【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晾干架，具体涉及一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架。
技术介绍
1、陶瓷材料是指用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料。它具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点。可用作结构材料、刀具材料，由于陶瓷还具有某些特殊的性能，又可作为功能材料。
2、氧化铝陶瓷属于特种陶瓷，是一种高温结构材料。特种陶瓷是具有特殊力学、物理或化学性能的陶瓷，又被称为精密陶瓷、先进陶瓷，而氧化铝陶瓷片广泛应用于钢铁、冶炼、机械、煤炭、矿山、化工、水泥、港口码头等企业的输煤、输料系统、制粉系统、排灰、除尘系统等一切磨损大的机械设备上，具有耐高温、耐冲刷、耐腐蚀、高硬度、高强度、低蠕变速率等优异力学、热学、化学性能。
3、当陶瓷片的表面附着污渍时需要对其进行清洗，而陶瓷一般采用自然风干晾干和机械烘干的方法，在未具备专门的烘干机时，通常将陶瓷片平铺在干燥通风环境下的平面上，但是在陶瓷片平铺在平面上时，陶瓷片底面的的水分无法充分的被风干晾干，从而无法提高对陶瓷片的风干效率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架。
2、为实现上述目的，本技术采用以下技术方案是：一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，包括开设有容纳腔的架体、可拆卸设置于所述架体上位于所述容纳腔内的用于放置陶瓷片的放置板、相对设置于所述放置板上的用于在陶瓷片放置于所述放置板上时对陶瓷片下端面进行支撑以使得陶瓷片的下端面不与放置板上端面接触的
3、进一步改进的是：所述支撑块与所述放置板之间设置有用于在其中一个支撑块受外力驱动时可在放置板上向另一个支撑块靠近或远离以调节两个支撑块之间间距的调节装置。
4、进一步改进的是：所述调节装置包括横向开设于所述放置板上位于其中一个所述支撑块下端的t型槽、一端设置于所述其中一个所述支撑块下端且另一端可滑动设置于所述t型槽内的用于在其中一个所述支撑块受往横向驱动时可在t型槽内向另一个支撑块靠近或远离的t型块、设置于所述t型块与所述放置板之间位于所述t型槽内且靠近所述另一个支撑块那端的拉伸弹簧。
5、进一步改进的是：两个所述支撑块上分别设置有用于在陶瓷片放置于支撑块上时对陶瓷片的左右端面进行限位的限位阶槽。
6、进一步改进的是：所述支撑块上位于所述限位阶槽那端设置有用于在限位阶槽对陶瓷片的左右端面进行限位时防止陶瓷片与支撑块磕碰的防护层。
7、进一步改进的是：所述防护层为橡胶层。
8、进一步改进的是：所述架体上相对开设有两个滑动槽、一端设置于所述放置板左右端面且另一端可滑动设置于所述滑动槽上的滑动块，两个所述滑动槽纵向设置于所述架体上，两个所述滑动槽与所述容纳腔相连通。
9、采用上述技术方案后，本技术有益效果为：在陶瓷片放置于所述放置板上时，通过两个支撑块对陶瓷片下端面进行支撑，以使得陶瓷片的下端面不与放置板上端面接触，不会导致陶瓷片底面的水分无法充分的被风干晾干，通过若干个流通孔供陶瓷片滴落的水穿过放置板，并在收集区中对滴落的水进行收集，通过若干个通风孔供外部的风进入容纳腔内，从而提高容纳腔内的空气流通，提高对陶瓷片的风干效率。
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1.一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：包括开设有容纳腔的架体、可拆卸设置于所述架体上位于所述容纳腔内的用于放置陶瓷片的放置板、相对设置于所述放置板上的用于在陶瓷片放置于所述放置板上时对陶瓷片下端面进行支撑以使得陶瓷片的下端面不与放置板上端面接触的两个支撑块、开设于所述放置板上的用于在两个支撑块对陶瓷片下端面进行支撑时供陶瓷片滴落的水穿过放置板的若干个流通孔、形成于所述放置板与所述架体内部下端之间的用于在陶瓷片滴落的水穿过放置板后对滴落的水进行收集的收集区、开设于所述架体的上位于所述放置板上方且与所述容纳腔相连通的用于供外部的风进入容纳腔内的若干个通风孔。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述支撑块与所述放置板之间设置有用于在其中一个支撑块受外力驱动时可在放置板上向另一个支撑块靠近或远离以调节两个支撑块之间间距的调节装置。
3.根据权利要求2所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述调节装置包括横向开设于所述放置板上位于其中一个所述支撑块下端的T型槽、一端设置于所述其中一个所述支撑块下端且另一端可滑动
4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：两个所述支撑块上分别设置有用于在陶瓷片放置于支撑块上时对陶瓷片的左右端面进行限位的限位阶槽。
5.根据权利要求4所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述支撑块上位于所述限位阶槽那端设置有用于在限位阶槽对陶瓷片的左右端面进行限位时防止陶瓷片与支撑块磕碰的防护层。
6.根据权利要求5所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述防护层为橡胶层。
7.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述架体上相对开设有两个滑动槽、一端设置于所述放置板左右端面且另一端可滑动设置于所述滑动槽上的滑动块，两个所述滑动槽纵向设置于所述架体上，两个所述滑动槽与所述容纳腔相连通。
...【技术特征摘要】
1.一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：包括开设有容纳腔的架体、可拆卸设置于所述架体上位于所述容纳腔内的用于放置陶瓷片的放置板、相对设置于所述放置板上的用于在陶瓷片放置于所述放置板上时对陶瓷片下端面进行支撑以使得陶瓷片的下端面不与放置板上端面接触的两个支撑块、开设于所述放置板上的用于在两个支撑块对陶瓷片下端面进行支撑时供陶瓷片滴落的水穿过放置板的若干个流通孔、形成于所述放置板与所述架体内部下端之间的用于在陶瓷片滴落的水穿过放置板后对滴落的水进行收集的收集区、开设于所述架体的上位于所述放置板上方且与所述容纳腔相连通的用于供外部的风进入容纳腔内的若干个通风孔。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述支撑块与所述放置板之间设置有用于在其中一个支撑块受外力驱动时可在放置板上向另一个支撑块靠近或远离以调节两个支撑块之间间距的调节装置。
3.根据权利要求2所述的一种用于陶瓷件平铺风干的晾干架，其特征在于：所述调节装置包括横向开设于所述放置板上位于其中一个所述支撑块下端的t型槽、一端设置于...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄伟平，王厦门，
申请(专利权)人：想成光电科技福建有限公司，
类型：新型
国别省市：
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