【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光波导制造，尤其涉及一种清洗装置。
技术介绍
1、衍射光波导是一种可以将光束缚在其内部并使得光向着一定方向传输的器件，其由于衍射光波导具有可量产性强、轻薄等优势，在ar显示领域逐渐得到认可，有望成为未来ar领域主流技术发展方向。
2、其中，表面浮雕光栅通常是衍射光波导的组成部分之一。表面浮雕光栅可以通过纳米压印技术压印形成。压印过程中，需要通过压印胶辅助，若压印胶本身存在缺陷，或者压印过程中混入环境中的灰尘等微小颗粒，则会导致衍射光波导存在缺陷。
3、存在缺陷的衍射光波导可以将压印胶清洗后重新利用，但是衍射光波导上通常还镀有增透膜，增透膜与压印胶分别位于衍射光波导的相对两侧。若是直接进行清洗，则会对增透膜造成损坏，或者将增透膜清洗褪去，使得衍射光波导需要重新镀膜，不仅增加镀膜成本，还降低衍射光波导的加工效率。
技术实现思路
1、本申请实施例旨在提供一种清洗装置，以至少能够改善衍射光波导清洗过程中，会破坏增透膜或者将增透膜清洗褪去的问题。
2、为解决上述技术问题，本申请实施方式采用的一个技术方案是：提供一种清洗装置，所述清洗装置包括清洗槽和承载台。所述清洗槽用于清洗待清洗件；所述承载台用于放置于所述清洗槽内，所述承载台开设有密封槽，所述密封槽与所述待清洗件相适配，所述密封槽用于放置所述待清洗件，并且在所述待清洗件放置于所述密封槽内时，所述密封槽与所述待清洗件密封接触，以将所述待清洗件的非清洗面与外界隔绝。
3、在一些实施例中，
4、在一些实施例中，所述待清洗件呈平板状，所述密封槽的槽底呈平面状，所述密封槽的槽底贴合所述待清洗件的非清洗面。
5、在一些实施例中，所述吸附槽包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽为沿所述密封槽的槽壁延伸的沟槽，并且首尾连接；或者，所述第一凹槽的数量为多个，多个所述第一凹槽沿所述密封槽的槽壁的延伸方向均匀分布；所述第二凹槽设置于所述密封槽的底部中心；所述承载台还开设有第一导气通道，所述第一导气通道将所述第一凹槽与所述第二凹槽连通。
6、在一些实施例中，所述清洗装置还包括支撑组件，所述承载台设于所述支撑组件，所述支撑组件设于所述清洗槽的槽壁；所述支撑组件包括第一支撑件，所述承载台的数量为多个，多个所述承载台间隔设置于所述第一支撑件。
7、在一些实施例中，所述第一支撑件间隔地开设有多个贯穿的第一连接孔；所述承载台的侧边设置有第二连接孔；所述支撑组件还包括连接柱，所述连接柱用于与所述第一连接孔和所述第二连接孔连接，以将所述承载台设置于所述第一支撑件。
8、在一些实施例中，所述吸附槽的槽壁开设有第一导气通道，所述第一导气通道将所述第二连接孔与所述吸附槽连通；所述连接柱开设有第二导气通道，所述第二导气通道贯穿至所述连接柱的一个端面，当所述连接柱与所述第二连接孔连接时，所述第二导气通道与所述第一导气通道连通，所述第二导气通道还与所述负压组件连通。
9、在一些实施例中，所述第一支撑件开设有第三导气通道，所述第三导气通道与所述负压组件连通，所述第三导气通道还与所述第一连接孔连通；所述第二导气通道还贯穿至所述连接柱的外周面，当所述连接柱与所述第一连接孔连接时，所述第二导气通道与所述第三导气通道连通，以将所述第二导气通道与所述负压组件连通。
10、在一些实施例中，所述支撑组件包括第二支撑件，所述第二支撑件卡接于所述清洗槽的槽壁；所述第二支撑件具有多个安装位置，所述多个安装位置沿重力方向排列设置，所述第一支撑件安装于所述多个安装位置的其中一个。
11、在一些实施例中，所述负压组件设置于所述第二支撑件；所述支撑组件还包括连接管和止流阀，所述连接管用于将所述负压组件与所述第三导气通道连通，所述止流阀设置于所述连接管，所述止流阀用于在所述连接管内进水时，阻止所述连接管内的液体向所述负压组件流动；
12、在一些实施例中，所述负压组件包括压力表，所述压力表设置于所述支撑组件并向外显露。
13、在一些实施例中，所述待清洗件呈圆盘状，所述密封槽的开口呈圆形，并且所述开口的内径等于所述待清洗件的外径，以使所述密封槽将所述待清洗件的非清洗面与外界隔绝。
14、区别于相关技术的情况，本申请实施例的清洗装置，通过在承载台设置与待清洗件相适配的密封槽，待清洗件放置于密封槽内时，密封槽能够将待清洗件的非清洗面与外界隔绝，从而保护非清洗面，当待清洗件为衍射光波导时，能够保护衍射光波导上的增透膜，改善因增透膜损坏或者清洗褪去而需要重新镀膜的问题，降低镀膜成本，提高衍射光波导的加工效率。
15、上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本申请的具体实施方式。
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1.一种清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述密封槽的底部开设有吸附槽；
3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述吸附槽包括：
4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，还包括支撑组件，所述承载台设于所述支撑组件，所述支撑组件设于所述清洗槽的槽壁；所述支撑组件包括第一支撑件，所述承载台的数量为多个，多个所述承载台间隔设置于所述第一支撑件。
5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述第一支撑件间隔地开设有多个贯穿的第一连接孔；
6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述吸附槽的槽壁开设有第一导气通道，所述第一导气通道将所述第二连接孔与所述吸附槽连通；
7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述第一支撑件开设有第三导气通道，所述第三导气通道与所述负压组件连通，所述第三导气通道还与所述第一连接孔连通；
8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑组件包括第二支撑件，所述第二支撑件卡接于所述清洗槽的槽壁；
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