【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种沉积设备，并且更具体地，涉及一种可以均匀混合和沉积沉积材料并提供高入射角的沉积设备。
技术介绍
1、发光显示装置用作用于显示图像的装置。发光显示装置可以包括提供显示图像的屏幕的显示面板。发光显示装置可以通过像素的组合来显示图像，并且像素可以通过诸如发光二极管的发光元件来实现。
2、发光二极管可以包括阳极、阴极和在阳极和阴极之间的发光层。发光二极管的发光层可以通过沉积方法被提供。例如，通过在真空室中将其上将被提供发光层的基板设置在提供有图案的开口的掩模上，然后使发光层的材料穿过掩模的开口，与图案匹配的发光层可以被沉积在基板上。
3、发光层的材料可以从沉积源蒸发并从喷嘴排出以穿过掩模的开口。在这种情况下，材料的颗粒可以在以排出角度沿直线移动的同时以恒定的角度沉积在基板上。在颗粒穿过掩模的开口的情况下，由于颗粒的入射角，可能出现颗粒在基板上未均匀沉积(例如，颗粒未沉积为均匀厚度)的部分(即，具有不均匀厚度的部分)。该部分可以被称为阴影。
4、在该
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于增强对本公开的
技术介绍
的理解，并且因此其可能包含不构成在本国为本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、为了改善发光元件的寿命，将沉积材料均匀混合和沉积可能是有利的。另外，为了增加显示装置的分辨率并增加发光元件的效率，通过增加沉积材料的入射角来减小阴影区可能是有利的。实施例将提供一种沉积设备，该沉积设备可以增加沉积在基板上的沉积材料的混合率(mi
2、待通过本公开实现的技术目的不限于本文描述的那些，并且本领域技术人员从本公开的描述将清楚地理解本文中未提到的其它技术目的。
3、一实施例提供一种沉积设备，包括：室；以及沉积源，设置在所述室中并且包括沿第一方向布置的多个喷嘴。所述多个喷嘴包括至少一个第一喷嘴，所述至少一个第一喷嘴包括喷射第一沉积材料的第一喷嘴孔和喷射第二沉积材料的第二喷嘴孔，并且所述沉积源进一步包括至少一个角度控制结构，所述至少一个角度控制结构围绕所述至少一个第一喷嘴。
4、所述第一喷嘴孔和所述第二喷嘴孔可以在所述第一方向上布置在同一条线上。
5、所述至少一个第一喷嘴可以包括一个第一喷嘴孔和设置在所述第一喷嘴孔的两侧的两个第二喷嘴孔，并且所述第一喷嘴孔和所述第二喷嘴孔可以在所述第一方向上设置在同一条线上。
6、所述至少一个第一喷嘴可以具有圆菱形(round rhombic)平面形状。
7、所述第一喷嘴孔可以具有“y”形截面形状，并且所述第二喷嘴孔可以具有“i”形截面形状。
8、所述至少一个角度控制结构的高度可以高于所述至少一个第一喷嘴的高度。
9、由连接所述至少一个第一喷嘴的上端的中心和所述至少一个角度控制结构的上端的线相对于水平面形成的角度可以为约40°或更大。
10、所述至少一个角度控制结构可以是圆筒形的。
11、所述至少一个角度控制结构可以具有轨道形状、椭圆形形状、蛋状形状、水滴状形状或圆菱形形状的平面形状。
12、所述沉积源可以进一步包括容纳所述第一沉积材料的第一容器和容纳所述第二沉积材料的第二容器。所述第一喷嘴孔可以通过第一通道与所述第一容器流体连通地连接，并且所述第二喷嘴孔可以通过第二通道与所述第二容器流体连通地连接。
13、所述多个喷嘴可以进一步包括至少一个第二喷嘴，所述至少一个第二喷嘴包括喷射所述第一沉积材料的第一喷嘴孔，并且不包括喷射所述第二沉积材料的第二喷嘴孔。所述至少一个角度控制结构可以包括多个角度控制结构。所述多个角度控制结构中的部分角度控制结构围绕所述第二喷嘴。
14、所述至少一个第一喷嘴包括多个第一喷嘴，所述至少一个第二喷嘴可以包括多个第二喷嘴，并且所述至少一个角度控制结构的数量对应于所述至少一个第一喷嘴和所述至少一个第二喷嘴的数量。在包括在所述多个喷嘴中的三个相邻喷嘴中，设置在两侧的两个喷嘴可以为所述多个第一喷嘴中的两个第一喷嘴，并且设置在中心的一个喷嘴可以为所述多个第二喷嘴中的一个第二喷嘴。
15、所述沉积设备可以进一步包括设置在所述沉积源上并沿所述第一方向延伸的角度限制板。所述角度限制板可以包括第一角度限制板和第二角度限制板，所述第一角度限制板和所述第二角度限制板在与所述第一方向交叉的第二方向上分别设置在所述多个喷嘴的一侧和另一侧。
