【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及low-e玻璃，尤其涉及一种low-e玻璃及制备方法。
技术介绍
1、中国申请公布号为cn114043788 a，授权公告日为2022年02月15日，其具体涉及一种汽车天窗夹层玻璃及汽车，属于汽车玻璃生产的
，解决了现有的汽车天窗在夏季容易造成车内升温过高的问题。一种汽车天窗夹层玻璃，包括外层镀膜玻璃和内层镀膜玻璃：所述外层镀膜玻璃与内层镀膜玻璃之间设置有pvb胶片；所述外层镀膜玻璃包括三银low-e膜和外层玻璃基片；所述三银low-e膜位于所述外层玻璃基片靠近所述pvb胶片的一侧；所述内层镀膜玻璃包括阳光控制膜和内层玻璃基片；所述阳光控制膜位于所述内层玻璃基片远离所述pvb胶片的一侧。该现有技术存在的缺陷是：在实际生产过程中，夹层玻璃结构，生产时常出现的情况是由于膜层的稳定性不足，导致成品出现色差，从而降低成品率。鉴于这种情况，亟待改善。
技术实现思路
1、基于此，本专利技术的目的在于提供一种low-e玻璃及制备方法，调整膜层结构，提升膜层的耐加工性，从而提升成品率。
2、本专利技术提供一种low-e玻璃，从下至上依次包括第一玻璃基层、pvb胶片层、第二玻璃基层，所述第二玻璃基层远离所述pvb胶片层的一侧面从下至上依次设置的膜层有sinx层、第一znox层、第一ag层、第一tiox层、zno层、第二ag层、第二tiox层、第二znox层、第三ag层、mo层、nbo5。
3、优选的，所述sinx层的厚度为80-90nm。
4、
5、优选的，所述第一ag层的厚度为5-8nm；所述第二ag层的厚度为4-10nm；所述第二ag层的厚度为5-10nm。
6、优选的，所述第一tiox层的厚度为20-60nm；所述第二tiox层的厚度为6-20nm。
7、优选的，所述zno层的厚度为17-20nm。
8、优选的，所述mo层的厚度为2-5nm。
9、优选的，所述nbo5的厚度为80-150nm。
10、优选的，所述第一玻璃基层远离所述pvb胶片层的一侧面设置有zr膜层；所述zr膜层的厚度为80-150nm。
11、一种low-e玻璃的制备方法，包括以下步骤：
12、1)准备两片浮法玻璃，一片作为第一玻璃基层，另一片作为第二玻璃基层；
13、2)在第二玻璃基层上磁控溅射sinx层，采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流中频电源溅射半导体材料；氩气和氮气的比例为1:1.3；溅射气压为2.5～8.5×10-3mbar；
14、3)在步骤2)的基础上，磁控溅射第一znox层，采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，溅射气压为2.5～8.5×10-3mbar；
15、4)在步骤3)的基础上，磁控溅射第一ag层，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射银靶；
16、5)在步骤4)的基础上，磁控溅射第一tiox层，采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流中频电源溅射；
17、6)在步骤5)的基础上，磁控溅射zno层，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流中频电源溅射；
18、7)在步骤6)的基础上，磁控溅射第二ag层，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射银靶；
19、8)在步骤7)的基础上，磁控溅射第二tiox层，采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，用交流中频电源溅射；
20、9)在步骤8)的基础上，磁控溅射第二znox层，采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，溅射气压为2.5～8.5×10-3mbar；
21、10)在步骤9)的基础上，磁控溅射第三ag层，采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射银靶；
22、11)在步骤10)的基础上，磁控溅射mo层，使用靶材为mo靶，采用直流电源，在纯氩气工作气体中进行溅射；
23、12)在步骤11)的基础上，磁控溅射nbo5，氩气作为保护气体，用交流中频电源溅射陶瓷靶；
24、13)在第一玻璃基层上磁控溅射zr膜层，采用直流电源，在纯氩气工作气体中进行溅射；
25、14)在所述第一玻璃基层和所述第二玻璃基层之间设置pvb胶片层，通过加热和辊压，形成low-e夹层玻璃。
26、本专利技术的有益效果为：通过设置nbo5层，提高膜层之间的结合力，膜层强度高，配合mo层的化学稳定性，提升膜层的耐加工性，降低出现色差的几率，从而直接提高成品率。
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1.一种low-E玻璃，其特征在于：从下至上依次包括第一玻璃基层(12)、PVB胶片层(11)、第二玻璃基层(10)，所述第二玻璃基层(10)远离所述PVB胶片层(11)的一侧面从下至上依次设置的膜层有SiNx层(14)、第一ZnOx层(15)、第一Ag层(16)、第一TiOx层(17)、ZnO层(18)、第二Ag层(19)、第二TiOx层(20)、第二ZnOx层(21)、第三Ag层(22)、Mo层(23)、NbO5(24)。
2.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述SiNx层(14)的厚度为80-90nm。
3.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述第一ZnOx层(15)的厚度为5-15nm；所述第二ZnOx层(21)的厚度为10-20nm。
4.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述第一Ag层(16)的厚度为5-8nm；所述第二Ag层(19)的厚度为4-10nm；所述第二Ag层(19)的厚度为5-10nm。
5.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述第一T
6.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述ZnO层(18)的厚度为17-20nm。
7.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述Mo层(23)的厚度为2-5nm。
8.根据权利要求1所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述NbO5(24)的厚度为80-150nm。
9.根据权利要求1-8任一项所述的一种low-E玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基层(12)远离所述PVB胶片层(11)的一侧面设置有Zr膜层(13)；所述Zr膜层(13)的厚度为80-150nm。
10.一种low-E玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种low-e玻璃，其特征在于：从下至上依次包括第一玻璃基层(12)、pvb胶片层(11)、第二玻璃基层(10)，所述第二玻璃基层(10)远离所述pvb胶片层(11)的一侧面从下至上依次设置的膜层有sinx层(14)、第一znox层(15)、第一ag层(16)、第一tiox层(17)、zno层(18)、第二ag层(19)、第二tiox层(20)、第二znox层(21)、第三ag层(22)、mo层(23)、nbo5(24)。
2.根据权利要求1所述的一种low-e玻璃，其特征在于：所述sinx层(14)的厚度为80-90nm。
3.根据权利要求1所述的一种low-e玻璃，其特征在于：所述第一znox层(15)的厚度为5-15nm；所述第二znox层(21)的厚度为10-20nm。
4.根据权利要求1所述的一种low-e玻璃，其特征在于：所述第一ag层(16)的厚度为5-8nm；所述第二ag层(19)的厚度...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹耀明，
申请(专利权)人：东莞市银建玻璃工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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