【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及版图检测，特别涉及一种版图检查方法、系统、设备及存储介质。
技术介绍
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技术介绍
1、根据摩尔定律，芯片上的晶体管数目，每隔18个月就翻一倍；截至目前为止，芯片上有数十亿的晶体管，这就导致了芯片的物理版图的数据量巨大，同时，对于180nm节点以下的芯片，需要对其物理版图进行光学临近效应修正(opti c al pro ximity c orre ctio n，op c)，且修正后的物理版图通常还需要进行掩模制造规则检查(mas k rul eche ck,mrc)从而保证物理版图的可制造性以及良率。
2、由于物理版图的数据量巨大，对整张版图进行单线程的掩模制造规则检查需要较长时间，因此，常用的手段是把物理版图进行分割成小版图，分发到不同的机器上去并行地检查，但在相同的硬件资源下，并行效率是有上限的，而增加硬件资源则会使整体成本增大。
技术实现思路
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技术实现思路
1、为了解决现有版图掩模制造规则检查效率不高的问题，本专利技术提供一种版图检查方法、系统、设备及存储介质。
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种版图检查方法，包括：对待测版图进行分割处理，得到分割版图；获取所述分割版图上多个待测图形的图形信息；建立图形库，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形；若所述图形库中存在与所述待测图形具有对称性的对称图形，则调用所述对称图形的掩模制造规则检查结果给
3、优选地，所述待测图形为线形、多边形或曲线图形中的一种或多种。
4、优选地，所述图形信息包括图形的设计规则属性和/或周边环境信息。
5、优选地，建立图形库包括：设置初始图形库；获取进行掩模制造规则检查的所述待测图形的数据信息，所述数据信息包括掩模制造规则检查结果及其图形信息；将所述数据信息添加到所述初始图形库中，得到图形库。
6、优选地，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形包括：获取所述待测图形的周边环境信息；基于所述周边环境信息计算出所述待测图形的哈希值；检测所述图形库中的图形的哈希值与所述待测图形的哈希值是否一致，若一致，则判断该图形为所述待测图形的对称图形。
7、优选地，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形包括：获取所述待测图形的设计规则属性；检测所述图形库中的图形的设计规则属性与所述待测图形的设计规则属性是否一致，若一致，则判断该图形为所述待测图形的对称图形。
8、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种版图检查系统，包括：分割模块：用于对待测版图进行分割处理，得到分割版图；获取模块：用于获取所述分割版图上多个待测图形的图形信息；分析模块：用于建立图形库，所述图形库中的图形包括对应的掩模制造规则检查结果，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形；处理模块：用于若所述图形库中存在与所述待测图形具有对称性的对称图形，则调用所述对称图形的掩模制造规则检查结果应用到对应的所述待测图形，反之，则对所述待测图形进行掩模制造规则检查。
9、优选地，所述系统还包括计算模块：用于计算所述待测图形的哈希值。
10、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如上任一项所述的版图检查方法的步骤。
11、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被执行时实现如上任一项所述的版图检查方法的步骤。
12、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种版图检查方法、系统、设备及存储介质，具有如下的有益效果：
13、1.本专利技术实施例提供的一种版图检查方法，包括：对待测版图进行分割处理，得到分割版图；获取分割版图上多个待测图形的图形信息；建立图形库，基于图形信息检测图形库中是否存在与待测图形具有对称性的对称图形；若图形库中存在与待测图形具有对称性的对称图形，则调用对称图形的掩模制造规则检查结果给到待测图形，反之，则对待测图形进行掩模制造规则检查。
14、可以理解地，现代芯片的物理版图上通常存在大量的图形，且其中有许多是重复图形，也即这些图形具有对称性，这些具有对称性的图形其掩模制造规则参数值是一致的。本专利技术首先将整张版图分割为多个小的分割版图并行运算以提高计算效率，进一步的，还对分割版图上的图形进行对称性分析，寻找与待测图形具有对称性，且已完成掩模制造规则检查的对称图形，通过直接调用该对称图形的掩模制造规则检查结果应用到待测图形上，从而使得待测图形不需进行掩模制造规则检查，最终达到减少运行时间、提高检查效率的效果。
15、2.本专利技术实施例提供的版图检查方法中建立图形库包括：设置初始图形库；获取进行掩模制造规则检查的待测图形的数据信息，数据信息包括掩模制造规则检查结果及其图形信息；将数据信息添加到初始图形库中，得到图形库。
16、可以理解地，本实施例首先设置一初始图形库用于给待测图形进行对称性检测，应理解初始图形库可以是空白的，然后随着对待测图形的遍历检测，将与当前图形库中的图形没有对称性的待测图形的数据信息添加到图形库中，以扩充图形库的数据量，为后续待测图形的检测提供数据支持。
17、本实施例中参与对称性分析的目标图形为分割版图上前期已完成掩模制造规则检查、得到对应掩模制造规则参数的图形，避免未进行掩模制造规则检查的部分图形在对称分析中匹配成功却无检查结果可调用的情况，通过此设计减少了对称性分析的数据量，进而提高整体的检查效率。
18、3.本专利技术实施例的版图检查方法中基于图形信息检测图形库中是否存在与待测图形具有对称性的对称图形包括：获取待测图形的周边环境信息；基于周边环境信息计算出待测图形的哈希值；检测图形库中的图形的哈希值与待测图形的哈希值是否一致，若一致，则判断该图形为待测图形的对称图形。
19、可以理解地，本实施例通过计算待测图形的哈希值，并将哈希值相同的图形认定为对称图形，基于哈希值的匹配可以精准地找到待测图形的对称图形，在掩模制造规则检查阶段，直接调用已经检查过的具有相同哈希值的图形的检查结果，以使对应图形可以减少掩模制造规则检查的步骤，进而达到提高掩模制造规则检查的效率。
20、4.本专利技术实施例的版图检查方法中基于图形信息检测图形库中是否存在与待测图形具有对称性的对称图形包括：获取待测图形的设计规则属性；检测图形库中的图形的设计规则属性与待测图形的设计规则属性是否一致，若一致，则判断该图形为待测图形的对称图形。
21、可以理解地，本实施例利用光学临近效应修正流程中其他模块计算出来的版图图形的设计规则属性进本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种版图检查方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于：所述待测图形为线形、多边形或曲线图形中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于：所述图形信息包括图形的设计规则属性和/或周边环境信息。
4.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于，建立图形库包括：
5.如权利要求3所述的版图检查方法，其特征在于，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形包括：
6.如权利要求3所述的版图检查方法，其特征在于，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形包括：
7.一种版图检查系统，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的版图检查系统，其特征在于：所述系统还包括计算模块：用于计算所述待测图形的哈希值。
9.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，其特征在于：所述处理器执行所述计算机程序以实现如权利要求1-7任一项所述的版图检查方法的步骤。
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...【技术特征摘要】
1.一种版图检查方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于：所述待测图形为线形、多边形或曲线图形中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于：所述图形信息包括图形的设计规则属性和/或周边环境信息。
4.如权利要求1所述的版图检查方法，其特征在于，建立图形库包括：
5.如权利要求3所述的版图检查方法，其特征在于，基于所述图形信息检测所述图形库中是否存在与所述待测图形具有对称性的对称图形包括：
6.如权利要求3所述的版图检查方法，其特征在于，基于所述图形...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪琪皓，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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