16、所述至少一个第一喷嘴可以包括多个第一喷嘴，并且包括在所述多个第一喷嘴中的多个第一喷嘴孔和多个第二喷嘴孔可以在所述第一方向上并排布置。
17、所述第一喷嘴孔的上端和所述第二喷嘴孔的上端之间的距离可以小于或基本上等于所述第二喷嘴孔的宽度。
18、另一实施例提供一种沉积设备，包括：室，在所述室中，基板和掩模被设置为对准；以及沉积源，设置在所述室中并向所述基板提供沉积材料。所述沉积源可以包括多个喷嘴和至少一个角度控制结构，所述多个喷嘴沿第一方向布置并且分别包括彼此相邻的第一喷嘴孔和第二喷嘴孔，所述至少一个角度控制结构单独地围绕所述多个喷嘴。
19、所述第一喷嘴孔和所述第二喷嘴孔可以在所述第一方向上对准。
20、所述至少一个角度控制结构中的每一个可以具有圆筒形三维形状。
21、所述至少一个角度控制结构的中心可以与所述喷嘴的中心或所述第一喷嘴孔的中心相同。
22、所述沉积设备可以包括容纳第一沉积材料的第一容器和容纳第二沉积材料的第二容器。所述第一喷嘴孔可以与所述第一容器流体连通地连接，并且所述第二喷嘴孔可以与所述第二容器流体连通地连接。
23、根据实施例，能够提供一种沉积设备，其可以增加沉积在基板上的沉积材料的混合率和入射角。此外，根据实施例，存在可以在整个本说明书中认识到的有利效果。
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1.一种沉积设备，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
3.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中所述至少一个第一喷嘴具有圆菱形平面形状。
5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述至少一个角度控制结构的高度高于所述至少一个第一喷嘴的高度。
7.根据权利要求6所述的沉积设备，其中由连接所述至少一个第一喷嘴的上端的中心和所述至少一个角度控制结构的上端的线相对于水平面形成的角度为40°或更大。
8.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述至少一个角度控制结构是圆筒形的。
9.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述至少一个角度控制结构具有轨道形状、椭圆形形状、蛋状形状、水滴状形状或圆菱形形状的平面形状。
10.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
11.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
12.根据权利要求11所述的沉积设备，其中
13.根据权利要求1所述的沉积设
14.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
15.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述第一喷嘴孔的上端和所述第二喷嘴孔的上端之间的距离小于或等于所述第二喷嘴孔的宽度。
...【技术特征摘要】
1.一种沉积设备，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
3.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中所述至少一个第一喷嘴具有圆菱形平面形状。
5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述至少一个角度控制结构的高度高于所述至少一个第一喷嘴的高度。
7.根据权利要求6所述的沉积设备，其中由连接所述至少一个第一喷嘴的上端的中心和所述至少一个角度控制结构的上端的线相对于水平面形成的角度为40°或更大。
8.根据权利要求1所述的沉积设备，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：金贤宰，姜贤圭，蔡钟旭，韩种馩，金大容，朴简永，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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