光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法及磁头制造方法技术

技术编号:4189321 阅读:255 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法,包括如下步骤:(1)形成具有粘性表面的支撑装置;(2)提供一组具有用于形成空气承载面的第一表面及与该第一表面相反的第二表面的磁头长形条,并将所述一组磁头长形条以第一表面面对粘性表面的方式固定到所述支撑装置上;(3)加热其上固定有磁头长形条的支撑设备,并按压所述磁头长形条的第二表面将所述磁头长形条压入所述粘性表面中;(4)借助封装胶把所述磁头长形条互相连接起来;(5)提供一个载体并将所述载体固定到所述磁头长形条的第二表面上;(6)移除所述支撑装置。本发明专利技术还揭露了一种磁头制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于信息记录磁盘驱动器内的磁头的制造方法,具体地,本专利技术涉及一种在制造磁头的光刻工艺(photolithography process )中将》兹头长 形条(slider row bar)连接起来的方法。
技术介绍
一种常见的信息存储设备是磁盘驱动系统,其使用磁性媒介来存储数据及 设置于该磁性媒介上方的可移动读写头来选择性地从磁性媒介比如磁盘上读取 数据或将数据写在磁性媒介上。图la所示为传统的磁盘驱动器200,磁盘101安装在主轴马达102上并由 其旋转。音圈马达臂104上承载有磁头折片组合100。所述磁头折片组合100包 括具有读写传感器的磁头103。 一音圈马达控制音圈马达臂104的运动,进而控 制磁头103在磁盘101表面磁轨之间的移动,最终实现磁头103的读写传感器 在磁盘101上数据的读写。在运行状态时,包含读写传感器的磁头103与磁盘 101之间形成空气动力性接触,并产生升力。该升力与大小相等方向相反的由磁 头折片组合100的悬臂施加的弹力互相平衡,进而导致在马达臂104的整个径 向行程中,旋转的磁盘101的表面上方形成并维持预定的飞行高度。图lb展示了图la所示磁头从底部观察的立体图。如图所示,该磁头103 的一个侧边上形成磁性读写头116,用于实现磁头相对于磁盘101的数据读写操 作。所述磁头103具有面向磁盘101的空气承载面(air bear surface, ABS ) 117。 当磁盘驱动器运行时,所述磁头103的空气承载面117与高速旋转的磁盘101 之间产生空气动力学接触,从而使^兹头103动态地悬浮于》兹盘101上方而实现 数据读写操作。7为使磁头相对于磁盘顺利地进行数据读写操作,磁头必须具有良好的飞行 稳定性,即,当磁头飞行于磁盘上方时,磁头的飞行高度必须保持恒定的数值。 假如磁头的飞行稳定性差,则飞行高度不定,即有时飞行高度变得较高而有时 该飞行高度变得较低。如果飞行高度太高,则磁头可能无法顺利地完成读写操作;如果飞行高度太低,则磁头可能刮伤磁盘,导致磁盘;^/或磁头损坏。可以理解地,磁头空气承载面的加工精度是影响上述飞行稳定性的一个关 键因素。这里,简要介绍磁头空气承载面的形成工艺。 一般来讲,磁头的空气承载面是依次经过光刻工艺及真空蚀刻工艺(vacuum etchingprocess)而形成的。 首先,在空气承载面形成面(ABS-forming surface )上覆盖光阻层(photo-resist coating);然后,通过曝光而将空气承载面图案(ABSpattern)转印到上述光阻 层,形成与空气承载面图案(ABS pattern)相对应的可移除区域;接下来,通 过显影(developing)工序将所述可移除区域移除;最后,借助离子束蚀刻所述 空气承载面形成面上未被光阻层覆盖的部分,从而形成空气承载面。本
中,磁头加工流程通常是针对一组磁头长形条进行的,其中每 个磁头长形条可构造多个磁头体。根据不同的产品类型, 一个磁头长形条可制 成30-100个磁头体。这些磁头长形条通过粘结剂互相封装在一起而形成长形条 组合。当加工完毕后,这些长形条组合互相分离,每个长形条被切割形成单独 磁头。图2a-2b展示了用于形成磁头的磁头长形条。如图所示,磁头长形条2的宽 度为W,厚度为T。所述磁头长形条2具有空气承载面形成面3。图2c展示了 用于承载上述磁头长形条2的载体1。图3a-3b展示了一种传统磁头长形条连接方法中长形条组合的形成.图3a展 示了一组封装在一起并且粘结在载体1上的磁头长形条2。图3b展示了图3a中 沿Z-Z线的剖视图。