【技术实现步骤摘要】
【】本技术属于硅片镀膜供收料设备，特别是涉及一种硅片步进搬运用高精度支撑平台。
技术介绍
0、
技术介绍
1、随着产业升级的不断深入，各行业为了提高生产效率与降低成本，对自动化生产有了迫切需求。光伏产业及其硅片相关产业的工厂对自动化生产或减少人工生产也越来越积极。国内很多光伏企业投入重金，在硅料提取、硅片分选等过程中有越来越多的自动设备得到应用。
2、电池片在进入镀膜设备前，需要将其从花篮中一片一片掏出，并摆放在镀膜载板的镂空槽穴中，进行供料；待镀膜完成后又需要将其从镀膜载板中逐片取出装入花篮中进行收料。电池片在被吸附搬运放置到镀膜载板之前，会将其逐片摊开放置在一个支撑平台上，然后通过吸附搬运机构搬运到镀膜载板中。
3、现有技术中专利申请号为202222047339.x公开了一种电池片输送线，其在输送待上设置若干支撑定位托载件，以实现对电池片的支撑定位；花篮中的电池片被逐片取出后放置在输送线的一端，然后利用输送线将电池片逐片移动至另一端，输送线每移动一个支撑穴位，其输入端就会放入一片电池片，以将电池片逐片输送摊开为一排电池片，实现电池片供料。但该机构中，利用输送线上的定位托载件进行定位，在随输送线移动过程中，存在电池片偏移风险，定位精度不稳定，且当两排电池片同时供料时，相邻两排电池片在镀膜载板中的间距与同一层中相邻两片电池片之间的间距有所不同，若直接采用上述电池片输送线，无法实现间距调节，不利于电池片镀膜前后的供收料。
4、因此，有必要提供一种新的硅片步进搬运用高精度支撑平台来解
技术实现思路
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技术实现思路
1、本技术的主要目的在于提供一种硅片步进搬运用高精度支撑平台，能够对放置在支撑平台上的硅片的位置进行精准定位与归正，保障硅片位置精准，同时能够实现硅片间距调节，以匹配硅片在镀膜载板中与花篮中的不同间距要求。
2、本技术通过如下技术方案实现上述目的：一种硅片步进搬运用高精度支撑平台，包括平行相对设置的至少三个立板、位置对应设置在所述立板上表面的若干长边支撑块与若干端部限位块；多个所述端部限位块和多个所述长边支撑块共同构成一个支撑限位模组，相邻两个所述立板上排列设置有若干个所述支撑限位模组，每个所述支撑限位模组形成一个支撑槽穴；所述三个立板形成两排所述支撑槽穴；所述支撑平台的支撑区段被划分为与花篮中同层相邻两片硅片间距一致的第一支撑区段和与镀膜载板中相邻两排硅片间距一致的第二支撑区段，在所述第一支撑区段靠近所述第二支撑区段的所述支撑槽穴处设置有硅片间距调节机构。
3、进一步的，所述第一支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距大于所述第二支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距。
4、进一步的，所述第一支撑区段中的所述长边支撑块上均设置有台阶限位结构。
5、进一步的，所述硅片间距调节机构设置有两组，且相对设置在所述三个立板的最外侧；所述硅片间距调节机构包括第一气缸、受所述第一气缸驱动垂直于硅片搬运方向移动的支撑板、固定在所述支撑板上且拨动硅片一侧长边的一对第一拨料滚轮以及固定在所述支撑板上且拨动硅片另一侧长边的一对第二拨料滚轮。
6、进一步的，所述第一拨料滚轮和所述第二拨料滚轮分别位于所述支撑槽穴的长边外侧。
7、进一步的，所述第二支撑区段设置有对硅片位置进行归正的归正机构。
8、进一步的，所述归正机构包括转动设置在所述立板上的转轴、等间距设置在所述转轴上的且与所述支撑槽穴位置对应的若干归正模组以及驱动所述转轴转动的第二气缸，所述归正模组包括一端固定在所述转轴上且另一端延伸至所述支撑槽穴旁侧的摆动支架以及转动设置在所述摆动支架自由端的至少一对归正滚轮；每一个所述支撑槽穴对应配置有一对归正滚轮。
9、进一步的，所述三个立板中，位于中间的所述立板上的长边支撑块上设置有台阶限位结构。
10、进一步的，所述归正机构包括气缸以及受所述气缸驱动垂直于硅片支撑平台延伸方向运动的至少一对归正滚轮；所述归正机构配置设置有多组，与每个所述支撑槽穴位置对应。
11、进一步的，所述第二支撑区段的立板上对应于每个所述支撑槽穴处设置有检测所述支撑槽穴中是否有硅片的传感器。
12、与现有技术相比，本技术一种硅片步进搬运用高精度支撑平台的有益效果在于：将支撑平台的支撑区段被划分为与花篮中同层相邻两片硅片间距一致的第一支撑区段和与镀膜载板中相邻两排硅片间距一致的第二支撑区段，在第一支撑区段靠近第二支撑区段的所述支撑槽穴处设置有硅片间距调节机构，在硅片间距调节机构中，设置有两组拨料滚轮，既能满足供料时的硅片间距调节也能满足收料时的硅片间距调节需求；在第二支撑区段设置有归正机构，大大提高了硅片在支撑平台上的位置精度。
