一种玻璃熔窑的熔制部结构制造技术

技术编号:41898837 阅读:11 留言:0更新日期:2024-07-05 14:06
本技术涉及熔窑熔制部技术领域,具体指一种玻璃熔窑的熔制部结构。该熔制部包括熔池,所述熔池用于承放玻璃液;后山墙,所述后山墙设置在熔池一侧,且靠近熔池的一侧设有至少一层导流挑台,所述导流挑台顶部设有导流槽;吊墙,所述吊墙相对后山墙设置在熔池的另一侧;胸墙,所述胸墙设置在后山墙两侧分别连接吊墙的两侧共同形成熔制空间;大碹,所述大碹设在吊墙、后山墙和两个胸墙的顶部封堵熔制空间。本技术结构简单,导流挑台具有更好的导流效果,砌筑方便,可让低共熔体等杂质沿着导流挑台的导流槽流到两边的收集容器内,再通过排污通道流出,从而避免了杂质共熔体直接流入玻璃液,对玻璃的质量产生影响。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及熔窑熔制部,具体指一种玻璃熔窑的熔制部结构


技术介绍

1、在玻璃熔制过程中,后山墙与大碹因为高温的烧蚀、碱蒸汽的侵蚀、飞料的冲刷,砖材与泥料会部分熔融,形成低共熔体,这些低共熔体容易沿着后山墙流至玻璃液中,形成杂质,在玻璃中形成结石等缺陷,从而影响玻璃的质量。

2、中国专利技术专利公开号“cn114212967a”公开了一种玻璃熔窑,包括玻璃熔制部,玻璃熔制部包括熔池、大碹以及与大碹四周相连的四面墙体,其中:大碹与四面墙体形成熔制空间,熔池位于熔制空间内,熔池用于放置玻璃液;四面墙体包括相对的吊墙和后山墙,吊墙开设有投料口,后山墙靠近投料口的一侧上设有至少一层沿后山墙周向凸出的第一挡流砖层。低共熔物和膨胀缝处的杂质聚集在第一挡流砖层,避免其沿着后山墙流至玻璃液。

3、但该第一挡流砖层聚集的低共熔物和膨胀缝处的杂质过多时,会从第一挡流砖层远离后山墙一侧的边沿留下,流入玻璃液或掉在下层的第一挡流砖层产生溅射进入玻璃液中;且下层的第一挡流砖层也存在上层的问题。


技术实现思路

1、本技术要解决的主要技术问题是:提供一种对低共熔物等杂质具有更好导流功能的玻璃熔窑的熔制部结构。

2、本技术采用的技术方案是:一种玻璃熔窑的熔制部结构,包括,

3、熔池,所述熔池用于承放玻璃液;

4、后山墙,所述后山墙设置在熔池一侧,后山墙设有膨胀缝,且靠近熔池的一侧设有至少一层导流挑台,所述导流挑台顶部设有导流槽;

5、吊墙,所述吊墙相对后山墙设置在熔池的另一侧;

6、胸墙,所述胸墙设置在后山墙两侧分别连接吊墙的两侧共同形成熔制空间;

7、大碹,所述大碹设在吊墙、后山墙和两个胸墙的顶部封堵熔制空间。

8、进一步地,所述导流挑台包括第一导流砖和多个第二导流砖,所述第二导流砖呈阶梯式下降延续设置在第一导流砖两侧;所述导流槽包括设置在第一导流砖上两端开口的第一引流槽和设置在第二导流砖上的第二引流槽,所述第二引流槽远离第一导流砖的一端轴向开口、另一端轴向封闭。

9、进一步地,所述第二导流砖的连接处部分中叠;所述第二引流槽封闭端位于重叠部份。

10、进一步地,所述第一引流槽是中间高两端低的“人”型结构;所述第二引流槽的封闭端高于开口端。

11、进一步地,所述第一引流槽和第二引流槽的底面均是远离后山墙一侧高、靠近后山墙一侧低的斜面。

12、进一步地,所述导流挑台两侧设有收集容器。

13、进一步地,所述导流挑台层数是两层,两层导流挑台间隔设置;所述收集容器设置在下层导流挑台的两侧。

14、进一步地,还包括支撑装置和立柱,所述支撑装置包括设于胸墙底部的挂钩砖、设于挂钩砖下的托板和支撑托板的巴掌铁;所述立柱设于胸墙外侧与巴掌铁固定连接。

15、进一步地,所述收集容器设在挂钩砖上,且下端设有贯穿后山墙的排污通道。

16、进一步地,所述后山墙包括承重碹,承重碹下设有通道,承重碹两侧设有碹喳,碹喳远离承重碹的一侧设有紧抵碹喳的承台。

17、本技术的优点有:1、通过导流槽可使低共熔物等杂质在导流槽内流动,避免低共熔物等杂质堆积过多从导流挑台上远离后山墙一侧的边沿流出;