参考图3b,所述磁头长形条2之间的间隙(未标号)内形 成一组胶凹陷30。这些胶凹陷30是在上述封装胶9固化过程中由于胶的自然收 缩而引起的。参考图3a-3b,所述磁头长形条2的空气承载面形成面3与胶凹陷 30共同构成了磁头长形条组合的基本表面,在该基本表面上将涂设光阻层。参考图3b,很容易理解,上述磁头长形条组合的基本表面的平面度主要取决于两个因素胶凹陷30及上述磁头长形条2的厚度一致性。首先,因为磁头 长形条2具有很小的厚度(大约100~300微米),因此很难提高磁头长形条2的厚 度一致性。再者,尽管连接胶的厚度能够根据磁头长形条的厚度进行改变,但 是胶水厚度变化不足以弥补磁头长形条厚度变化带来的影响。例如当磁头长 形条厚度变化30微米时,磁头长形条组合基本平面的平面度可能发生超过10 或者20微米的变化,这将不能够适应薄而高解析度的光阻层(photo-resist coating)涂布。另一方面,由于上述封装胶9的内在特性,胶凹陷30不可避免。 在传统的磁头长形条连接工序中,由于每个磁头长形条2及位于其下面的连接 胶5具有不同的厚度(即磁头长形条2及连接胶5具有厚度差异),同时由于存 在胶凹陷30,因此磁头长形条组合的基本表面的平面度严重降低。相应地,形 成于磁头长形条组合的基本表面上的光阻层具有较差的平面度。另外,连接胶的容量控制在现有技术中起着非常重要的作用,它有可能导 致加工过程不稳定或者增加生产成本,太多或者太少的连接胶都可能给后续的 封装过程带来麻烦,而所述封装过程在离子铣蚀刻或活性离子蚀刻中对磁头长 形条侧面的保护起着不可或缺的作用。连接胶过少会在磁头长形条和支撑基底 之间形成一些空隙或洞穴,这些洞穴将容纳一些空气或者封装胶,由于所述磁 头长条和支撑基底不能够被紫外线穿透,所以容纳在所述洞穴中的封装胶不能 够被紫外线固化,这样,在光刻工艺(photolithography process)必不可少的烘 焙过程(大约70 120。C)中,所述容纳在洞穴中的空气和封装胶有可能溢出,从 而导致产品瑕疵和收得率损失。连接胶过多会使一些连接胶进入磁头长条之间 的间隙中,从而使得封装胶不能完全填满所述磁头长条间的间隙,而且所述封 装胶和连接胶的混合物会在磁头长条间形成很难清除的胶水凸块,同时也增加 了生产成本。因此,在光刻工艺(photol他ography process)中,有必要提供一种改善的 磁头长形条连接方法,以克服现有技术的缺点。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法,该方法能够保证空气承载面形成面(ABS-forming surface )平滑,避免封装 胶渗出到磁头长形条的空气承载面形成面(ABS-forming surface )上,并避免连 接胶和封装胶混合形成难于清除的胶水凸块。本专利技术的另一目的在于提供一种磁头制造方法,其可以提高磁头的加工精度。为达到上述目的, 一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法,包括 如下步骤(1 )形成具有粘性表面的支撑装置;(2)提供一组具有用于形成空 气承载面的第一表面及与该第一表面相反的第二表面的磁头长形条,并将所述 一组磁头长形条以第一表面面对粘性表面的方式固定到所述支撑装置;(3)加 热其上固定有磁头长形条的支撑装置,并按压所述^f兹头长形条的第二表面将所 述磁头长形条压入所述粘性表面中;(4)借助封装胶把所述磁头长形条互相连 接起来;(5 )提供一个载体并将所述载体固定到所述磁头长形条的第二表面上;本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法,包括如下步骤: (1)形成具有粘性表面的支撑装置; (2)提供一组具有用于形成空气承载面的第一表面及与该第一表面相反的第二表面的磁头长形条,并将所述一组磁头长形条以第一表面面对粘性表面 的方式固定到所述支撑装置; (3)加热其上固定有磁头长形条的支撑装置,并按压所述磁头长形条的第二表面将所述磁头长形条压入所述粘性表面中; (4)借助封装胶把所述磁头长形条互相连接起来; (5)提供一个载体并将所述载体固定到 所述磁头长形条的第二表面上; (6)移除所述支撑装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:高咏平李泰文
申请(专利权)人:新科实业有限公司
类型:发明
国别省市:HK[中国|香港]

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