【技术实现步骤摘要】
本技术涉及口腔修复体结构领域，具体涉及一种应力分布优化的高固位性修复体。
技术介绍
1、口腔修复体与牙体的粘接效果是影响修复预后的重要因素，良好的粘接效果离不开修复体的粘接前表面处理。不同材料，如氧化锆、二硅酸锂基玻璃陶瓷、复合陶瓷等的传统表面处理方式主要包括氧化铝颗粒喷砂、激光蚀刻、强酸酸蚀和锂基玻璃喷涂层等粗化改性技术。但上述方式各有弊端，尤其不适合厚度极薄（小于300µm）、超薄（300-500µm）的修复体：加工厂和临床端难以精确掌控喷砂所需的粒径、压力和时间等参数，不适宜的参数会导致粘接强度下降，并会引入裂纹缺陷，致使材料断裂强度显著下降；激光蚀刻需要特殊器械，成本高昂，使用普及困难，并也可能引入显著裂纹，降低弯曲强度；酸蚀所用的酸性溶液包括氢氟酸、硫酸和甲醇等有毒物质，安全风险极大，操作复杂、难度大；锂基玻璃喷涂层的厚度可达 20-30 µm，会增加内表面厚度，并影响边缘适合性，导致贴面不能完全就位等。如何对修复体，尤其是极薄超薄修复体进行无损、不增厚、不影响修复体边缘质量和适合性的表面粗化处理是极具挑战性的难题。
2、重要的是，由于粘接层不同位置所受应力不同，其破坏风险也不相同，对微固位型的需求也会不同。而目前已有的方案没有分区设计，这会降低材料的整体力学性能和美学性能。
3、有鉴于此，特提出本申请。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种应力分布优化的高固位性修复体，该修复体将内表层区分为高应力区和低应力区，并在高应力区设置包括若干凸起和
2、本技术实施例通过下述技术方案实现：本技术实施例提供一种应力分布优化的高固位性修复体，包括修复本体，所述修复本体包括内表层和外表层，所述内表层用于与牙体粘接，所述内表层包括若干高应力区和低应力区；所述高应力区为所述修复本体在使用状态下内表层正对所述牙体剪切食物一侧；
3、每一个所述高应力区上均设置有强化固位结构，所述强化固位结构包括若干凸起和/或若干凹槽。
4、优选地，当修复本体用于修复前牙时，所述高应力区位于牙体的舌侧近切端和/或牙体的唇侧近切端；
5、所述舌侧近切端的面积为牙体的舌侧面积的三分之一，所述唇侧近切端的面积为牙体的唇侧面积的三分之一。
6、优选地，当修复本体用于修复后牙时，所述高应力区位于牙体的咬合面近颊侧和/或中部和/或近舌侧。
7、优选地，每一个所述凸起和凹槽均为圆柱体和/或圆锥体和/或四边体结构。
8、优选地，所述凹槽的深度为1µm-300µm。
9、优选地，所述凸起的高度为1µm-80µm。
10、优选地，所述凸起和凹槽的截面均为圆形，且截面的直径为1µm-500µm。
11、优选地，当单个所述凹槽为圆柱体时，所述圆柱体的直径为70-90µm，所述圆柱体的深度为30-50µm，相邻两个圆柱体之间的距离为30-50µm。
12、优选地，每一个所述凸起或凹槽的中心轴线与牙体的外表面垂直。
13、优选地，所述修复本体的厚度为1µm -300µm；
14、当所述强化固位结构包括凹槽时，所述修复本体的厚度大于所述凹槽的深度。
15、本技术实施例与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
16、1、本技术实施例提供的一种应力分布优化的高固位性修复体，包括内表层和外表层，其中内表层用于与牙体粘接，外表层与饰面材料结合后暴露于口腔或直接暴露于口腔，内表层上区分为高应力区和低应力区，当修复本体粘接在牙体上时，高应力区设置在牙体剪切食物一侧，即高应力区为对应牙体咬合时，受力较大的区域，在高应力区设置强化固位结构，以增强高应力区与牙体之间的粘接强度，避免粘接层粘接强度与受力大小不匹配引起的粘接失效，应力分布优化的分区强化固位层设计，避免对修复体整体强度的过多削弱，强化固位结构包括若干凸起和/或若干凹槽，具体凸起或凹槽的密度、大小可以根据受力分析来确定，凸起沿内远离修复本体的方向延伸，凹槽沿内表层往外表层延伸。强化固位结构增加修复体与粘接剂的接触面积，有利于修复体与基牙预备体的牢固结合，同时据应力分布设计，保证了修复体在受力时的有效粘接，同时也降低了对修复体整体强度和美学性能的不利影响。
17、2、本技术实施例对于不同的牙体的高应力区位置设置是不同的，以精确适应不同的牙体，精确提高整个修复体的粘接稳定性。
18、总体而言，本技术的实施例提供的一种应力分布优化的高固位性修复体，该修复体将内表层区分为高应力区和低应力区，并在高应力区设置包括若干凸起和/或若干凹槽的强化固位结构，以解决达到适应不同位置所受应力不同，提高粘接稳定性的目的。
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1.一种应力分布优化的高固位性修复体，包括修复本体（7），所述修复本体（7）包括内表层（1）和外表层（2），所述内表层（1）用于与牙体（3）粘接，其特征在于，所述内表层包括若干高应力区（4）和低应力区（5）；所述高应力区（4）为所述修复本体（7）在使用状态下内表层（1）正对所述牙体（3）剪切食物一侧；
2.根据权利要求1所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，当修复本体（7）用于修复前牙时，所述高应力区（4）位于牙体（3）的舌侧近切端和/或牙体（3）的唇侧近切端；
3.根据权利要求1所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，当修复本体（7）用于修复后牙时，所述高应力区（4）位于牙体（3）的咬合面近颊侧和/或中部和/或近舌侧。
4.根据权利要求2或3所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，单个所述凸起和凹槽均为圆柱体和/或圆锥体和/或四边体结构。
5.根据权利要求4所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，所述凹槽的深度为1µm-300µm。
6.根据权利要求5所述的一种应力分布
7.根据权利要求6所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，所述凸起和凹槽的截面均为圆形，且截面的直径为1µm-500µm。
8.根据权利要求7所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，当单个所述凹槽为圆柱体时，所述圆柱体的直径为70-90µm，所述圆柱体的深度为30-50µm，相邻两个圆柱体之间的距离为30-50µm。
9.根据权利要求1所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，每一个所述凸起或凹槽的中心轴线与牙体（3）的外表面垂直。
10.根据权利要求8所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，所述修复本体（7）的厚度为1µm -300µm；
...【技术特征摘要】
1.一种应力分布优化的高固位性修复体，包括修复本体（7），所述修复本体（7）包括内表层（1）和外表层（2），所述内表层（1）用于与牙体（3）粘接，其特征在于，所述内表层包括若干高应力区（4）和低应力区（5）；所述高应力区（4）为所述修复本体（7）在使用状态下内表层（1）正对所述牙体（3）剪切食物一侧；
2.根据权利要求1所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，当修复本体（7）用于修复前牙时，所述高应力区（4）位于牙体（3）的舌侧近切端和/或牙体（3）的唇侧近切端；
3.根据权利要求1所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，当修复本体（7）用于修复后牙时，所述高应力区（4）位于牙体（3）的咬合面近颊侧和/或中部和/或近舌侧。
4.根据权利要求2或3所述的一种应力分布优化的高固位性修复体，其特征在于，单个所述凸起和凹槽均为圆柱体和/或圆锥体和/或四边体结构。
5.根据权利要...
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