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用于光学成像应用的校准辅助制造技术

技术编号:41900612 阅读:6 留言:0更新日期:2024-07-05 14:07
本发明专利技术涉及用于光学成像应用的校准装置,该校准装置包括形成独立的区域(11‑19)的主体(1)和布置在所述区域上的在包括500nm至2000nm的波长的光谱范围内可见的聚合材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术总体上涉及光学成像应用和系统。更具体地,本专利技术涉及用于这种应用的校准装置,也称为“校准辅助”。


技术介绍

1、在光学成像应用中,例如在使用光学成像装置的外科手术中,校准辅助用于校准装置。通常,校准辅助包括在近红外范围内具有吸收的荧光染料。

2、传统的光学染料可能导致涂层的低稳定性,导致染料泄漏到组织、低亮度和快速化学和光化学降解(漂白)。

3、在光学成像应用的背景下,确实需要提供改进的校准装置和相应的方法。


技术实现思路

1、本专利技术的第一目的是用于光学成像应用的校准装置,该校准装置包括形成至少两个独立的区域的主体和布置在所述区域上的材料,其中:

2、-所述材料包含至少一种疏水聚合物和至少一种染料,该染料在包括500nm至2000nm的波长的光谱范围内可见,

3、-所述至少一种疏水聚合物形成连续基质,

4、-所述至少一种染料以按所述材料中疏水聚合物的重量计的预定重量百分比均匀分布在聚合物基质中,

5、-所述至少一种染料的重量百分比在所述区域的每一个中是不同的。

6、所述区域或点可以是凹的、凸的或平面的。

7、在实施方案中,主体包括至少两个凹部,其分别形成至少两个独立的区域。

8、在实施方案中,主体包括定义所述区域的平坦表面。

9、所述光学成像应用可以是外科光学成像应用。

10、根据本专利技术的特定实施方案,所述材料为涂层形式,例如涂层薄膜形式。本文使用的术语“涂层薄膜”是指在涂抹聚合物溶液之后形成的单层或多层干燥薄层,如前所述,该聚合物溶液包括在包括500nm至2000nm的波长的光谱范围内可见的至少一种染料。

11、所述涂层薄膜均匀、稳定,并且在光滑表面上具有良好的附着力。

12、根据本专利技术,布置在所述区域上的材料是包围所述染料的固体聚合物基质。该实施方案允许校准装置易于灭菌,例如通过与灭菌组合物接触。

13、根据特别有利的实施方案,所述疏水聚合物选自聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基丙烯酸乙酯)、聚(甲基丙烯酸丙酯)、聚(甲基丙烯酸丁酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸)、聚(丙交酯-co-乙交酯)、聚乳酸、聚乙醇酸、聚己内酯、三乙酸纤维素、硝化纤维素、聚二甲基硅氧烷、聚(对苯二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯、聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯、聚苯乙烯及其与聚(乙二醇)的共聚物。

14、在优选实施方案中,所述材料是发光材料。

15、更具体地,所述至少一种染料可以选自发光染料,所述发光染料包括荧光染料、磷光染料和化学发光染料。

16、优选地,所述至少一种染料通过波长为500nm至1300nm、甚至更优选地波长为700nm至900nm的光可见。

17、根据本专利技术的具体的和优选的实施方案,所述至少一种染料选自:

18、i)下列式(i)的花青染料:

19、

20、其中:

21、-n是等于1、2、3或4的整数;

22、-x-是反离子,

23、-w是选自s、n、o的杂原子或带有两个甲基取代基的碳原子(c(ch3)2);

24、-r1,r2和r3能够是相同或不同的,代表氢原子、具有1至24个碳原子的烃链;

25、-r4和r5能够是相同或不同的,代表氢原子或具有1至24个碳原子的烃链;

26、-r6和r7是相同的并代表氢原子,或者与其分别键合的碳原子一起形成稠合苯环。

27、ii)下列式(ii)的染料:

28、以及

29、iii)下列式(iii)的染料:

30、

31、其中:

32、-a和b独立地选自:

33、

34、-x和y分别独立地选自s和se,

35、-z独立地是n和p中的一个;以及

36、-r9、r10、r11和r12分别独立地为式-烷基-连接体,其中“烷基”为-(ch2)n-,其中n为1至14,包括1和14,并且其中“连接剂”选自磺酸基、膦酸基、羧基、羟基、nets酯、马来酰亚胺、胺、-sh、磺酸和酰肼。

37、在本专利技术的具体的和优选的实施方案中,所述式(ⅰ)的至少一种染料是荧光染料,并且是下式的5.5.花青:

38、

39、所述至少一种染料也可以是选自下式(ⅳ)的7.5花青的荧光染料:

40、以及它们的类似物,

41、其中:

42、-r13和r14是相同或不同的,并且独立地选自:

43、○氢,

44、○选自(c1-c20)烷基、环(c3-c20)烷基、(c2-c20)烯基、(c2-c20)炔基、杂环基、环(c3-c20)烯基、杂环(c2-c20)烯基、芳基、杂芳基、杂(c1-c20)烷基、(c1-c20)烷基芳基和(c1-c20)烷基杂芳基的基团,所述基团未被取代或被选自(c1-c5)烷基、芳基和-coor11的一个或两个取代基取代,r11为(c1-c20)烷基,和

