杯以及液处理装置制造方法及图纸

本技术涉及杯以及液处理装置。调整作为液处理对象的基板的周围的气流而使处理状况成为期望的处理状况。本技术的杯具备：流路形成构件，其在杯内的比基板靠该杯的周缘侧的位置，从下向上按顺序分别形成第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径；合流排气路径，其以使第1排气路径、飞散物回收路径、第2排气路径分别朝向杯的周缘侧一并地排气的方式与该各路径连接；第1环状部，其包含在流路形成构件，在上方形成飞散物回收路径，在下方形成第1排气路径，并沿着基板的外周形成；以及连通孔，其为了使飞散物回收路径和合流排气路径连通而设于流路形成构件，相比于第1环状部和基板所构成的间隙，该连通孔的压力损失较大。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及杯以及液处理装置。

技术介绍

1、在半导体器件的制造工序中，对半导体晶圆(以下，记载为晶圆)供给各种处理液而进行处理。在专利文献1中，示出一种对容纳于杯内的晶圆供给抗蚀剂而形成抗蚀膜的装置。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2014－151249号公报

技术实现思路

1、技术要解决的问题

2、本技术提供能够调整作为液处理对象的基板的周围的气流而使处理状况成为期望的处理状况的技术。

3、用于解决问题的方案

4、本技术的杯包围载置于载置部并被供给处理液的基板，并且其内部被进行排气，其特征在于，该杯具备：流路形成构件，其在所述杯内的比所述基板靠该杯的周缘侧的位置，从下向上按顺序分别形成作为朝向所述杯的中心轴线侧各自开口的环状路径、并且彼此划分开的第1排气路径、回收来自所述基板的飞散物的飞散物回收路径、第2排气路径；合流排气路径，其以使所述第1排气路径、所述飞散物回收路径、所述第2排气路径分别朝向所述杯的周缘侧一并地排气的方式与该各路径连接，并且设于该杯内的所述基板的下方；第1环状部，其包含在所述流路形成构件，在上方形成所述飞散物回收路径，在下方形成所述第1排气路径，并沿着所述基板的外周形成；以及连通孔，其为了使所述飞散物回收路径和所述合流排气路径连通而设于所述流路形成构件，相比于所述第1环状部和所述基板所构成的间隙，该连通孔的压力损失较大。

5、也可以是，所述流路形成构件具备：上壁，其从所述杯的侧壁在所述第1环状部的上方朝向所述杯的中心轴线延伸，形成该杯的开口部；所述第1环状部；以及第2环状部，其设于所述第1环状部的上方，在与所述第1环状部之间形成所述飞散物回收路径，在与所述上壁之间形成所述第2排气路径。

6、也可以是，所述上壁的内周端位于比所述第2环状部的内周端靠所述杯的周缘侧的位置。

7、也可以是，所述第1环状部随着去向所述杯的中心轴线而朝向上方延伸，对于所述第1环状部相对于水平面的倾斜度，所述杯的中心轴线侧比所述杯的周缘侧小。

8、也可以是，所述第1环状部的内周端部从所述基板的上方随着去向所述杯的中心轴线而朝向下方延伸。

9、也可以是，所述第1排气路径在侧视时下游侧与上游侧相比宽度扩大。

10、本技术的液处理装置的特征在于，该液处理装置具备：载置部，其载置基板；杯，其包围载置于所述载置部的所述基板，并且其内部被进行排气；处理液供给机构，其向载置于所述载置部的所述基板供给处理液而进行处理；流路形成构件，其在所述杯内的比所述基板靠该杯的周缘侧的位置，从下向上按顺序分别形成包围载置于载置部并被供给处理液的基板、并且作为朝向所述杯的中心轴线侧各自开口的环状路径、并且彼此划分开的第1排气路径、回收来自所述基板的飞散物的飞散物回收路径、第2排气路径；合流排气路径，其以使所述第1排气路径、所述飞散物回收路径、所述第2排气路径分别朝向所述杯的周缘侧一并地排气的方式与该各路径连接，并且设于该杯内的所述基板的下方；第1环状部，其包含在所述流路形成构件，在上方形成所述飞散物回收路径，在下方形成所述第1排气路径，并沿着所述基板的外周形成；以及连通孔，其为了使所述飞散物回收路径和所述合流排气路径连通而设于所述流路形成构件，相比于所述第1环状部和所述基板所构成的间隙，该连通孔的压力损失较大。

11、也可以是，所述流路形成构件具备：上壁，其从所述杯的侧壁在所述第1环状部的上方朝向所述杯的中心轴线延伸，形成该杯的开口部；所述第1环状部；以及第2环状部，其设于所述第1环状部的上方，在与所述第1环状部之间形成所述飞散物回收路径，在与所述上壁之间形成所述第2排气路径。

12、也可以是，所述上壁的内周端位于比所述第2环状部的内周端靠所述杯的周缘侧的位置。

13、也可以是，所述第1环状部随着去向所述杯的中心轴线而朝向上方延伸，对于所述第1环状部相对于水平面的倾斜度，所述杯的中心轴线侧比所述杯的周缘侧小。

14、也可以是，所述第1环状部的内周端部从所述基板的上方随着去向所述杯的中心轴线而朝向下方延伸。

15、也可以是，所述第1排气路径在侧视时下游侧与上游侧相比宽度扩大。

16、技术的效果

17、本技术能够调整作为液处理对象的基板的周围的气流而使处理状况成为期望的处理状况。

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【技术保护点】

1.一种杯，其包围载置于载置部并被供给处理液的基板，并且其内部被进行排气，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的杯，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的杯，其特征在于，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的杯，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的杯，其特征在于，

6.根据权利要求1～3中任一项所述的杯，其特征在于，

7.一种液处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的液处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的液处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求7～9中任一项所述的液处理装置，其特征在于，

11.根据权利要求10所述的液处理装置，其特征在于，

12.根据权利要求7～9中任一项所述的液处理装置，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种杯，其包围载置于载置部并被供给处理液的基板，并且其内部被进行排气，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的杯，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的杯，其特征在于，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的杯，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的杯，其特征在于，

6.根据权利要求1～3中任一项所述的杯，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：东龙之介，矢田健二，井村佳弘，川上浩平，前田雄平，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：新型
国别省市：