【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体存储器装置,并且具体地涉及静态随机存取存储器。
技术介绍
由于静态随机存取存储器(在下文中被称为SRAM)的高工艺兼容性,迄今SRAM已 经被安装在诸如CPU的各种功能块上。通过使晶体管小型化已经实现半导体装置的较高的 集成度和较高的速度,所述晶体管是半导体装置的基本要素。同样也要求使被安装在半导 体装置上的SRAM小型化。 图2示出现有技术的SRAM。图2示出了包括6个晶体管的现有技术的SRAM存储 器单元(在下文中被称为SRAM单元)。根据第一字线WL的电压电平来切换存取晶体管N3 和N4的导通/截止。此外,通过是由2个CM0S(互补型金属氧化物半导体)逆变器组成的 锁存器来保持数据(存储器数据)。 图10示出了其中两维地排列图2的SRAM单元的根据现有技术的SRAM的整体结 构。在图10的电路中,通过第一字线WL、以及第一位线对BL0和BL1来存取SRAM单元。在 读取操作中,根据行地址信号RA激活第一字线WL。这使得被提供给被连接至相应的第一字 线WL的所有的SRAM单元的存取晶体管N3和N4被导通。即,存储器结点对(图2中的N3 和N4的漏极端子侧结点)被连接至第一位线对BLO和BL1 (N3和N4的源极端子侧结点), 其被利用电源电压VDD来充电,并且存储器数据被输出至第一位线对BLO和BL1。接下来, 通过位线对选择器SEL,根据列地址信号CA选择第一位线对BLO和BL1,并且然后将其输 出。从位线对选择器SEL输出的信号被输入至感应放大器SA。被输入至感应放大器SA的 信号的电势差被放大,并且然后作为读取信号将其输 ...
【技术保护点】
一种半导体存储器装置,包括:SRAM电路,所述SRAM电路包括存储数据的第一SRAM单元和放大与数据状态相对应的电势差并且存储所述电势差的第二SRAM单元;字线控制电路,所述字线控制电路输出用于选择要被读取/写入数据的所述第一SRAM单元中的一个的第一控制信号和用于选择要被读取/写入所述电势差的所述第二SRAM单元中的一个的第二控制信号;感应放大器电路,所述感应放大器电路放大读取信号的电势差,所述读取信号从根据所述第二控制信号选择的所述第二SRAM单元的位线对输出;以及写入控制电路,所述写入控制电路将写入信号输出至根据所述第二控制信号选择的所述第二SRAM单元的所述位线对,所述写入信号在位线之间具有大于所述读取信号的电势差。
【技术特征摘要】
JP 2008-10-10 2008-264008;JP 2009-9-10 2009-209072一种半导体存储器装置,包括SRAM电路,所述SRAM电路包括存储数据的第一SRAM单元和放大与数据状态相对应的电势差并且存储所述电势差的第二SRAM单元;字线控制电路,所述字线控制电路输出用于选择要被读取/写入数据的所述第一SRAM单元中的一个的第一控制信号和用于选择要被读取/写入所述电势差的所述第二SRAM单元中的一个的第二控制信号;感应放大器电路,所述感应放大器电路放大读取信号的电势差,所述读取信号从根据所述第二控制信号选择的所述第二SRAM单元的位线对输出;以及写入控制电路,所述写入控制电路将写入信号输出至根据所述第二控制信号选择的所述第二SRAM单元的所述位线对,所述写入信号在位线之间具有大于所述读取信号的电势差。2. —种半导体存储器装置,包括SRAM电路,所述SRAM电路包括存储数据的第一 SRAM单元和放大与数据状态相对应的电势差并且存储所述电势差的第二 SRAM单元;字线控制电路,所述字线控制电路输出用于选择要被读取/写入数据的所述第一 SRAM单元中的一个的第一控制信号和用于选择要被读取/写入所述电势差的所述第二 SRAM单 元中的一个的第二控制信号;感应放大器电路,所述感应放大器电路放大读取信号的电势差,所述读取信号从根据 所述第二控制信号选择的所述第二 SRAM单元的位线对输出;以及写入控制电路,所述写入控制电路将写入信号输出至根据所述第二控制信号选择的所 述第二 SRAM单元的所述位线对。3. 根据权利要求2所述的半导体存储器装置,其中通过被连接至所述第一 SRAM单元的位线对的所述第二 SRAM单元的存储器结点对,根 据所述第一控制信号和所述第二控制信号选择要被读取/写入所述数据的所述第一 SRAM 单元。4. 根据权利要求2所述的半导体存储器装置,其中,所述第二 SRAM单元包括 存取晶体管,所述存取晶体管根据所述第二控制信号切换所述第二SRAM单元的存储器结点对和所述第二 SRAM单元的所述位线对的连接状态;以及预充电晶体管,所述预充电晶体管根据从所述字线控制电路输出的预充电使能信号, 切换高电势侧电源端子和所述存储器结点对的连接状态,其中,根据被输入至低电势侧电源端子的放大控制信号,控制与所述存储器结点对中 的所述数据状态相对应的电势差的放大。5. 根据权利要求2...
【专利技术属性】
技术研发人员:武田晃一,
申请(专利权)人:恩益禧电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。