18、2、导流挑台包括第一导流砖和多个第二导流砖,第二导流砖由导流挑台中部向两侧呈阶梯式下降延续设置,在保证导流效果的同时,便于将导流的砖块砌筑在后山墙上,也具有更好的固定效果;第二引流槽远离第一导流砖的一端轴向开口、另一端轴向封闭,使低共熔物等杂质在导流槽内向两侧单向流动,避免杂质回流;

19、3、第二导流砖的连接处部分重叠且第二引流槽的封闭段位于重叠部时,可避免杂质从第一导流砖及第二导流砖的各连接处的缝隙中流出;

20、4、第一引流槽中间高、两端低,第二引流槽远离第一引流槽的一端更低,利用重力,促进杂质从导流槽中部高端向两侧低端流出;

21、5、第一引流槽和第二引流槽均是斜面时,可使杂质在导流槽中靠近后山墙一侧流动,减小低共熔物等杂质过多时向远离后山墙一侧溢出的可能;

22、6、收集容器可集中收集导流下来的杂质,方便集中处理;

23、7、两层导流挑台具有更好地防止杂质流进入玻璃液的效果,确保玻璃液的纯净;

24、8、通过支撑装置和立柱可承托胸墙,且挂钩砖可保护托板和巴掌铁避免被熔制部的高温火焰烧坏;

25、9、收集容器可通过排污通道将碹滴穿过后山墙排出;

26、10、后山墙下的通道可使玻璃液流入冷却部,通过承重碹及其两侧的碹喳和承台可避免承重碹长期承重后形变向两侧垮掉。

27、本玻璃熔窑的熔制部结构简单,导流挑台具有更好的导流效果,砌筑方便,可让低共熔体等杂质沿着导流挑台的导流槽流到两边的收集容器内,再通过排污通道流出,从而避免了杂质共熔体直接流入玻璃液,对玻璃的质量产生影响。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:包括,

2.如权利要求1所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述导流挑台(3)包括第一导流砖(31)和多个第二导流砖(32),所述第二导流砖(32)呈阶梯式下降延续设置在第一导流砖(31)两侧;所述导流槽包括设置在第一导流砖(31)上两端开口的第一引流槽(311)和设置在第二导流砖(32)上的第二引流槽(321),所述第二引流槽(321)远离第一导流砖(31)的一端轴向开口、另一端轴向封闭。

3.如权利要求2所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第二导流砖(32)的连接处部分中叠;所述第二引流槽(321)封闭端位于重叠部份。

4.如权利要求3所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第一引流槽(311)是中间高、两端低的“人”型结构;所述第二引流槽(321)的封闭端高于开口端。

5.如权利要求2所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第一引流槽(311)和第二引流槽(321)的底面均是远离后山墙(2)一侧高、靠近后山墙(2)一侧低的斜面。

6.如权利要求1-5任一所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述导流挑台(3)两侧设有收集容器(7)。

7.如权利要求6所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述导流挑台(3)层数是两层,两层导流挑台(3)间隔设置;所述收集容器(7)设置在下层导流挑台(3)的两侧。

8.如权利要求6所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:还包括支撑装置(5)和立柱,所述支撑装置(5)包括设于胸墙(4)底部的挂钩砖(51)、设于挂钩砖(51)下的托板(52)和支撑托板(52)的巴掌铁(53);所述立柱设于胸墙(4)外侧与巴掌铁(53)固定连接。

9.如权利要求8所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述收集容器(7)设在挂钩砖(51)上,且下端设有贯穿后山墙(2)的排污通道(71)。

10.如权利要求6所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述后山墙包括承重碹(22),承重碹(22)下设有通道,承重碹(22)两侧设有碹喳(23),碹喳(23)远离承重碹(22)的一侧设有紧抵碹喳(23)的承台。

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【技术特征摘要】

1.一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:包括,

2.如权利要求1所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述导流挑台(3)包括第一导流砖(31)和多个第二导流砖(32),所述第二导流砖(32)呈阶梯式下降延续设置在第一导流砖(31)两侧;所述导流槽包括设置在第一导流砖(31)上两端开口的第一引流槽(311)和设置在第二导流砖(32)上的第二引流槽(321),所述第二引流槽(321)远离第一导流砖(31)的一端轴向开口、另一端轴向封闭。

3.如权利要求2所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第二导流砖(32)的连接处部分中叠;所述第二引流槽(321)封闭端位于重叠部份。

4.如权利要求3所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第一引流槽(311)是中间高、两端低的“人”型结构;所述第二引流槽(321)的封闭端高于开口端。

5.如权利要求2所述的一种玻璃熔窑的熔制部结构,其特征在于:所述第一引流槽(311)和第二引流槽(321)的底面均是远离后山墙(2)一侧高、靠近后山墙(2)一侧低的斜面。

【专利技术属性】
技术研发人员:谭利陈德成严晓莉宫俊峰梅广
申请(专利权)人:长利玻璃洪湖有限公司
类型:新型
国别省市:

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