【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于有机高分子领域，尤其涉及一种卡非佐米杂质分子印迹材料及其制备方法和卡非佐米的精制方法。
技术介绍
1、卡非佐米，是一种蛋白酶体抑制剂，适用为治疗多发性骨髓瘤患者。在卡非佐米的制备过程中，会不可避免的产生杂质，而为了使产品符合上市要求，就必须进行除杂处理。
2、目前，制药行业中普遍使用的除杂方法就是精制，通常为采用某一单一良性溶剂或者混合良性溶剂将产品溶解，再滴加不良溶剂使产品析出。这种精制方式会消耗大量的溶剂，且操作较为繁琐，产品的损失量较高，增加了产品的除杂成本。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种卡非佐米杂质分子印迹材料及其制备方法和卡非佐米的精制方法，本专利技术提供的技术方案通过利用分子印迹技术，可以有效地除去卡非佐米中的目标杂质，除杂过程的溶剂用量低，操作简单，产品损失小，经济性优。
2、本专利技术提供了一种卡非佐米杂质分子印迹材料的制备方法，包括以下步骤：
3、a)将卡非佐米杂质、低共熔溶剂和常规有机溶剂混合进行反应，得到预聚物；
4、b)在保护气体气氛下，所述预聚物、交联剂和引发剂混合进行聚合反应，得到聚合物；
5、c)对所述聚合物中的卡非佐米杂质进行洗脱，得到卡非佐米杂质分子印迹材料。
6、优选的，步骤a)中，所述卡非佐米杂质为式(i)所示结构的卡非佐米杂质：
7、
8、优选的，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括氢键受体和氢键供体；所述
9、优选的，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖；所述四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖的质量比为(3～6):(20～50):10。
10、优选的，步骤a)中，所述卡非佐米杂质、低共熔溶剂和常规有机溶剂的用量比为300mg:(10～30)ml:(30～70)ml；所述预聚反应的温度为5～45℃；所述预聚反应的时间为5～20h。
11、优选的，步骤b)中，所述交联剂为玉米醇溶蛋白和/或乙二醇二甲基丙烯酸酯；所述引发剂为偶氮二异庚腈、过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化叔戊酸叔丁基酯、异丙苯过氧化氢和叔丁基过氧化氢中的一种或多种。
12、优选的，步骤b)中，所述交联剂与制备所述预聚物的原料卡非佐米杂质的用量比为(10～30)ml:300mg；所述引发剂与制备所述预聚物的原料卡非佐米杂质的质量比为(0.5～2):1；所述聚合反应的温度为40～100℃；所述聚合反应的时间为12～48h。
13、本专利技术提供了一种卡非佐米杂质分子印迹材料，按照上述技术方案所述的制备方法制备得到。
14、本专利技术提供了一种卡非佐米的精制方法，包括以下步骤：
15、在溶剂中利用上述技术方案所述的卡非佐米杂质分子印迹材料对卡非佐米粗品中的杂质进行吸附，固液分离，分别得到固相和液相；
16、所述固相为吸附有杂质的卡非佐米杂质分子印迹材料，所述液相为含有精制后卡非佐米的溶液。
17、优选的，所述精制方法的步骤还包括：对所述吸附有杂质的卡非佐米杂质分子印迹材料中的杂质进行洗脱，得到再生后的卡非佐米杂质分子印迹材料。
18、与现有技术相比，本专利技术提供了一种卡非佐米杂质分子印迹材料及其制备方法和卡非佐米的精制方法。本专利技术提供的卡非佐米杂质分子印迹材料按照以下步骤制备得到：a)将卡非佐米杂质、低共熔溶剂和常规有机溶剂混合进行反应，得到预聚物；b)在保护气体气氛下，所述预聚物、交联剂和引发剂混合进行聚合反应，得到聚合物；c)对所述聚合物中的卡非佐米杂质进行洗脱，得到卡非佐米杂质分子印迹材料。本专利技术提供的卡非佐米杂质分子印迹材料可以作为伪模板，将其在液相中与卡非佐米粗品混合后，可与卡非佐米粗品中特定的杂质相结合，随后再通过过滤的方式将含有杂质的分子印迹材料过滤出，即可获得高纯度的精制产品；此外，该过滤出的含有杂质的分子印迹材料还可以通过洗脱的方式再生，进行循环使用。本专利技术提供的技术方案通过利用分子印迹技术，可以有效地除去卡非佐米中的目标杂质，除杂过程的溶剂用量低，操作简单，产品损失小，经济性优，具有良好的市场前景。
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1.一种卡非佐米杂质分子印迹材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述卡非佐米杂质为式(I)所示结构的卡非佐米杂质：
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括氢键受体和氢键供体；所述氢键受体为四丁基溴化铵、氯化胆碱和甜菜碱中的一种或多种；所述氢键供体为柠檬酸、咖啡酸、甘油、乙二醇、葡萄糖、尿素、酰胺和多元酚中的一种或多种。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖；所述四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖的质量比为(3～6):(20～50):10。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述卡非佐米杂质、低共熔溶剂和常规有机溶剂的用量比为300mg:(10～30)mL:(30～70)mL；所述预聚反应的温度为5～45℃；所述预聚反应的时间为5～20h。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤b)中，所述交联剂为玉米醇溶蛋白和
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤b)中，所述交联剂与制备所述预聚物的原料卡非佐米杂质的用量比为(10～30)mL:300mg；所述引发剂与制备所述预聚物的原料卡非佐米杂质的质量比为(0.5～2):1；所述聚合反应的温度为40～100℃；所述聚合反应的时间为12～48h。
8.一种卡非佐米杂质分子印迹材料，其特征在于，按照权利要求1～7任一项所述的制备方法制备得到。
9.一种卡非佐米的精制方法，其特征在于，包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的精制方法，其特征在于，还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种卡非佐米杂质分子印迹材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述卡非佐米杂质为式(i)所示结构的卡非佐米杂质：
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括氢键受体和氢键供体；所述氢键受体为四丁基溴化铵、氯化胆碱和甜菜碱中的一种或多种；所述氢键供体为柠檬酸、咖啡酸、甘油、乙二醇、葡萄糖、尿素、酰胺和多元酚中的一种或多种。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述低共熔溶剂的成分包括四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖；所述四丁基溴化铵、柠檬酸和葡萄糖的质量比为(3～6):(20～50):10。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)中，所述卡非佐米杂质、低共熔溶剂和常规有机溶剂的用量比为300mg:(10～30)ml:(30～70)ml；所述预聚反应的温度为5～...
【专利技术属性】
技术研发人员：喻威，朱小锋，
申请(专利权)人：重庆迈德凯医药有限公司，
类型：发明
国别省市：
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