45、○式的基团,其中e选自-o-、-s-、-se-、-nh-、-ch2-;r15选自(c1-c20)烷基、环(c3-c20)烷基、(c2-c20)烯基、(c2-c20)炔基、杂环基、环(c3-c20)烯基、杂环(c2-c20)烯基、芳基、杂芳基、杂(c1-c20)烷基、(c1-c20)烷基芳基、(c1-c20)烷基杂芳基,r15未被取代或被选自(c1-c5)烷基、芳基或-coor16的一个至三个取代基取代,r16为(c1-c20)烷基。

46、-a1是下式的基团:

47、并且a2是下式的基团:

48、

49、-或者a1是以式的基团:

50、并且a2是下式的基团:

51、

52、其中:

53、-r18和r20独立地选自氢、卤素、(c1-c10)烷基、-or21、-nr21r22、-no2、-cf3、-cn、-sr21、-n3、-c(=o)r21、-oc(=)or21、-c(=o)nr21r22、-nr21c(=o)r22,其中r21和r22独立地选自氢、未取代的(c1-c10)烷基、未取代的(c2-c10)烯基、未取代的(c2-c10)炔基、环(c3-c10)烯基、杂环基、环(c3-c10)烯基、杂环(c2-c10)烯基、芳基、杂芳基、芳基(c1-c10)烷基、杂(c1-c10)烷基、(c1-c10)烷基芳基、(c1-c10)烷基杂芳基;

54、-r17和r19独立地选自最终被疏水基取代的(c1-c20)烷基、最终被疏水基取代的环(c3-c20)烷基、最终被疏水基取代的(c2-c20)烯基、(c2-c20)炔基、最终被疏水基取代的杂环基、最终被疏水基取代的环(c3-c20)烯基、最终被疏水基取代的杂本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于光学成像应用的校准装置,所述校准装置包括形成至少两个独立的区域(11-19)的主体(1)和布置在所述区域上的材料,其中:

2.根据权利要求1所述的校准装置,其中所述主体(1)包括至少两个凹部(11-19),其分别形成所述至少两个独立的区域。

3.根据权利要求1或2所述的校准装置,其中所述材料为涂层形式。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的校准装置,其中所述疏水聚合物选自聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基丙烯酸乙酯)、聚(甲基丙烯酸丙酯)、聚(甲基丙烯酸丁酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸)、聚(丙交酯-co-乙交酯)、聚乳酸、聚乙醇酸、聚己内酯、三乙酸纤维素、硝化纤维素、聚二甲基硅氧烷、聚(对苯二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯、聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯、聚苯乙烯及其与聚(乙二醇)的共聚物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料选自发光染料,所述发光染料包括荧光染料、磷光染料和化学发光染料。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料选自:>

7.根据权利要求1至5中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料是选自以下式(IV)的7.5花青的荧光染料:

8.根据权利要求6所述的校准装置,其中所述式(I)的至少一种染料是荧光染料,并且是下式的5.5.花青:

9.根据权利要求5至8中任一项所述的校准装置,其中所述反离子X-选自:

10.根据权利要求1至9中任一项所述的校准装置,其中在每个区域中所述至少一种染料的重量百分比为所述材料中疏水聚合物重量的0.001%至30%,特别是0.01%至1.0%。

11.一种用于制造根据权利要求1至10中任一项所述的校准装置的方法,其包括将所述材料沉积在校准装置的主体(1)的所述区域(11-19)上的步骤。

12.一种用于对物体成像和/或用于校准成像装置的方法,其特征在于,其包括照射根据权利要求1至10中任一项所述的校准装置的步骤和从所述校准装置获取光信号的步骤。

13.根据权利要求12所述的方法,其中使用包括近红外相机或多光谱或超光谱成像系统的成像装置来执行所述获取光信号的步骤。

14.根据权利要求13所述的方法,其包括基于所获取的光信号量化所述成像装置和所述校准装置之间的距离的步骤。

15.一种用于分析物体的方法,其包括从所述物体获取光信号的步骤和使用由此获取的光信号构建所述物体的图像的步骤,其特征在于,所述方法包括基于使用根据权利要求12至14中任一项所述的方法获取的光信号来校正所述图像的步骤。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于光学成像应用的校准装置,所述校准装置包括形成至少两个独立的区域(11-19)的主体(1)和布置在所述区域上的材料,其中:

2.根据权利要求1所述的校准装置,其中所述主体(1)包括至少两个凹部(11-19),其分别形成所述至少两个独立的区域。

3.根据权利要求1或2所述的校准装置,其中所述材料为涂层形式。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的校准装置,其中所述疏水聚合物选自聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基丙烯酸乙酯)、聚(甲基丙烯酸丙酯)、聚(甲基丙烯酸丁酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸)、聚(丙交酯-co-乙交酯)、聚乳酸、聚乙醇酸、聚己内酯、三乙酸纤维素、硝化纤维素、聚二甲基硅氧烷、聚(对苯二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯、聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚氨酯、聚苯乙烯及其与聚(乙二醇)的共聚物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料选自发光染料,所述发光染料包括荧光染料、磷光染料和化学发光染料。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料选自:

7.根据权利要求1至5中任一项所述的校准装置,其中所述至少一种染料是选自以下式(iv)的7.5花青的荧光染料:

8.根据权利要求6所述的校准...

【专利技术属性】
技术研发人员:安德烈·克里姆琴科米歇尔·黛安娜阿尼拉·霍斯克雷·阿育王
申请(专利权)人:斯特拉斯堡大学
类型:发明
国别省市:

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