【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电扫描跟踪设备，尤其涉及一种高负载快速反射镜装置。
技术介绍
1、快速反射镜简称快反镜，其主要用于对光源和目标之间的光束进行高精度、高动态的控制，通过控制驱动设备，驱动反射镜在一维或者二维方向上完成快速、精准的偏转，从而精准控制光束的偏转角度。
2、目前快反镜设备多采用压电陶瓷作为驱动设备，压电陶瓷驱动器体积小、推力大、响应快且结构简单，但其行程范围小，无法满足大偏转角度的快反镜需求，压电陶瓷还存在抗冲击能力差、易损坏的缺点。
3、快反镜中的支撑结构负责连接快反镜的基座和反射镜，刚性支撑结构具有结构简单、承载能力强、抗冲击性高的特点。但由于通过刚性球面副实现连接，导致摩擦阻力大、响应速度低以及定位精度低；另外在激光空间通信和激光武器等领域中都对光束的指向精度有着较高的要求，传统快反镜在进行长时间的小范围往复指向时，会影响使用寿命，降低系统定位精度。
4、因此，针对以上不足，需要提供一种高负载快速反射镜装置。
技术实现思路
1、(一)要解决的技术问题
2、本专利技术要解决的技术问题是解决现今快反镜压电陶瓷驱动器抗冲击性能差，刚性支撑使用寿命低的问题。
3、(二)技术方案
4、为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种高负载快速反射镜装置，包括基座、反射镜、音圈电机、托架和电涡流传感器，若干个电涡流传感器间隔分布在基座上，柔性的托架一端固连在基座中部，托架另一端与反射镜固连，若干个音圈电机间隔固连在
5、作为对本专利技术的进一步说明，优选地，音圈电机和电涡流传感器均以托架为中心呈环状分布，托架位于反射镜中部。
6、作为对本专利技术的进一步说明，优选地，连接架靠近托架一侧的两边夹角为钝角。
7、作为对本专利技术的进一步说明，优选地，托架为方形柔性块体，托架外围沿长度方向呈阶梯环形间隔开设有若干个方形的凹槽，凹槽宽度大于1mm。
8、作为对本专利技术的进一步说明，优选地，电涡流传感器位于反射镜下方且不与反射镜接触。
9、作为对本专利技术的进一步说明，优选地，基座位于反射镜外围呈环形间隔布置有若干个柱状的镜托，镜托伸出基座外长度大于电涡流传感器伸出长度，且小于托架伸出基座的长度。
10、(三)有益效果
11、本专利技术的上述技术方案具有如下优点：
12、本专利技术采用了柔性支撑作为快反镜的关键部件，在保证高定位精度和高动态响应要求的同时，在大力学载荷条件作用及复杂的力学环境中具有足够的安全余量。音圈电机的采用同时提高了系统的抗冲击、震动能力。同时采用集成化设计思路，缩减了结构包络尺寸及系统总重量。
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1.一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：包括基座(1)、反射镜(2)、音圈电机(3)、托架(4)和电涡流传感器(5)，若干个电涡流传感器(5)间隔分布在基座(1)上，柔性的托架(4)一端固连在基座(1)中部，托架(4)另一端与反射镜(2)固连，若干个音圈电机(3)间隔固连在基座(1)上，音圈电机(3)输出端固连有X形的柔性连接架(31)，连接架(31)与反射镜(2)固连以使反射镜(2)相对基座(1)产生偏转。
2.根据权利要求1所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：音圈电机(3)和电涡流传感器(5)均以托架(4)为中心呈环状分布，托架(4)位于反射镜(2)中部。
3.根据权利要求2所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：连接架(31)靠近托架(4)一侧的两边夹角为钝角。
4.根据权利要求3所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：托架(4)为方形柔性块体，托架(4)外围沿长度方向呈阶梯环形间隔开设有若干个方形的凹槽(41)，凹槽(41)宽度大于1mm。
5.根据权利要求4所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：电涡
6.根据权利要求5所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：基座(1)位于反射镜(2)外围呈环形间隔布置有若干个柱状的镜托(6)，镜托(6)伸出基座(1)外长度大于电涡流传感器(5)伸出长度，且小于托架(4)伸出基座(1)的长度。
...【技术特征摘要】
1.一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：包括基座(1)、反射镜(2)、音圈电机(3)、托架(4)和电涡流传感器(5)，若干个电涡流传感器(5)间隔分布在基座(1)上，柔性的托架(4)一端固连在基座(1)中部，托架(4)另一端与反射镜(2)固连，若干个音圈电机(3)间隔固连在基座(1)上，音圈电机(3)输出端固连有x形的柔性连接架(31)，连接架(31)与反射镜(2)固连以使反射镜(2)相对基座(1)产生偏转。
2.根据权利要求1所述的一种高负载快速反射镜装置，其特征在于：音圈电机(3)和电涡流传感器(5)均以托架(4)为中心呈环状分布，托架(4)位于反射镜(2)中部。
3.根据权利要求2所述的一种高负载快速反射镜装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：范云峰，季东，杨晨，段宇辉，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，
类型：发明
国别省市：
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