存在的问题,提高镀膜面积和镀膜的均匀性。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:

3、本专利技术提供一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,包括:

4、直线导轨;

5、移动车体,所述移动车体能够沿所述直线导轨进行往复式直线运动;

6、支架,所述支架的底端与所述移动车体固连;

7、旋转驱动机构,所述旋转驱动机构固设在所述支架的顶端;

8、夹具,所述夹具与所述旋转驱动机构的输出轴固连,所述旋转驱动机构用于驱动所述夹具转动;所述夹具用于夹持被镀膜的样品。

9、优选的,所述支架的高度能够调节;所述支架包括支撑体和固定壳体,所述固定壳体和所述支撑体均竖直,所述固定壳体的底部与所述移动车体固定连接,所述固定壳体的顶部开口,所述支撑体的底部插设在所述固定壳体中,所述支撑体能够相对所述固定壳体沿竖直方向滑动;所述支撑体上设置有多个第一定位孔,所述固定壳体上设置有多个第二定位孔,每个所述第一定位孔均能够同时与两个所述第二定位孔对齐,通过将限位杆插入相互对齐的所述第一定位孔和两个所述第二定位孔中对所述支撑体进行高度限位。

10、优选的,所述旋转驱动机构包括旋转电机和减速器,所述减速器与所述支撑体的顶端固连,所述夹具与所述减速器的输出轴固连,所述旋转电机与所述减速器固连,所述旋转电机的输出轴与所述减速器的输入轴固连。

11、优选的,所述旋转电机采用真空旋转电机,所述减速器采用真空减速器。

12、优选的,所述移动车体上设置有多个与所述直线导轨滚动配合的滚轮,所述移动车体上对应每个所述滚轮设置有驱动电机,所述驱动电机用于驱动对应的所述滚轮转动。

13、优选的,还包括控制器,所述驱动电机和所述旋转电机分别通过导线与所述控制器电连接,所述控制器与电源电连接。

14、优选的,所述导线采用真空线缆,所述直线导轨、所述移动车体、所述支架、所述旋转驱动机构和所述夹具均设置在真空腔室内,所述控制器设置在所述真空腔室外,位于所述真空腔室内的所述导线上套设有坦克链。

15、优选的,所述真空腔室上设置有真空引线法兰接口,所述旋转电机和所述驱动电机的电源线及所述导线分别通过所述真空引线法兰接口与所述控制器相连。

16、本专利技术相对于现有技术取得了以下技术效果:

17、(1)本专利技术的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置能够扩大磁控溅射镀膜设备中镀制样品的均匀区,使镀制样品的尺寸范围在不改变阴极溅射靶的情况下尽可能的增大。

18、(2)本专利技术能够提高镀膜样品本身的均匀性,特别是对直线式磁控溅射镀膜机而言,传统的只能通过往复运动提高均匀性,本专利技术的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置通过旋转样品本身使样品上的每个区域在旋转过程中经过辉光溅射区的不同位置,从而提高均匀性,特别是大面积样品镀膜的均匀性。

19、(3)适应性强,本专利技术的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置可以用于超高真空磁控溅射镀膜机中也可用于一般非真空镀膜设备

20、(4)取材方便,制造方便,本专利技术的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置中的所有部件均可在相关市场购买得到,无需特殊定制。

21、(5)使用简单便捷,控制器在磁控镀膜设备的真空腔室的外部,可以通过手持控制器进行转速调节,也可通过电脑程序控制控制器进行调节。

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【技术保护点】

1.一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述支架的高度能够调节;所述支架包括支撑体和固定壳体,所述固定壳体和所述支撑体均竖直,所述固定壳体的底部与所述移动车体固定连接,所述固定壳体的顶部开口,所述支撑体的底部插设在所述固定壳体中,所述支撑体能够相对所述固定壳体沿竖直方向滑动;所述支撑体上设置有多个第一定位孔,所述固定壳体上设置有多个第二定位孔,每个所述第一定位孔均能够同时与两个所述第二定位孔对齐,通过将限位杆插入相互对齐的所述第一定位孔和两个所述第二定位孔中对所述支撑体进行高度限位。

3.根据权利要求2所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述旋转驱动机构包括旋转电机和减速器,所述减速器与所述支撑体的顶端固连,所述夹具与所述减速器的输出轴固连,所述旋转电机与所述减速器固连,所述旋转电机的输出轴与所述减速器的输入轴固连。

4.根据权利要求3所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述旋转电机采用真空旋转电机,所述减速器采用真空减速器。

5.根据权利要求4所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述移动车体上设置有多个与所述直线导轨滚动配合的滚轮,所述移动车体上对应每个所述滚轮设置有驱动电机,所述驱动电机用于驱动对应的所述滚轮转动。

6.根据权利要求1所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:还包括控制器,所述驱动电机和所述旋转电机分别通过导线与所述控制器电连接,所述控制器与电源电连接。

7.根据权利要求6所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述导线采用真空线缆,所述直线导轨、所述移动车体、所述支架、所述旋转驱动机构和所述夹具均设置在真空腔室内,所述控制器设置在所述真空腔室外,位于所述真空腔室内的所述导线上套设有坦克链。

8.根据权利要求7所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述真空腔室上设置有真空引线法兰接口,所述旋转电机和所述驱动电机的电源线及所述导线分别通过所述真空引线法兰接口与所述控制器相连。

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【技术特征摘要】

1.一种能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述支架的高度能够调节;所述支架包括支撑体和固定壳体,所述固定壳体和所述支撑体均竖直,所述固定壳体的底部与所述移动车体固定连接,所述固定壳体的顶部开口,所述支撑体的底部插设在所述固定壳体中,所述支撑体能够相对所述固定壳体沿竖直方向滑动;所述支撑体上设置有多个第一定位孔,所述固定壳体上设置有多个第二定位孔,每个所述第一定位孔均能够同时与两个所述第二定位孔对齐,通过将限位杆插入相互对齐的所述第一定位孔和两个所述第二定位孔中对所述支撑体进行高度限位。

3.根据权利要求2所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述旋转驱动机构包括旋转电机和减速器,所述减速器与所述支撑体的顶端固连,所述夹具与所述减速器的输出轴固连,所述旋转电机与所述减速器固连,所述旋转电机的输出轴与所述减速器的输入轴固连。

4.根据权利要求3所述的能够平移和旋转的磁控溅射镀膜装置,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙航朱运平金长利
申请(专利权)人:苏州宏策光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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