【技术实现步骤摘要】
本技术涉及纳米银粉，尤其涉及一种纳米银粉研磨装置。
技术介绍
1、纳米银粉在制作过程中需要对银粉进行研磨，在通过研磨装置对银粉进行研磨时，大多都只是通过研磨盘进行研磨，研磨盘周侧容易停留物料，物料无法被及时充分的研磨，并且研磨盘转动研磨时研磨角度较为单一，不能够快速充分的对物料进行研磨处理。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在研磨盘研磨角度单一、研磨效果欠佳的缺点，而提出的一种纳米银粉研磨装置。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
3、设计一种纳米银粉研磨装置，包括壳体，所述壳体内部固定安装有往复件，所述往复件内侧固定安装有出料斗，所述出料斗上端固定安装有处理筒，所述处理筒上端固定安装有进料管，所述处理筒下端固定安装有过滤板，所述壳体内侧还固定安装有研磨件。
4、优选的，所述研磨件包括研磨盘，所述研磨盘上端固定安装有主动轴，所述主动轴上端固定连接有电机，该电机通过机座与壳体顶部固定相连，所述研磨盘位于所述过滤板上方。
5、优选的，所述过滤板宽度与所述研磨盘直径相配合，所述过滤板长度大于所述研磨盘的直径。
6、优选的，所述处理筒内侧顶部固定安装有扩散板和分散管，所述扩散板位于所述分散管上方，所述扩散板位于所述进料管的下方，所述主动轴贯穿所述分散管设置。
7、优选的，所述扩散板下端向内侧倾斜设置，所述分散管下端向外侧倾斜设置。
8、优选的，所述往复件包括固定块，所述固定
9、优选的，所述电动伸缩杆长度方向与所述支撑柱长度方向相平行设置。
10、本技术提出的一种纳米银粉研磨装置，有益效果在于：该纳米银粉研磨装置在工作过程中，通过扩散板和分散管能够对物料进行分散，能够让物料均匀掉落到过滤板表面上，通过研磨盘能够对物料进行研磨，通过电动伸缩杆能够带动固定块移动，固定块移动能够通过出料斗带动处理筒往复移动，物料在移动过程中能够被抖动震荡，能够更加容易从过滤板内部掉落，处理筒移动会带动过滤板移动，过滤板移动的过程中通过研磨盘进行研磨，能够防止过滤板两侧堆积的物料无法被有效的研磨，而且能够从不同方向对物料进行研磨，能够提高对物料研磨的效果。
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1.一种纳米银粉研磨装置，包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)内部固定安装有往复件，所述往复件内侧固定安装有出料斗(6)，所述出料斗(6)上端固定安装有处理筒(2)，所述处理筒(2)上端固定安装有进料管(10)，所述处理筒(2)下端固定安装有过滤板(5)，所述壳体(1)内侧还固定安装有研磨件；
2.根据权利要求1所述的纳米银粉研磨装置，其特征在于，所述过滤板(5)宽度与所述研磨盘(4)直径相配合，所述过滤板(5)长度大于所述研磨盘(4)的直径。
3.根据权利要求1所述的纳米银粉研磨装置，其特征在于，所述处理筒(2)内侧顶部固定安装有扩散板(11)和分散管(12)，所述扩散板(11)位于所述分散管(12)上方，所述扩散板(11)位于所述进料管(10)的下方，所述主动轴(3)贯穿所述分散管(12)设置。
4.根据权利要求3所述的纳米银粉研磨装置，其特征在于，所述扩散板(11)下端向内侧倾斜设置，所述分散管(12)下端向外侧倾斜设置。
5.根据权利要求1所述的纳米银粉研磨装置，其特征在于，所述电动伸缩杆(8)长度方向与所述支撑柱(9
...【技术特征摘要】
1.一种纳米银粉研磨装置，包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)内部固定安装有往复件，所述往复件内侧固定安装有出料斗(6)，所述出料斗(6)上端固定安装有处理筒(2)，所述处理筒(2)上端固定安装有进料管(10)，所述处理筒(2)下端固定安装有过滤板(5)，所述壳体(1)内侧还固定安装有研磨件；
2.根据权利要求1所述的纳米银粉研磨装置，其特征在于，所述过滤板(5)宽度与所述研磨盘(4)直径相配合，所述过滤板(5)长度大于所述研磨盘(4)的直径。
3.根据权利要求1所述的纳米...
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