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1.一种硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：包括平行相对设置的至少三个立板、位置对应设置在所述立板上表面的若干长边支撑块与若干端部限位块；多个所述端部限位块和多个所述长边支撑块共同构成一个支撑限位模组，相邻两个所述立板上排列设置有若干个所述支撑限位模组，每个所述支撑限位模组形成一个支撑槽穴；所述三个立板形成两排所述支撑槽穴；所述支撑平台的支撑区段被划分为与花篮中同层相邻两片硅片间距一致的第一支撑区段和与镀膜载板中相邻两排硅片间距一致的第二支撑区段，在所述第一支撑区段靠近所述第二支撑区段的所述支撑槽穴处设置有硅片间距调节机构。
2.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第一支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距大于所述第二支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距。
3.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第一支撑区段中的所述长边支撑块上均设置有台阶限位结构。
4.如权利要求1或3所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述硅片间距调节机构设置有两组，且相对设置在所述三个立板的最外侧；所
5.如权利要求4所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第一拨料滚轮和所述第二拨料滚轮分别位于所述支撑槽穴的长边外侧。
6.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第二支撑区段设置有对硅片位置进行归正的归正机构。
7.如权利要求6所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述归正机构包括转动设置在所述立板上的转轴、等间距设置在所述转轴上的且与所述支撑槽穴位置对应的若干归正模组以及驱动所述转轴转动的第二气缸，所述归正模组包括一端固定在所述转轴上且另一端延伸至所述支撑槽穴旁侧的摆动支架以及转动设置在所述摆动支架自由端的至少一对归正滚轮；每一个所述支撑槽穴对应配置有一对归正滚轮。
8.如权利要求7所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述三个立板中，位于中间的所述立板上的长边支撑块上设置有台阶限位结构。
9.如权利要求6所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述归正机构包括气缸以及受所述气缸驱动垂直于硅片支撑平台延伸方向运动的至少一对归正滚轮；所述归正机构配置设置有多组，与每个所述支撑槽穴位置对应。
10.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第二支撑区段的立板上对应于每个所述支撑槽穴处设置有检测所述支撑槽穴中是否有硅片的传感器。
...【技术特征摘要】
1.一种硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：包括平行相对设置的至少三个立板、位置对应设置在所述立板上表面的若干长边支撑块与若干端部限位块；多个所述端部限位块和多个所述长边支撑块共同构成一个支撑限位模组，相邻两个所述立板上排列设置有若干个所述支撑限位模组，每个所述支撑限位模组形成一个支撑槽穴；所述三个立板形成两排所述支撑槽穴；所述支撑平台的支撑区段被划分为与花篮中同层相邻两片硅片间距一致的第一支撑区段和与镀膜载板中相邻两排硅片间距一致的第二支撑区段，在所述第一支撑区段靠近所述第二支撑区段的所述支撑槽穴处设置有硅片间距调节机构。
2.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第一支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距大于所述第二支撑区段中相邻两个所述立板之间的间距。
3.如权利要求1所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述第一支撑区段中的所述长边支撑块上均设置有台阶限位结构。
4.如权利要求1或3所述的硅片步进搬运用高精度支撑平台，其特征在于：所述硅片间距调节机构设置有两组，且相对设置在所述三个立板的最外侧；所述硅片间距调节机构包括第一气缸、受所述第一气缸驱动垂直于硅片搬运方向移动的支撑板、固定在所述支撑板上且拨动硅片一侧长边的一对第一拨料滚轮以及固定在所述支撑板上且拨动硅片另一侧长边的一对第二拨料滚轮。
【专利技术属性】
技术研发人员：郑吉宏，
申请(专利权)人：精点自动化昆山有限公司，
类型：新型
国别省市：
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