System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 柱透镜阵列、显示面板及制备方法技术_技高网

柱透镜阵列、显示面板及制备方法技术

技术编号:41873055 阅读:3 留言:0更新日期:2024-07-02 00:24
本申请提供一种柱透镜阵列、显示面板及制备方法,包括:第一电极,设置于介质层;至少一个第二电极,设置于第一电极远离衬底基板的一侧,与第一电极之间具有电压;至少一个腔体,设置于介质层,并设置于第二电极靠近衬底基板的一侧,在衬底基板的正投影覆盖第二电极在衬底基板的正投影;振膜层,设置于第一电极和第二电极之间,并位于腔体远离衬底基板的一侧,在衬底基板的正投影覆盖腔体在衬底基板的正投影;本申请在第一电极和多个第二电极之间的电压驱动下,以使振膜层在腔体的出光侧发生形变并形成的柱透镜结构,通过调节电压可以改变柱透镜结构的焦距,改善显示面板的成像能力,提高其显示效果,确保用户在不同位置均可以获取清晰的画面。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示,尤其涉及一种柱透镜阵列、显示面板及制备方法


技术介绍

1、裸眼3d技术是一种较为先进的视觉显示技术;目前,市面上的裸眼3d技术通常是在显示面板中应用控光器件,其主要原理是通过显示面板生成图像信息,然后利用控光器件对每个像素点出射光线的方向进行调控,从而使显示面板在同一平面构建出多个不同的视点;目前,相关技术中的控光器件为柱透镜阵列,当显示面板的尺寸较大,或者用户距离显示面板较远时,显示面板不同区域与用户双眼之间的距离不相同,受限于柱透镜的固定焦距,显示面板的出射光线透过柱透镜阵列射出后难以在不同的视点形成清晰的画面,从而降低显示面板的成像质量和显示效果,影响用户对显示面板的观看体验。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的在于提出一种柱透镜阵列、显示面板及制备方法,用以解决上述所提及的部分技术问题或全部技术问题。

2、基于上述目的,本申请提供了一种柱透镜阵列,包括:衬底基板和介质层;

3、第一电极,设置于所述介质层;

4、至少一个第二电极,设置于所述第一电极远离所述衬底基板的一侧,与所述第一电极之间具有电压;

5、至少一个腔体,设置于所述介质层,并设置于所述第二电极靠近所述衬底基板的一侧,在所述衬底基板的正投影覆盖所述第二电极在所述衬底基板的正投影;

6、振膜层,设置于所述第一电极和所述第二电极之间,并位于所述腔体远离所述衬底基板的一侧,在所述衬底基板的正投影覆盖所述腔体在所述衬底基板的正投影。

7、基于同一专利技术构思,本申请还提供了一种显示面板,包括上述任一项实施例所述的柱透镜阵列。

8、基于同一专利技术构思,本申请还提供了一种显示面板的制备方法,包括:

9、提供衬底基板;

10、采用图案化工艺在所述衬底基板形成相对应的第一电极和牺牲层,并采用沉积工艺在所述衬底基板形成介质层;

11、采用沉积工艺在所述介质层远离衬底基板一侧形成振膜层,使振膜层在所述衬底基板的正投影将所述牺牲层在所述衬底基板的正投影覆盖;

12、采用图案化工艺在所述振膜层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极,使所述第二电极在所述衬底基板的正投影位于所述牺牲层在所述衬底基板的正投影内;

13、采用刻蚀工艺在所述振膜层刻蚀通孔,使所述通孔在所述衬底基板的正投影位于所述牺牲层在所述衬底基板的正投影内;

14、在所述通孔内注入刻蚀液,通过刻蚀液对所述牺牲层刻蚀,去除所述牺牲层并在所述介质层内形成腔体;

15、在所述振膜层远离所述衬底基板的一侧形成遮光层,使所述遮光层在所述衬底基板的正投影覆盖所述通孔在所述衬底基板的正投影,并与所述第二电极在所述衬底基板的正投影不重合;

16、采用薄膜封装技术在所述振膜层远离所述衬底基板的一侧依次形成第一封装层和第二封装层,并使所述第一封装层在所述衬底基板的正投影覆盖所述振膜层在所述衬底基板的正投影。

17、从上面所述可以看出,本申请提供的柱透镜阵列、显示面板及显示方法,在柱透镜阵列中,通过使第一电极和多个第二电极之间具有电压,并利用电压驱动振膜层发生形变,以在腔体的出光侧形成的柱透镜结构,且通过调节电压可以改变柱透镜结构的焦距,改善显示面板不同视点区域的成像质量,提高显示面板显示效果,增强显示画面的立体感,确保用户在不同位置均可以获取清晰的画面。

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【技术保护点】

1.一种柱透镜阵列,其特征在于,包括:衬底基板和介质层;

2.根据权利要求1所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述腔体和所述第二电极为长条状;其中,所述腔体的长度与所述第二电极的长度相同,所述腔体的宽度大于所述第二电极的宽度。

3.根据权利要求2所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述第二电极设置有至少两个,相邻所述第二电极平行设置,并与所述腔体一一对应。

4.根据权利要求3所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述振膜层,包括:

5.根据权利要求4所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述硬质绝缘层的厚度为0.5μm-1μm。

6.根据权利要求3所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述振膜层,包括:

7.根据权利要求6所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述压电层的厚度为5μm-15μm。

8.根据权利要求3所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述腔体设置有至少两个,相邻所述腔体之间相互连通。

9.根据权利要求1所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述振膜层设置有通孔,所述通孔位于相邻所述第二电极之间,并与所述腔体相连通。

<p>10.根据权利要求9所述的柱透镜阵列,其特征在于,还包括:

11.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-10中任一项所述的柱透镜阵列。

12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,还包括:

13.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

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【技术特征摘要】

1.一种柱透镜阵列,其特征在于,包括:衬底基板和介质层;

2.根据权利要求1所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述腔体和所述第二电极为长条状;其中,所述腔体的长度与所述第二电极的长度相同,所述腔体的宽度大于所述第二电极的宽度。

3.根据权利要求2所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述第二电极设置有至少两个,相邻所述第二电极平行设置,并与所述腔体一一对应。

4.根据权利要求3所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述振膜层,包括:

5.根据权利要求4所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述硬质绝缘层的厚度为0.5μm-1μm。

6.根据权利要求3所述的柱透镜阵列,其特征在于,所述振膜层,包括:

【专利技术属性】
技术研发人员:王雷田文昊
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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