【技术实现步骤摘要】
本公开涉及晶圆加工设备，尤其涉及一种晶圆承载件的清洁装置及晶圆承载装置。
技术介绍
1、在晶圆加工的过程中，需确保晶圆吸盘的正面及背面的清洁，以确保晶圆吸盘的整体平坦度，从而避免后续曝光时出现散焦影响晶圆质量的问题。
2、晶圆吸盘清洁装置用于对晶圆吸盘背对晶圆的一侧盘面进行清洁，具体使用场景可以为：当硅锭切割成薄片状的晶圆后，在晶圆的表面涂覆光刻胶，然后需要将晶圆固定到晶圆吸盘上进行后续的光刻工艺。在晶圆固定到晶圆吸盘前，需对晶圆吸盘进行清洁以确保晶圆的固定平整度。当晶圆吸盘的正面落入的微粒被打磨清洗完成后，打磨后部分的细小微粒会在吹扫装置吹扫作用下，但有部分细小微粒会通过晶圆吸盘中针孔被吹到晶圆吸盘的背面并附着，造成晶圆吸盘的平整度出现误差，造成晶圆吸盘局部被顶起，在曝光时也会产生散焦影响晶圆质量。有鉴于此，市面上亟需一种能够对晶圆吸盘背面进行清洁的装置，以解决晶圆吸盘背面落入微粒产生散焦、影响晶圆质量的问题。
技术实现思路
1、本公开实施例提供了一种晶圆承载件的清洁装置及晶圆承载装置，为了解决或至少部分地解决现有技术中存在的以上技术问题。
2、本公开实施例提供的晶圆承载件的清洁装置包括清洁容腔清洁单元和清洁管路；
3、所述清洁容腔设置在固定载台的上表面，所述清洁容腔朝上设置有开口；
4、所述清洁单元包括介质供送源及介质抽吸源，所述介质供送源内具有的清洁介质，所述介质抽吸源用于抽吸清洁介质；
5、所述清洁管路分别将所述介
6、其中，所述介质供送源通过所述清洁管路将所述清洁介质供送至所述清洁容腔；
7、所述介质抽吸源通过所述清洁管路抽吸所述清洁容腔内的所述清洁介质。
8、在一可实施方式中，所述清洁介质为异丙醇、乙醇、丙酮中的一种。
9、在一可实施方式中，所述清洁管路包括供送管路和抽吸管路；
10、所述供送管路的一端与所述介质供送源导通连接，另一端与所述清洁容腔导通连接；
11、所述抽吸管路的一端与所述介质抽吸源导通连接，另一端与所述清洁容腔导通连接。
12、在一可实施方式中，所述清洁容腔包括顶面及底面；
13、所述供送管路及所述抽吸管路由所述清洁容腔的底面向上插入至所述清洁容腔，且所述供送管路与所述抽吸管路的端部均位于所述清洁容腔内；
14、且所述供送管路距离所述清洁容腔底面的长度小于所述抽吸管路距离所述清洁容腔底面的长度。
15、在一可实施方式中，所述供送管路中还设置有调控自身供气流量大小的供送控制阀，和/或用于调节清洁介质温度的温控装置。
16、在一可实施方式中，所述抽吸管路中还设置有调控自身抽吸压力大小的抽吸控制阀。
17、在一可实施方式中，所述清洁单元还包括排线组和控制器；
18、所述控制器通过所述排线组分别与所述供送控制阀、所述抽吸控制阀电连接。
19、在一可实施方式中，还包括吸盘平整度检测装置；
20、所述吸盘平整度检测装置与所述供送控制阀电连接，且能够根据平整度检测结果反馈启动或反馈停止所述供送控制阀工作。
21、另外，本公开实施例提供的晶圆承载装置，能够上述晶圆承载件的清洁装置，其包括晶圆承载件；
22、所述晶圆承载件具有用于承载晶圆的承载面，所述晶圆承载件背离所述承载面的一侧具有待清洁面；
23、所述待清洁面覆盖在所述清洁容腔的开口处，以实现所述开口的闭合。
24、在一可实施方式中，所述晶圆承载件间隔摆放设置于所述固定载台上，并与所述固定载台间隔形成清洁间隙；
25、其中，所述固定载台还设置有用于支撑抵接所述晶圆承载件周部的支撑密封件；
26、且所述支撑密封件将所述清洁间隙围绕形成所述清洁容腔。
27、本公开实施例提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点：
28、本公开实施例提供的晶圆承载件的清洁装置，清洁单元能够通过清洁管路向清洁容腔供送清洁介质，使得清洁介质在清洁容腔中充分的溢流扩散，并对清洁容腔中的微粒进行溶解脱落、清洗除杂，等溶解除杂完成之后，清洁单元还能够通过清洁管路从清洁容腔抽吸清洁介质，抽吸回流清洁介质以及从清洁容腔中除杂脱落的微粒杂质。
29、该晶圆承载件的清洁装置无需对晶圆承载件进行拆卸，清洁单元通过清洁管路供送清洁介质、以及抽吸回流微粒杂质即可实现对晶圆承载件中清洁容腔的清洗，具有清洗效率快速、清洗效果好、不会对晶圆承载件的安装位置造成影响、能够提高晶圆机台产能效率的有益效果。
30、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
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1.一种晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述清洁介质为异丙醇、乙醇、丙酮中的一种。
3.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述清洁容腔包括顶面及底面；
4.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述供送管路(21)中还设置有调控自身供气流量大小的供送控制阀(211)，和/或用于调节清洁介质温度的温控装置(5)。
5.根据权利要求4所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述抽吸管路(22)中还设置有调控自身抽吸压力大小的抽吸控制阀(221)。
6.根据权利要求5所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元(6)还包括排线组(3)和控制器；
7.根据权利要求4所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，还包括吸盘平整度检测装置；
8.一种晶圆承载装置，能够适用于权利要求1～7中任一项所述晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述清洁介质为异丙醇、乙醇、丙酮中的一种。
3.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述清洁容腔包括顶面及底面；
4.根据权利要求1所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述供送管路(21)中还设置有调控自身供气流量大小的供送控制阀(211)，和/或用于调节清洁介质温度的温控装置(5)。
5.根据权利要求4所述的晶圆承载件的清洁装置，其特征在于，所述抽吸管路(22)...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁大胜，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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