【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种红外线截止滤波器及红外线截止滤波器的制造方法。
技术介绍
1、在视讯摄影机、数码相机、附相机功能的移动电话等中，使用了作为彩色图像的固体摄像元件的ccd(电荷耦合器件)或cmos(互补金属氧化膜半导体)。这些固体摄像元件使用在其光接收部中对红外线具有灵敏度的硅光电二极管，因此需要进行可见度校正，多为使用红外线截止滤波器。
2、在专利文献1中记载有一种红外线截止滤波器，其为将由红外线吸收色素及树脂组成的红外线吸收层层叠于基材膜而成，其中，作为红外线吸收色素至少含有二亚铵化合物及含氟酞菁系化合物，并且树脂的玻璃化转变温度为80℃以上，进而，红外线吸收层层叠于基材膜的两面。
3、以往技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2001-027705号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术课题
2、近年来，对于红外线截止滤波器，要求进一步提高耐光性。本专利技术人对专利文献1中公开的红外线截止滤波器进行研究，其结果已知在耐光性方面具有进一步改善的空间。
3、从而，本专利技术的目的为提供一种耐光性优异的红外线截止滤波器及红外线截止滤波器的制造方法。
4、用于解决技术课题的手段
5、本专利技术提供以下。
6、<1>一种红外线截止滤波器，其具有：
7、玻璃基材；
8、第1吸收层，设置于上述玻璃基材的一个面上，且含有红外线吸收色素
9、第2吸收层，设置于上述玻璃基材的与设置有上述第1吸收层的面不同的面上，且含有选自紫外线吸收剂及红外线吸收色素中的至少1种和表面活性剂。
10、<2>根据<1>所述的红外线截止滤波器，其中，
11、上述第1吸收层的厚度与上述第2吸收层的厚度之差为10μm以下。
12、<3>根据<1>或<2>所述的红外线截止滤波器，其中，
13、设置于上述玻璃基材的上述第1吸收层侧的膜整体的厚度与设置于上述玻璃基材的上述第2吸收层侧的膜整体的厚度之差为10μm以下。
14、<4>根据<1>至<3>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
15、上述玻璃基材的厚度为10～1000000μm。
16、<5>根据<1>至<4>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
17、在选自上述第1吸收层的与上述玻璃基材相反侧的面及上述第2吸收层的与上述玻璃基材相反侧的面中的至少一个面上还具有含有选自紫外线吸收剂及红外线吸收色素中的至少1种的第3吸收层。
18、<6>根据<1>至<5>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
19、上述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
20、上述第1吸收层及上述第2吸收层中的任一个吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长存在于波长690～900nm的范围内，另一个吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长存在于波长690～1200nm的范围内。
21、<7>根据<6>所述的红外线截止滤波器，其中，
22、上述第1吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长与上述第2吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长之差为50nm以上。
23、<8>根据<1>至<7>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
24、上述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
25、在上述第1吸收层及上述第2吸收层中，靠近光照射侧的一侧的吸收层中所含的红外线吸收色素为比另一个吸收层中所含的红外线吸收色素更难以产生因光照射而引起的分解或改性的化合物。
26、<9>根据<1>至<8>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
27、上述第1吸收层及上述第2吸收层的至少一个含有选自吡咯并吡咯化合物、方酸化合物、酞菁化合物及花青化合物中的至少1种红外线吸收色素。
28、<10>根据<1>至<8>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
29、上述第1吸收层及上述第2吸收层的至少一个含有选自吡咯并吡咯化合物及方酸化合物中的至少1种红外线吸收色素。
30、<11>根据<1>至<10>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
31、上述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
32、在上述第1吸收层及上述第2吸收层中，靠近光照射侧的一侧的吸收层上具有含有紫外线吸收剂的吸收层。
33、<12>根据<1>至<10>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
34、上述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
35、在上述第1吸收层上及上述第2吸收层上分别具有含有紫外线吸收剂的吸收层。
36、<13>根据<1>至<12>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
37、上述紫外线吸收剂为选自二苯甲酰化合物、三嗪化合物、二苯甲酮化合物及苯并三唑化合物中的至少1种。
38、<14>根据<1>至<13>中任一项所述的红外线截止滤波器，其中，
39、上述红外线截止滤波器在波长700～850nm的范围内的透射率的最大值为20％以下。
40、<15>一种红外线截止滤波器的制造方法，其包括如下工序：
41、在玻璃基材的一个面上适用含有红外线吸收色素、表面活性剂及溶剂的第1吸收层形成用组合物来形成第1组合物层，对上述第1组合物层进行加热来形成第1吸收层；及
42、在上述玻璃基材的与设置有上述第1吸收层的面不同的面上适用含有选自紫外线吸收剂及红外线吸收色素中的至少1种、表面活性剂和溶剂的第2吸收层形成用组合物来形成第2组合物层，对上述第2组合物层进行加热来形成第2吸收层。
43、专利技术效果
44、本专利技术能够提供一种耐光性优异的红外线截止滤波器及红外线截止滤波器的制造方法。
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1.一种红外线截止滤波器，其具有：
2.根据权利要求1所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层的厚度与所述第2吸收层的厚度之差为10μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，设置于所述玻璃基材的所述第1吸收层侧的膜整体的厚度与设置于所述玻璃基材的所述第2吸收层侧的膜整体的厚度之差为10μm以下。
4.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述玻璃基材的厚度为10μm～1000000μm。
5.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，在选自所述第1吸收层的与所述玻璃基材相反侧的面及所述第2吸收层的与所述玻璃基材相反侧的面中的至少一个面上，还具有含有选自紫外线吸收剂及红外线吸收色素中的至少1种的第3吸收层。
6.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
7.根据权利要求6所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长与所述第2吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长之差为
8.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
9.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层及所述第2吸收层的至少一个含有选自吡咯并吡咯化合物、方酸化合物、酞菁化合物及花青化合物中的至少1种红外线吸收色素。
10.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层及所述第2吸收层的至少一个含有选自吡咯并吡咯化合物及方酸化合物中的至少1种红外线吸收色素。
11.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
12.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
13.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述紫外线吸收剂为选自二苯甲酰化合物、三嗪化合物、二苯甲酮化合物及苯并三唑化合物中的至少1种。
14.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述红外线截止滤波器在波长700nm～850nm的范围内的透射率的最大值为20％以下。
15.一种红外线截止滤波器的制造方法，其包括如下工序：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种红外线截止滤波器，其具有：
2.根据权利要求1所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层的厚度与所述第2吸收层的厚度之差为10μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，设置于所述玻璃基材的所述第1吸收层侧的膜整体的厚度与设置于所述玻璃基材的所述第2吸收层侧的膜整体的厚度之差为10μm以下。
4.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述玻璃基材的厚度为10μm～1000000μm。
5.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，在选自所述第1吸收层的与所述玻璃基材相反侧的面及所述第2吸收层的与所述玻璃基材相反侧的面中的至少一个面上，还具有含有选自紫外线吸收剂及红外线吸收色素中的至少1种的第3吸收层。
6.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其中，所述第2吸收层为含有红外线吸收色素及表面活性剂的吸收层，
7.根据权利要求6所述的红外线截止滤波器，其中，所述第1吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长与所述第2吸收层中所含的红外线吸收色素的最大吸收波长之差为50nm以上。
8.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波...
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